本發(fā)明涉及oled顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種oled顯示屏及其光學(xué)補(bǔ)償層的制作方法。

背景技術(shù)：

oled是下一代新型顯示技術(shù)和照明技術(shù)，應(yīng)用前景巨大。

在amoled顯示屏的像素結(jié)構(gòu)中，每個(gè)子像素都依次包括陽(yáng)極層、空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層、電子注入層以及陰極層。為簡(jiǎn)單起見(jiàn)，oled器件結(jié)構(gòu)如圖3給出。根據(jù)頂發(fā)光或底發(fā)光的要求，可以使用電子傳輸層(etl)或空穴傳輸層(htl)或空穴注入層(hil)作為光學(xué)補(bǔ)償層，用來(lái)調(diào)節(jié)微腔效應(yīng)、提高器件效率。定義紅色子像素的光學(xué)補(bǔ)償層的厚度為rh、綠色子像素的光學(xué)補(bǔ)償層的厚度gh、藍(lán)色子像素的光學(xué)補(bǔ)償層的厚度為bh。

一般地，要求rh>gh>bh。

傳統(tǒng)的已經(jīng)量產(chǎn)的中小尺寸amoled采用“紅色子像素、綠色子像素和藍(lán)色子像素依次相鄰”(rgbsidebyside)的蒸鍍技術(shù)。以下結(jié)構(gòu)以頂發(fā)光的amoled顯示屏為例進(jìn)行說(shuō)明，假設(shè)采用空穴傳輸層(htl)作為光學(xué)補(bǔ)償層。參考圖1，為了給這種像素排列結(jié)構(gòu)蒸鍍光學(xué)補(bǔ)償層，通常是采用如下的方法。

首先，采用共通金屬掩膜板(commonmetalmask，cmm)蒸鍍厚度為a+c的第一層光學(xué)補(bǔ)償層材料。該第一層光學(xué)補(bǔ)償層材料同時(shí)覆蓋紅色子像素、綠色子像素和藍(lán)色子像素。

接著，采用精細(xì)金屬掩膜板(finemetalmask，fmm)蒸鍍厚度為b的第二層光學(xué)補(bǔ)償層材料。該第二層光學(xué)補(bǔ)償層材料僅覆蓋紅色子像素。

最后，采用精細(xì)金屬掩膜板(finemetalmask，fmm)蒸鍍厚度為b-a的第三層光學(xué)補(bǔ)償層材料。該第三層光學(xué)補(bǔ)償層材料僅覆蓋綠色子像素。

上述方法形成的光學(xué)補(bǔ)償層中：紅色子像素的發(fā)光材料層上覆蓋的厚度為a+b+c、綠色子像素的發(fā)光材料層上覆蓋的厚度為b+c、藍(lán)色子像素的發(fā)光材料 層上覆蓋的厚度為a+c。這里要求b>a。這樣就滿足了上述rh>gh>bh的要求。

可以看到，在上述方法的后兩個(gè)步驟中，每一次蒸鍍都是采用精細(xì)金屬掩膜板對(duì)一個(gè)子像素進(jìn)行蒸鍍。那么精細(xì)金屬掩膜板的開(kāi)孔大小就是與子像素的蒸鍍面積大小相同。當(dāng)需要為更高分辨率的顯示屏制作光學(xué)補(bǔ)償層時(shí)，精細(xì)金屬掩膜板的開(kāi)孔就更小。

然而，隨著精細(xì)金屬掩膜板開(kāi)孔的變小，其對(duì)有機(jī)材料浪費(fèi)率越來(lái)越大，不利于amoled顯示屏成本的降低。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

基于此，有必要提供一種oled顯示屏的光學(xué)補(bǔ)償層的制作方法，其能夠提高材料利用率。

此外，也提供一種oled顯示屏的制作方法。

一種oled顯示屏的光學(xué)補(bǔ)償層的制作方法，用于以下像素結(jié)構(gòu)：每個(gè)像素單元中的綠色子像素和藍(lán)色子像素均與紅色子像素相鄰；所述方法包括如下步驟：

采用共通金屬掩膜板蒸鍍厚度為c的第一層光學(xué)補(bǔ)償層材料；所述第一層光學(xué)補(bǔ)償層材料同時(shí)覆蓋紅色子像素、綠色子像素和藍(lán)色子像素的發(fā)光區(qū)域；

采用精細(xì)金屬掩膜板蒸鍍厚度為b的第二層光學(xué)補(bǔ)償層材料；所述第二層光學(xué)補(bǔ)償層材料同時(shí)覆蓋紅色子像素和綠色子像素的發(fā)光區(qū)域；

