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      一種瞬態(tài)電壓抑制二極管的制作方法

      文檔序號:7079451閱讀:185來源:國知局
      一種瞬態(tài)電壓抑制二極管的制作方法
      【專利摘要】本實用新型涉及一種瞬態(tài)電壓抑制二極管,包括上臺體、與上臺體底面面接觸的中臺體和與中臺體底面面接觸的下臺體,上臺體和與下臺體各自的外側(cè)面均為斜面,此上臺體包括第一輕摻雜N型區(qū)、第一重摻雜N型區(qū),所述中臺體從上至下依次為第一輕摻雜P型區(qū)、重摻雜P型區(qū)和第二輕摻雜P型區(qū),此下臺體包括第二輕摻雜N型區(qū)、第二重摻雜N型區(qū);第一重摻雜N型區(qū)、第一輕摻雜N型區(qū)接觸并位于其正上方,所述第二重摻雜N型區(qū)、第二輕摻雜N型區(qū)接觸并位于其正下方。本實用新型降低漏電流中來自表面的漏電流,大大降低整個器件的反向漏電流,從而進一步降低了功耗,避免了器件的局部溫升,提高了電路穩(wěn)定性和可靠性。
      【專利說明】一種瞬態(tài)電壓抑制二極管

      【技術(shù)領域】
      [0001]本實用新型涉及一種二極管,具體涉及一種瞬態(tài)電壓抑制二極管。

      【背景技術(shù)】
      [0002]瞬態(tài)電壓抑制二極管TVS可確保電路及電子元器件免受靜電、浪涌脈沖損傷,甚至失效。一般TVS并聯(lián)于被保護電路兩端,處于待機狀態(tài)。當電路兩端受到瞬態(tài)脈沖或浪涌電流沖擊,并且脈沖幅度超過TVS的擊穿電壓時,TVS能以極快的速度把兩端的阻抗由高阻抗變?yōu)榈妥杩箤崿F(xiàn)導通,并吸收瞬態(tài)脈沖。在此狀態(tài)下,其兩端的電壓基本不隨電流值變化,從而把它兩端的電壓箝位在一個預定的數(shù)值,該值約為擊穿電壓的1.3?1.6倍,以而保護后面的電路元件不受瞬態(tài)脈沖的影響。
      實用新型內(nèi)容
      [0003]本實用新型目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足而提供一種瞬態(tài)電壓抑制二極管,該瞬態(tài)電壓抑制二極管降低漏電流中來自表面的漏電流,大大降低整個器件的反向漏電流,從而進一步降低了功耗,避免了器件的局部溫升,提高了電路穩(wěn)定性和可靠性。
      [0004]為達到上述目的,本實用新型采用的技術(shù)方案是:一種瞬態(tài)電壓抑制二極管,包括上臺體、與上臺體底面面接觸的中臺體和與中臺體底面面接觸的下臺體,所述上臺體和與下臺體各自的外側(cè)面均為斜面,此上臺體包括第一輕摻雜N型區(qū)、第一重摻雜N型區(qū),所述中臺體從上至下依次為第一輕摻雜P型區(qū)、重摻雜P型區(qū)和第二輕摻雜P型區(qū),此下臺體包括第二輕摻雜N型區(qū)、第二重摻雜N型區(qū);所述第一重摻雜N型區(qū)、第一輕摻雜N型區(qū)接觸并位于其正上方,所述第二重摻雜N型區(qū)、第二輕摻雜N型區(qū)接觸并位于其正下方;
      [0005]所述中臺體中第一輕摻雜P型區(qū)與上臺體的第一輕摻雜N型區(qū)接觸形成第一 PN結(jié)接觸面,所述中臺體中第二輕摻雜P型區(qū)與下臺體的第二輕摻雜N型區(qū)接觸形成第二 PN結(jié)接觸面;
