擴(kuò)散石英舟的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)一種擴(kuò)散石英舟，該擴(kuò)散石英舟包括頂板和底板、至少一根后固定桿以及多根側(cè)支撐桿；頂板和底板上下間隔相對(duì)設(shè)置；至少一根后固定桿豎直支撐于頂板后側(cè)與底板后側(cè)之間，后固定桿朝向頂板的一側(cè)面上開(kāi)設(shè)有多個(gè)上下間隔分布的第一卡槽；多根側(cè)支撐桿包括至少一根左側(cè)支撐桿及至少一根右側(cè)支撐桿，左側(cè)支撐桿豎直支撐于頂板左側(cè)與底板左側(cè)之間；右側(cè)支撐桿豎直支撐于頂板右側(cè)與底板右側(cè)之間，側(cè)支撐桿朝向頂板的一側(cè)面上開(kāi)設(shè)有多個(gè)上下間隔分布的第二卡槽；其中，多個(gè)第一卡槽與多個(gè)第二卡槽共同界定出上下間隔分布的多個(gè)放置空間，以分別放置多塊硅片。本實(shí)用新型對(duì)擴(kuò)散方阻的均勻性有較大的改善，同時(shí)提高了電池片的轉(zhuǎn)換效率。
【專(zhuān)利說(shuō)明】
擴(kuò)散石英舟
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及太陽(yáng)能電池制造技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種擴(kuò)散石英舟。【背景技術(shù)】
[0002]晶體硅太陽(yáng)能電池生產(chǎn)的主要流程包括:制絨、擴(kuò)散、濕法刻蝕、沉積減反射膜、絲網(wǎng)印刷、燒結(jié)。其中，擴(kuò)散是在硅片(一般摻硼)表面形成P-N結(jié)，是太陽(yáng)能電池片實(shí)現(xiàn)光電轉(zhuǎn)換的核心工序，而P-N結(jié)的結(jié)深、表面慘雜濃度以及P-N結(jié)的均勻性，對(duì)電池的轉(zhuǎn)換效率有著非常重要的影響，尤其是P-N結(jié)的均勻性，它會(huì)影響燒結(jié)工序，進(jìn)而影響電池的串聯(lián)電阻Rs。
[0003]目前，晶體硅太陽(yáng)電池?cái)U(kuò)散工藝中大都采用三氯氧磷(P0C13)液態(tài)源擴(kuò)散法，其原理是:三氯氧磷被氮?dú)鈹y帶進(jìn)入石英爐管內(nèi)，在高溫條件下分解為五氯化磷和五氧化二磷， 五氯化磷與氧氣反應(yīng)生成五氧化二磷和氯氣，五氧化二磷又與硅片反應(yīng)生成磷單質(zhì)和二氧化硅，高溫下磷原子從硅片表面向內(nèi)部擴(kuò)散，并形成N型區(qū)域，和基片一起構(gòu)成了 P-N結(jié)。利用此方法得到的P-N結(jié)結(jié)構(gòu)均勻，擴(kuò)散層表面良好，并且生產(chǎn)效率高，有利于制作大面積太陽(yáng)能電池，是目前應(yīng)用最多的擴(kuò)散方法。
[0004]如圖1所示，上述擴(kuò)散方法通常是在石英舟100上間隔均勻的插上清洗后的硅片 200進(jìn)行擴(kuò)散，而該方法的弊端在于，一方面，由于擴(kuò)散爐管的爐口熱量損失較大，使得爐口的擴(kuò)散方阻偏大，而爐內(nèi)由于熱量損失較小，使?fàn)t內(nèi)的擴(kuò)散方阻偏小，這樣就造成了擴(kuò)散方阻管內(nèi)不均勻，雖然通過(guò)修改爐內(nèi)和爐口的溫度設(shè)定可以緩解，但是由于氣流的不均勻，使得載氣攜帶的磷源也不均勻，容易造成硅片200擴(kuò)散方阻不均勻度增加。這樣在石英舟100 兩端就會(huì)產(chǎn)生許多方阻超標(biāo)的硅片200,不利于工藝的穩(wěn)定。