采用精細(xì)金屬掩膜板蒸鍍厚度為a的第三層光學(xué)補(bǔ)償層材料；所述第三層光學(xué)補(bǔ)償層材料同時(shí)覆蓋紅色子像素和藍(lán)色子像素的發(fā)光區(qū)域；

其中，蒸鍍第一層光學(xué)補(bǔ)償層材料、第二層光學(xué)補(bǔ)償層材料以及第三層光學(xué)補(bǔ)償層材料的順序?yàn)槿我忭樞颉?/p>

在其中一個(gè)實(shí)施例中，每個(gè)像素單元中的綠色子像素、紅色子像素、藍(lán)色子像素均為條形，且依次并列排列。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，每個(gè)像素單元中的綠色子像素、紅色子像素、藍(lán)色子像素均為塊狀，且綠色子像素和紅色子像素在第一方向上并列排列、紅色子像素和藍(lán)色子像素在第二方向上并列排列。所述第一方向和第二方向垂直。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，當(dāng)蒸鍍第二層光學(xué)補(bǔ)償層材料先于蒸鍍第三層光學(xué)補(bǔ)償層材料時(shí)，b>a；當(dāng)蒸鍍第三層光學(xué)補(bǔ)償層材料先于蒸鍍第二層光學(xué)補(bǔ)償層材料時(shí)，a>b。

一種oled顯示屏的光學(xué)補(bǔ)償層的制作方法，用于以下像素結(jié)構(gòu)：每個(gè)像素單元中的綠色子像素、紅色子像素、藍(lán)色子像素均為條形，且依次并列排列；相鄰像素單元的同色子像素相鄰；所述方法包括如下步驟：

采用共通金屬掩膜板蒸鍍厚度為c的第一層光學(xué)補(bǔ)償層材料；所述第一層光學(xué)補(bǔ)償層材料同時(shí)覆蓋每個(gè)像素單元中的紅色子像素、綠色子像素和藍(lán)色子像素的發(fā)光區(qū)域；

采用精細(xì)金屬掩膜板蒸鍍厚度為b的第二層光學(xué)補(bǔ)償層材料；所述第二層光學(xué)補(bǔ)償層材料同時(shí)覆蓋相鄰兩個(gè)像素單元中的紅色子像素和綠色子像素的發(fā)光區(qū)域；

采用精細(xì)金屬掩膜板蒸鍍厚度為a的第三層光學(xué)補(bǔ)償層材料；所述第三層光學(xué)補(bǔ)償層材料同時(shí)覆蓋相鄰兩個(gè)像素單元中的紅色子像素和藍(lán)色子像素的發(fā)光區(qū)域。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，當(dāng)蒸鍍第二層光學(xué)補(bǔ)償層材料先于蒸鍍第三層光學(xué)補(bǔ)償層材料時(shí)，b>a；當(dāng)蒸鍍第三層光學(xué)補(bǔ)償層材料先于蒸鍍第二層光學(xué)補(bǔ)償層材料時(shí)，a>b。

一種oled顯示屏的制作方法，包括形成光學(xué)補(bǔ)償層的步驟，所述形成光學(xué)補(bǔ)償層的步驟采用上述的光學(xué)補(bǔ)償層的制作方法。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述顯示屏為頂發(fā)光結(jié)構(gòu)或底發(fā)光結(jié)構(gòu)。在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述光學(xué)補(bǔ)償層為空穴傳輸層、電子傳輸層或空穴注入層。

上述oled顯示屏及其光學(xué)補(bǔ)償層的制作方法，采用精細(xì)金屬掩膜板來(lái)蒸鍍光學(xué)補(bǔ)償層時(shí)，由于掩膜板的開(kāi)孔是每個(gè)子像素寬度的兩倍以上。在制作相同分辨率的oled顯示屏?xí)r，當(dāng)涉及光學(xué)補(bǔ)償層的制作，其比傳統(tǒng)方法的材料利用率更高，更節(jié)省材料。