      [0006]一第一鈍化保護層覆蓋于第一重摻雜N型區(qū)上表面的邊緣區(qū)域和第一重摻雜N型區(qū)的側(cè)表面,一第二鈍化保護層覆蓋于第二重摻雜N型區(qū)下表面的邊緣區(qū)域和第二重摻雜N型區(qū)的側(cè)表面,上金屬層覆蓋于第一重摻雜N型區(qū)的中央?yún)^(qū)域,下金屬層覆蓋于第二重摻雜N型區(qū)的中央?yún)^(qū)域;
      [0007]所述第一輕摻雜N型區(qū)與第一重摻雜N型區(qū)接觸的上部區(qū)域且位于第一輕摻雜N型區(qū)邊緣的四周區(qū)域具有第一中摻雜N型區(qū),此第一中摻雜N型區(qū)的上表面與第一重摻雜N型區(qū)的下表面接觸,此第一中摻雜N型區(qū)的外側(cè)面延伸至上臺體外側(cè)面,所述第一輕摻雜P型區(qū)與重摻雜P型區(qū)接觸的下部區(qū)域且位于第一輕摻雜P型區(qū)邊緣的四周區(qū)域具有第一中摻雜P型區(qū),此第一中摻雜P型區(qū)的下表面與重摻雜P型區(qū)的上表面接觸,此第一中摻雜P型區(qū)的外側(cè)面延伸至中臺體外側(cè)面;
      [0008]所述第二輕摻雜N型區(qū)與第二重摻雜N型區(qū)接觸的下部區(qū)域且位于第二輕摻雜N型區(qū)邊緣的四周區(qū)域具有第二中摻雜N型區(qū),此第二中摻雜N型區(qū)的下表面與第二重摻雜N型區(qū)的上表面接觸,此第二中摻雜N型區(qū)的外側(cè)面延伸至下臺體外側(cè)面,所述第二輕摻雜P型區(qū)與重摻雜P型區(qū)接觸的上部區(qū)域且位于第二輕摻雜P型區(qū)邊緣的四周區(qū)域具有第二中摻雜P型區(qū),此第二中摻雜P型區(qū)的上表面與重摻雜P型區(qū)的下表面接觸,此第二中摻雜P型區(qū)的外側(cè)面延伸至中臺體外側(cè)面。
      [0009]上述技術(shù)方案中的有關(guān)內(nèi)容解釋如下:
      [0010]上述方案中,所述上臺體的外側(cè)面和與中臺體中第一輕摻雜P型區(qū)的外側(cè)面的夾角為135° -155°,所述下臺體的外側(cè)面和與中臺體中第二輕摻雜P型區(qū)的外側(cè)面的夾角為 135。 -155。。
      [0011]由于上述技術(shù)方案運用,本實用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點和效果:
      [0012]1.本實用新型瞬態(tài)電壓抑制二極管,其包括上臺體和與上臺體底面面接觸的下臺體,此上臺體包括輕摻雜N型區(qū)、重摻雜N型區(qū),此下臺體包括重摻雜P型區(qū)、輕摻雜P型區(qū),輕摻雜N型區(qū)與重摻雜N型區(qū)接觸的上部區(qū)域且位于第一輕摻雜N型區(qū)邊緣的四周區(qū)域具有中摻雜N型區(qū),此中摻雜N型區(qū)的上表面與重摻雜N型區(qū)的下表面接觸,此中摻雜N型區(qū)的外側(cè)面延伸至上臺體外側(cè)面,所述輕摻雜P型區(qū)與重摻雜P型區(qū)接觸的下部區(qū)域且位于輕摻雜P型區(qū)邊緣的四周區(qū)域具有中摻雜P型區(qū),此中摻雜P型區(qū)的下表面與重摻雜P型區(qū)的上表面接觸,此中摻雜P型區(qū)的外側(cè)面延伸至下臺體外側(cè)面,在低壓(1V以下)TVS在隧道擊穿模式下,降低漏電流中來自表面的漏電流,大大降低整個器件的反向漏電流,從而進一步降低了功耗,避免了器件的局部溫升,提高了電路穩(wěn)定性和可靠性。