[0005]其次，目前擴(kuò)散工藝中使用的石英舟100,硅片200均沿爐管方向垂直放置，工藝氣體從爐尾進(jìn)入爐內(nèi)后，氣流垂直于硅片200表面，工藝氣體沿著硅片200周邊流向爐口，由于硅片200在石英爐管中距離很小(約2.5mm)，工藝氣體很難到達(dá)硅片200與硅片200之間的位置，因此硅片200的中心部位難以獲得與四周等量的磷源，從而導(dǎo)致硅片200中心部位雜質(zhì)濃度低、方阻偏高、電池片方阻均勻性差，從而影響電池轉(zhuǎn)換效率。
[0006]在生產(chǎn)過(guò)程中，石英舟100是一個(gè)整體，質(zhì)量較大，容易因使用不當(dāng)發(fā)生碎裂，而且一旦發(fā)生損壞，就需要整體更換，也不利于使用成本的降低。【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0007]本實(shí)用新型的一個(gè)主要目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的至少一種缺陷，提供一種保證擴(kuò)散方阻均勻性且產(chǎn)能較高的擴(kuò)散石英舟。
[0008]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案:
[0009]根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)方面，提供一種擴(kuò)散石英舟，用于放置多塊硅片，其中，所述擴(kuò)散石英舟包括頂板和底板、至少一根后固定桿以及多根側(cè)支撐桿;所述頂板和底板上下間隔相對(duì)設(shè)置;所述至少一根后固定桿豎直支撐于所述頂板后側(cè)與所述底板后側(cè)之間， 所述后固定桿朝向所述頂板的一側(cè)面上開(kāi)設(shè)有多個(gè)上下間隔分布的第一卡槽;所述多根側(cè)支撐桿包括至少一根左側(cè)支撐桿及至少一根右側(cè)支撐桿，所述左側(cè)支撐桿豎直支撐于所述頂板左側(cè)與所述底板左側(cè)之間;所述右側(cè)支撐桿豎直支撐于所述頂板右側(cè)與所述底板右側(cè)之間，所述側(cè)支撐桿朝向所述頂板的一側(cè)面上開(kāi)設(shè)有多個(gè)上下間隔分布的第二卡槽;其中， 所述多個(gè)第一卡槽與所述多個(gè)第二卡槽共同界定出上下間隔分布的多個(gè)放置空間，以分別放置所述多塊硅片。
[0010]根據(jù)本實(shí)用新型的其中一個(gè)實(shí)施方式，所述擴(kuò)散石英舟包括兩根所述后固定桿， 所述兩根后固定桿間隔平行設(shè)置，且支撐于所述頂板后側(cè)的中部與所述底板后側(cè)的中部之間。
[0011]根據(jù)本實(shí)用新型的其中一個(gè)實(shí)施方式，所述擴(kuò)散石英舟包括相對(duì)設(shè)置的一根所述左側(cè)支撐桿及一根所述右側(cè)支撐桿，所述左側(cè)支撐桿支撐于所述頂板左側(cè)的中部與所述底板左側(cè)的中部之間，所述右側(cè)支撐桿支撐于所述頂板右側(cè)的中部與所述底板右側(cè)的中部之間。
[0012]根據(jù)本實(shí)用新型的其中一個(gè)實(shí)施方式，每個(gè)所述放置空間由每根所述后固定桿上的其中一個(gè)所述第一卡槽與每根所述側(cè)支撐桿上的其中一個(gè)所述第二卡槽共同界定。
[0013]根據(jù)本實(shí)用新型的其中一個(gè)實(shí)施方式，在共同界定一個(gè)所述放置空間的各所述第一卡槽和各所述第二卡槽中，所述第一卡槽的高度相對(duì)于所述第二卡槽的高度具有一向下的偏移值，而使所述硅片放置于所述放置空間時(shí)，所述硅片具有一個(gè)朝向所述后固定桿向下的傾斜角度。