附圖說(shuō)明

圖1為傳統(tǒng)的光學(xué)補(bǔ)償層的層狀結(jié)構(gòu)圖；

圖2為oled顯示器中單個(gè)子像素的剖面圖；

圖3為發(fā)光層的層狀結(jié)構(gòu)圖；

圖4a為一種子像素排布結(jié)構(gòu)；

圖4b為另一種子像素排布結(jié)構(gòu)；

圖5a為第一實(shí)施例的方法中形成第一層光學(xué)補(bǔ)償層材料后的層狀圖；

圖5b為第一實(shí)施例的方法中形成第二層光學(xué)補(bǔ)償層材料后的層狀圖；

圖5c為第一實(shí)施例的方法中形成第三層光學(xué)補(bǔ)償層材料后的層狀圖；

圖5d為采用圖4b的像素排布結(jié)構(gòu)形成第二層、第三層光學(xué)補(bǔ)償層材料的位置和方向示意圖；

圖6為第二實(shí)施例的方法所采用的像素結(jié)構(gòu)；

圖7a為第二實(shí)施例的方法中形成第一層光學(xué)補(bǔ)償層材料后的層狀圖；

圖7b為第二實(shí)施例的方法中形成第二層光學(xué)補(bǔ)償層材料后的層狀圖；

圖7c為第二實(shí)施例的方法中形成第三層光學(xué)補(bǔ)償層材料后的層狀圖。

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖和實(shí)施例進(jìn)行進(jìn)一步說(shuō)明。

首先結(jié)合圖2簡(jiǎn)單說(shuō)明oled顯示器的顯示原理。

圖2示出了oled顯示器10的縱向剖面圖。該oled顯示器10包括基板11、驅(qū)動(dòng)層20、第一絕緣層30、第一電極40、發(fā)光層50、第二電極60以及第二絕緣層70。驅(qū)動(dòng)層20包括柵電極21、柵極絕緣層22、半導(dǎo)體層23、層間絕緣層24和引線導(dǎo)電層25。該oled顯示器10是頂發(fā)光顯示裝置，即光從第二電極60處射出。第一電極40通過(guò)設(shè)于第一絕緣層30上的通孔與引線導(dǎo)電層25電連接。第二絕緣層70上與發(fā)光層50對(duì)應(yīng)的位置設(shè)有開(kāi)口，發(fā)光層50發(fā)射的光線可透過(guò)第二電極60射出。

當(dāng)?shù)谝浑姌O40被驅(qū)動(dòng)層20驅(qū)動(dòng)獲得正電壓時(shí)，發(fā)光層50在第一電極40和第二電極60之間的部分會(huì)因?yàn)榈谝浑姌O40和第二電極60之間的電壓而激發(fā)產(chǎn)生可見(jiàn)光，根據(jù)電壓的大小，光有不同的亮度。根據(jù)發(fā)光材料的不同，光會(huì) 有不同的顏色。

參考圖3，發(fā)光層50包括與第一電極40相鄰的空穴傳輸層41、與第二電極60相鄰的電子傳輸層61以及空穴傳輸層41和電子傳輸層61之間的發(fā)光材料層51。在頂發(fā)光結(jié)構(gòu)中，以空穴傳輸層41作為光學(xué)補(bǔ)償層，以提高出光效率。

圖2中的結(jié)構(gòu)發(fā)出一個(gè)子像素的光。一個(gè)紅色子像素、一個(gè)綠色子像素和一個(gè)藍(lán)色子像素組成一個(gè)像素單元。

以下提供第一實(shí)施例的光補(bǔ)償層的制作方法。該方法用于以下像素結(jié)構(gòu)：每個(gè)像素單元中的綠色子像素和藍(lán)色子像素均與紅色子像素相鄰。

該像素結(jié)構(gòu)既可以是如圖4a所示的，每個(gè)像素單元中的綠色子像素、紅色子像素、藍(lán)色子像素均為條形，且依次并列排列。

該像素結(jié)構(gòu)也可以是如圖4b所示的，每個(gè)像素單元中的綠色子像素、紅色子像素、藍(lán)色子像素均為塊狀，且綠色子像素和紅色子像素在第一方向上并列排列、紅色子像素和藍(lán)色子像素在第二方向上并列排列。所述第一方向和第二方向可以是垂直。

第一實(shí)施例的方法對(duì)每個(gè)像素的處理都完全相同，因此以下過(guò)程著眼于單個(gè)像素的處理過(guò)程，全部的像素在同一階段所進(jìn)行的處理都相同。并且下述過(guò)程是以圖4a所示的像素結(jié)構(gòu)為例進(jìn)行說(shuō)明。

步驟s110：采用共通金屬掩膜板蒸鍍厚度為c的第一層光學(xué)補(bǔ)償層材料；所述第一層光學(xué)補(bǔ)償層材料同時(shí)覆蓋紅色子像素、綠色子像素和藍(lán)色子像素的發(fā)光區(qū)域。共通金屬掩膜板是開(kāi)孔較大的掩膜板，一般一個(gè)開(kāi)孔可以覆蓋3個(gè)子像素的發(fā)光區(qū)域。若設(shè)每個(gè)子像素的寬度為w，則共通金屬掩膜板是開(kāi)孔寬度為3w。經(jīng)過(guò)本步驟處理后，光學(xué)補(bǔ)償層的結(jié)構(gòu)如圖5a所示。