      [0013]2.本實用新型瞬態(tài)電壓抑制二極管,其上臺體和與上臺體底面面接觸的下臺體,上臺體和與上臺體各自的外側(cè)面均為斜面,上臺體的外側(cè)面和與下臺體的外側(cè)面的夾角為135°?155°,提高了器件耐高溫性能,保證了在高溫下,能仰制反向電流快速升高。

      【專利附圖】

      【附圖說明】
      [0014]下面結(jié)合附圖對本實用新型技術(shù)方案作進一步說明:
      [0015]附圖1為本實用新型的瞬態(tài)電壓抑制二極管結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0016]以上附圖中:1、上臺體;2、中臺體;3、第一輕摻雜N型區(qū);4、第一重摻雜N型區(qū);5、第二輕摻雜N型區(qū);6、第二重摻雜N型區(qū);7、第一鈍化保護層;8、第二鈍化保護層;9、上金屬層;10、下金屬層;11、第一中摻雜N型區(qū);12、第一中摻雜P型區(qū);13、下臺體;14、第一輕摻雜P型區(qū);15、重摻雜P型區(qū);16、第二輕摻雜P型區(qū);17、第二中摻雜N型區(qū);18、第二中摻雜P型區(qū)。
      [0017]

      【具體實施方式】
      [0018]下面結(jié)合附圖及具體實施例對本實用新型作進一步的詳細說明。
      [0019]如附圖1所示的一種瞬態(tài)電壓抑制二極管,包括上臺體1、與上臺體I底面面接觸的中臺體2和與中臺體2底面面接觸的下臺體13,所述上臺體I和與下臺體13各自的外側(cè)面均為斜面,此上臺體I包括第一輕摻雜N型區(qū)3、第一重摻雜N型區(qū)4,所述中臺體2從上至下依次為第一輕摻雜P型區(qū)14、重摻雜P型區(qū)15和第二輕摻雜P型區(qū)16,此下臺體2包括第二輕摻雜N型區(qū)5、第二重摻雜N型區(qū)6 ;所述第一重摻雜N型區(qū)4、第一輕摻雜N型區(qū)3接觸并位于其正上方,所述第二重摻雜N型區(qū)6、第二輕摻雜N型區(qū)5接觸并位于其正下方;
      [0020]所述中臺體2中第一輕摻雜P型區(qū)14與上臺體I的第一輕摻雜N型區(qū)3接觸形成第一 PN結(jié)接觸面,所述中臺體2中第二輕摻雜P型區(qū)16與下臺體13的第二輕摻雜N型區(qū)5接觸形成第二 PN結(jié)接觸面;
      [0021]一第一鈍化保護層7覆蓋于第一重摻雜N型區(qū)4上表面的邊緣區(qū)域和第一重摻雜N型區(qū)4的側(cè)表面,一第二鈍化保護層8覆蓋于第二重摻雜N型區(qū)6下表面的邊緣區(qū)域和第二重摻雜N型區(qū)6的側(cè)表面,上金屬層9覆蓋于第一重摻雜N型區(qū)4的中央?yún)^(qū)域,下金屬層10覆蓋于第二重摻雜N型區(qū)6的中央?yún)^(qū)域;
      [0022]所述第一輕摻雜N型區(qū)3與第一重摻雜N型區(qū)4接觸的上部區(qū)域且位于第一輕摻雜N型區(qū)3邊緣的四周區(qū)域具有第一中摻雜N型區(qū)11,此第一中摻雜N型區(qū)11的上表面與第一重摻雜N型區(qū)4的下表面接觸,此第一中摻雜N型區(qū)11的外側(cè)面延伸至上臺體I外側(cè)面,所述第一輕摻雜P型區(qū)14與重摻雜P型區(qū)15接觸的下部區(qū)域且位于第一輕摻雜P型區(qū)14邊緣的四周區(qū)域具有第一中摻雜P型區(qū)12,此第一中摻雜P型區(qū)12的下表面與重摻雜P型區(qū)15的上表面接觸,此第一中摻雜P型區(qū)12的外側(cè)面延伸至中臺體2外側(cè)面;
      [0023]所述第二輕摻雜N型區(qū)5與第二重摻雜N型區(qū)6接觸的下部區(qū)域且位于第二輕摻雜N型區(qū)5邊緣的四周區(qū)域具有第二中摻雜N型區(qū)17,此第二中摻雜N型區(qū)17的下表面與第二重摻雜N型區(qū)6的上表面接觸,此第二中摻雜N型區(qū)17的外側(cè)面延伸至下臺體13外側(cè)面,所述第二輕摻雜P型區(qū)16與重摻雜P型區(qū)15接觸的上部區(qū)域且位于第二輕摻雜P型區(qū)16邊緣的四周區(qū)域具有第二中摻雜P型區(qū)18,此第二中摻雜P型區(qū)18的上表面與重摻雜P型區(qū)15的下表面接觸,此第二中摻雜P型區(qū)18的外側(cè)面延伸至中臺體2外側(cè)面。
      [0024]上述上臺體I的外側(cè)面和與中臺體2中第一輕摻雜P型區(qū)14的外側(cè)面的夾角為138°,所述下臺體13的外側(cè)面和與中臺體2中第二輕摻雜P型區(qū)16的外側(cè)面的夾角為140° ;或者,上述上臺體I的外側(cè)面和與中臺體2中第一輕摻雜P型區(qū)14的外側(cè)面的夾角為145°,所述下臺體13的外側(cè)面和與中臺體2中第二輕摻雜P型區(qū)16的外側(cè)面的夾角為135°?150° ;或者,上述上臺體I的外側(cè)面和與中臺體2中第一輕摻雜P型區(qū)14的外側(cè)面的夾角為150°,所述下臺體13的外側(cè)面和與中臺體2中第二輕摻雜P型區(qū)16的外側(cè)面的夾角為138°。
      [0025]采用上述瞬態(tài)電壓抑制二極管時,其在低壓(1V以下)TVS在隧道擊穿模式下,降低漏電流中來自表面的漏電流,大大降低整個器件的反向漏電流,從而進一步降低了功耗,避免了器件的局部溫升,提高了電路穩(wěn)定性和可靠性;再次,其上臺體和與上臺體底面面接觸的下臺體,上臺體和與上臺體各自的外側(cè)面均為斜面,上臺體的外側(cè)面和與下臺體的外側(cè)面的夾角為135° -155°,提高了器件耐高溫性能,保證了在高溫下,能仰制反向電流快速升高。
      [0026]以上僅是本實用新型的具體應用范例,對本實用新型的保護范圍不構(gòu)成任何限制。凡采用等同變換或者等效替換而形成的技術(shù)方案,均落在本實用新型權(quán)利保護范圍之內(nèi)。
      【權(quán)利要求】
      1.一種瞬態(tài)電壓抑制二極管,其特征在于:包括上臺體(I)、與上臺體(I)底面面接觸的中臺體(2)和與中臺體(2)底面面接觸的下臺體(13),所述上臺體(I)和與下臺體(13)各自的外側(cè)面均為斜面,此上臺體(I)包括第一輕摻雜N型區(qū)(3)、第一重摻雜N型區(qū)(4),所述中臺體(2)從上至下依次為第一輕摻雜P型區(qū)(14)、重摻雜P型區(qū)(15)和第二輕摻雜P型區(qū)(16),此下臺體(13)包括第二輕摻雜N型區(qū)(5)、第二重摻雜N型區(qū)(6);所述第一重摻雜N型區(qū)(4)、第一輕摻雜N型區(qū)(3)接觸并位于其正上方,所述第二重摻雜N型區(qū)(6)、第二輕摻雜N型區(qū)(5)接觸并位于其正下方; 