步驟s120：采用精細(xì)金屬掩膜板蒸鍍厚度為b的第二層光學(xué)補(bǔ)償層材料；所述第二層光學(xué)補(bǔ)償層材料同時(shí)覆蓋紅色子像素和綠色子像素的發(fā)光區(qū)域。由于第二層光學(xué)補(bǔ)償層材料同時(shí)覆蓋兩個(gè)子像素。則采用的精細(xì)金屬掩膜板的開(kāi)孔寬度為2w。經(jīng)過(guò)本步驟處理后，光學(xué)補(bǔ)償層的結(jié)構(gòu)如圖5b所示。

步驟s130：采用精細(xì)金屬掩膜板蒸鍍厚度為a的第三層光學(xué)補(bǔ)償層材料； 所述第三層光學(xué)補(bǔ)償層材料同時(shí)覆蓋紅色子像素和藍(lán)色子像素的發(fā)光區(qū)域。由于第三層光學(xué)補(bǔ)償層材料同時(shí)覆蓋兩個(gè)子像素。則采用的精細(xì)金屬掩膜板的開(kāi)孔寬度為2w。經(jīng)過(guò)本步驟處理后，光學(xué)補(bǔ)償層的結(jié)構(gòu)如圖5c所示。

經(jīng)過(guò)上述處理后，紅色子像素的發(fā)光區(qū)域上的光學(xué)補(bǔ)償厚度為a+b+c，綠色子像素的發(fā)光區(qū)域上的光學(xué)補(bǔ)償厚度為b+c，藍(lán)色子像素的發(fā)光區(qū)域上的光學(xué)補(bǔ)償厚度為a+c。由于綠色子像素的光學(xué)補(bǔ)償厚度需要大于藍(lán)色子像素的光學(xué)補(bǔ)償厚度，所以要求b＞a。

上述第一實(shí)施例的方法中，由于在步驟s120和步驟s130中，采用精細(xì)金屬掩膜板來(lái)蒸鍍光學(xué)補(bǔ)償層時(shí)，掩膜板的開(kāi)孔均為2w，是每個(gè)子像素寬度w的兩倍。在制作相同分辨率的oled顯示屏?xí)r，當(dāng)涉及光學(xué)補(bǔ)償層的制作，其比傳統(tǒng)方法的材料利用率更高，更節(jié)省材料。

若采用圖4b的像素結(jié)構(gòu)，制作光學(xué)補(bǔ)償層的過(guò)程與采用圖4a的像素結(jié)構(gòu)類似。只是在執(zhí)行步驟s120和步驟s130時(shí)，蒸鍍兩個(gè)相鄰子像素的發(fā)光區(qū)域的光學(xué)補(bǔ)償層材料的方向和位置有所差異。參考圖5d。

上述過(guò)程中，步驟s120和步驟s130的順序也可以更換。當(dāng)蒸鍍第二層光學(xué)補(bǔ)償層材料先于蒸鍍第三層光學(xué)補(bǔ)償層材料時(shí)，b＞a；當(dāng)蒸鍍第三層光學(xué)補(bǔ)償層材料先于蒸鍍第二層光學(xué)補(bǔ)償層材料時(shí)，a＞b。

以下提供第二實(shí)施例的光補(bǔ)償層的制作方法。該方法用于以下像素結(jié)構(gòu)：每個(gè)像素單元中的綠色子像素g、紅色子像素r、藍(lán)色子像素b均為條形，且依次并列排列；相鄰像素單元的同色子像素相鄰。如圖6所示，三個(gè)相鄰的像素單元p1、p2、p3的綠色子像素g、紅色子像素r、藍(lán)色子像素b均為條形，且依次并列排列。且像素單元p1和像素單元p2的藍(lán)色子像素b相鄰，像素單元p2和像素單元p3的綠色子像素相鄰。

第二實(shí)施例的方法對(duì)每個(gè)像素的處理并不完全相同，每次處理中可能會(huì)同時(shí)涉及兩個(gè)相鄰像素。

步驟s210：采用共通金屬掩膜板蒸鍍厚度為c的第一層光學(xué)補(bǔ)償層材料；所述第一層光學(xué)補(bǔ)償層材料同時(shí)覆蓋每個(gè)像素單元中的紅色子像素、綠色子像 素和藍(lán)色子像素的發(fā)光區(qū)域。共通金屬掩膜板是開(kāi)孔較大的掩膜板，一個(gè)開(kāi)孔可以覆蓋3個(gè)子像素的發(fā)光區(qū)域。若設(shè)每個(gè)子像素的寬度為w，則共通金屬掩膜板是開(kāi)孔寬度為3w。經(jīng)過(guò)本步驟處理后，光學(xué)補(bǔ)償層的結(jié)構(gòu)如圖7a所示。