所述中臺體(2)中第一輕摻雜P型區(qū)(14)與上臺體(I)的第一輕摻雜N型區(qū)(3)接觸形成第一 PN結(jié)接觸面,所述中臺體(2)中第二輕摻雜P型區(qū)(16)與下臺體(13)的第二輕摻雜N型區(qū)(5 )接觸形成第二 PN結(jié)接觸面; 一第一鈍化保護層(7)覆蓋于第一重摻雜N型區(qū)(4)上表面的邊緣區(qū)域和第一重摻雜N型區(qū)(4)的側(cè)表面,一第二鈍化保護層(8)覆蓋于第二重摻雜N型區(qū)(6)下表面的邊緣區(qū)域和第二重摻雜N型區(qū)(6)的側(cè)表面,上金屬層(9)覆蓋于第一重摻雜N型區(qū)(4)的中央?yún)^(qū)域,下金屬層(10)覆蓋于第二重摻雜N型區(qū)(6)的中央?yún)^(qū)域; 所述第一輕摻雜N型區(qū)(3)與第一重摻雜N型區(qū)(4)接觸的上部區(qū)域且位于第一輕摻雜N型區(qū)(3)邊緣的四周區(qū)域具有第一中摻雜N型區(qū)(11),此第一中摻雜N型區(qū)(11)的上表面與第一重摻雜N型區(qū)(4)的下表面接觸,此第一中摻雜N型區(qū)(11)的外側(cè)面延伸至上臺體(I)外側(cè)面,所述第一輕摻雜P型區(qū)(14)與重摻雜P型區(qū)(15)接觸的下部區(qū)域且位于第一輕摻雜P型區(qū)(14)邊緣的四周區(qū)域具有第一中摻雜P型區(qū)(12),此第一中摻雜P型區(qū)(12)的下表面與重摻雜P型區(qū)(15)的上表面接觸,此第一中摻雜P型區(qū)(12)的外側(cè)面延伸至中臺體(2)外側(cè)面; 所述第二輕摻雜N型區(qū)(5)與第二重摻雜N型區(qū)(6)接觸的下部區(qū)域且位于第二輕摻雜N型區(qū)(5)邊緣的四周區(qū)域具有第二中摻雜N型區(qū)(17),此第二中摻雜N型區(qū)(17)的下表面與第二重摻雜N型區(qū)(6)的上表面接觸,此第二中摻雜N型區(qū)(17)的外側(cè)面延伸至下臺體(13)外側(cè)面,所述第二輕摻雜P型區(qū)(16)與重摻雜P型區(qū)(15)接觸的上部區(qū)域且位于第二輕摻雜P型區(qū)(16)邊緣的四周區(qū)域具有第二中摻雜P型區(qū)(18),此第二中摻雜P型區(qū)(18)的上表面與重摻雜P型區(qū)(15)的下表面接觸,此第二中摻雜P型區(qū)(18)的外側(cè)面延伸至中臺體(2)外側(cè)面。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的瞬態(tài)電壓抑制二極管,其特征在于:所述上臺體(I)的外側(cè)面和與中臺體(2)中第一輕摻雜P型區(qū)(14)的外側(cè)面的夾角為135° -155°,所述下臺體(13)的外側(cè)面和與中臺體(2)中第二輕摻雜P型區(qū)(16)的外側(cè)面的夾角為135°-155°。
      【文檔編號】H01L29/06GK203941908SQ201420303510
      【公開日】2014年11月12日 申請日期:2014年6月9日 優(yōu)先權(quán)日:2014年6月9日
      【發(fā)明者】陳偉元 申請人:蘇州市職業(yè)大學
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