步驟s220：采用精細(xì)金屬掩膜板蒸鍍厚度為b的第二層光學(xué)補(bǔ)償層材料；所述第二層光學(xué)補(bǔ)償層材料同時(shí)覆蓋相鄰兩個(gè)像素單元中的紅色子像素和綠色子像素的發(fā)光區(qū)域。由于第二層光學(xué)補(bǔ)償層材料同時(shí)覆蓋相鄰兩個(gè)像素單元的四個(gè)子像素。則采用的精細(xì)金屬掩膜板的開(kāi)孔寬度為4w。經(jīng)過(guò)本步驟處理后，光學(xué)補(bǔ)償層的結(jié)構(gòu)如圖7b所示。

步驟s230：采用精細(xì)金屬掩膜板蒸鍍厚度為a的第三層光學(xué)補(bǔ)償層材料；所述第三層光學(xué)補(bǔ)償層材料同時(shí)覆蓋相鄰兩個(gè)像素單元中的紅色子像素和藍(lán)色子像素的發(fā)光區(qū)域。由于第三層光學(xué)補(bǔ)償層材料同時(shí)覆蓋相鄰兩個(gè)像素單元的四個(gè)子像素。則采用的精細(xì)金屬掩膜板的開(kāi)孔寬度為4w。經(jīng)過(guò)本步驟處理后，光學(xué)補(bǔ)償層的結(jié)構(gòu)如圖7c所示。

上述第二實(shí)施例的方法中，由于在步驟s220和步驟s230中，采用精細(xì)金屬掩膜板來(lái)蒸鍍光學(xué)補(bǔ)償層時(shí)，掩膜板的開(kāi)孔均為4w，是每個(gè)子像素寬度w的四倍。在制作相同分辨率的oled顯示屏?xí)r，當(dāng)涉及光學(xué)補(bǔ)償層的制作，其比傳統(tǒng)方法的材料利用率更高，更節(jié)省材料。

上述過(guò)程中，步驟s220和步驟s230的順序也可以更換。當(dāng)蒸鍍第二層光學(xué)補(bǔ)償層材料先于蒸鍍第三層光學(xué)補(bǔ)償層材料時(shí)，b＞a；當(dāng)蒸鍍第三層光學(xué)補(bǔ)償層材料先于蒸鍍第二層光學(xué)補(bǔ)償層材料時(shí)，a＞b。

上述實(shí)施例的方法，可以應(yīng)用在具有相應(yīng)的像素結(jié)構(gòu)的oled顯示屏的制作過(guò)程中。結(jié)合圖2，該oled顯示屏的制作過(guò)程包括驅(qū)動(dòng)層20的制作、第一電極40的形成、發(fā)光層50的制作以及第二電極60的形成等。其中驅(qū)動(dòng)層20的制作、第一電極40的形成以及第二電極60的形成與傳統(tǒng)方法相同，在此不贅述。

在發(fā)光層50的制作過(guò)程中，就包括了空穴傳輸層41、發(fā)光材料層51以及電子傳輸層61的形成。其中，當(dāng)以空穴傳輸層41或電子傳輸層61作為光學(xué)補(bǔ) 償層時(shí)，就要采用上述實(shí)施例的光學(xué)補(bǔ)償層的制作方法。

該oled顯示屏可以為頂發(fā)光結(jié)構(gòu)，則所述光學(xué)補(bǔ)償層可以為空穴傳輸層41。

該oled顯示屏也可以為底發(fā)光結(jié)構(gòu)，則所述光學(xué)補(bǔ)償層可以為電子傳輸層61。

以上所述實(shí)施例的各技術(shù)特征可以進(jìn)行任意的組合，為使描述簡(jiǎn)潔，未對(duì)上述實(shí)施例中的各個(gè)技術(shù)特征所有可能的組合都進(jìn)行描述，然而，只要這些技術(shù)特征的組合不存在矛盾，都應(yīng)當(dāng)認(rèn)為是本說(shuō)明書(shū)記載的范圍。

以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本發(fā)明的幾種實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對(duì)發(fā)明專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。因此，本發(fā)明專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。