[0014]根據(jù)本實(shí)用新型的其中一個(gè)實(shí)施方式，所述偏移值為0.5mm?2.5_。
[0015]根據(jù)本實(shí)用新型的其中一個(gè)實(shí)施方式，每根所述后固定桿上的所述第一卡槽的數(shù)目與每根所述側(cè)支撐桿上的所述第二卡槽的數(shù)目相等。
[0016]根據(jù)本實(shí)用新型的其中一個(gè)實(shí)施方式，每根所述后固定桿上的相鄰兩個(gè)所述第一卡槽的間距與每根所述側(cè)支撐桿上的相鄰兩個(gè)所述第二卡槽的間距相等。
[0017]根據(jù)本實(shí)用新型的其中一個(gè)實(shí)施方式，所述頂板上設(shè)有舟叉插孔，以與一舟叉配合。
[0018]根據(jù)本實(shí)用新型的其中一個(gè)實(shí)施方式，所述底板底部設(shè)有底座，以與一石英舟底托配合。
[0019]由上述技術(shù)方案可知，本實(shí)用新型提出的擴(kuò)散石英舟的優(yōu)點(diǎn)和積極效果在于:
[0020]本實(shí)用新型提出的擴(kuò)散石英舟，通過(guò)各第一卡槽與各第二卡槽界定出多個(gè)放置空間，能夠使硅片沿與工藝氣流平行或傾斜的方向放置在上述放置空間，進(jìn)而使擴(kuò)散石英舟上的硅片和工藝氣流平行或傾斜，使氣流能夠更加均勻地在硅片之間流動(dòng)，避免現(xiàn)有石英舟的硅片放置方向與工藝氣流方向垂直而導(dǎo)致擴(kuò)散方阻較大的問(wèn)題，對(duì)擴(kuò)散方阻的均勻性有較大的改善，同時(shí)提高了電池片的轉(zhuǎn)換效率，降低了低效片的比例，節(jié)約了企業(yè)的成本?！靖綀D說(shuō)明】

[0021]通過(guò)結(jié)合附圖考慮以下對(duì)本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式的詳細(xì)說(shuō)明，本實(shí)用新型的各種目標(biāo)、特征和優(yōu)點(diǎn)將變得更加顯而易見(jiàn)。附圖僅為本實(shí)用新型的示范性圖解，并非一定是按比例繪制。在附圖中，同樣的附圖標(biāo)記始終表示相同或類(lèi)似的部件。其中:
[0022]圖1是一種現(xiàn)有石英舟中，硅片擺放方式的示意圖；
[0023]圖2是根據(jù)一示例性實(shí)施方式示出的一種擴(kuò)散石英舟的主視圖；
[0024]圖3是圖2不出的一種擴(kuò)散石英舟的側(cè)視圖；
[0025]圖4是圖2不出的一種擴(kuò)散石英舟的俯視圖；[0〇26]圖5是根據(jù)一不例性實(shí)施方式不出的一種擴(kuò)散石英舟的局部放大圖，以表不一偏移值。[〇〇27] 其中，附圖標(biāo)記說(shuō)明如下:[〇〇28] 100.石英舟；200.硅片；300.擴(kuò)散石英舟；310.頂板；311.舟叉插孔；320.底板； 321.底座;330.后固定桿;3301.第一卡槽;341.左側(cè)支撐桿;342.右側(cè)支撐桿;3401.第二卡槽;D.偏移值。【具體實(shí)施方式】
[0029]體現(xiàn)本實(shí)用新型特征與優(yōu)點(diǎn)的典型實(shí)施例將在以下的說(shuō)明中詳細(xì)敘述。應(yīng)理解的是本實(shí)用新型能夠在不同的實(shí)施例上具有各種的變化，其皆不脫離本實(shí)用新型的范圍，且其中的說(shuō)明及附圖在本質(zhì)上是作說(shuō)明之用，而非用以限制本實(shí)用新型。
[0030]在對(duì)本實(shí)用新型的不同示例性實(shí)施方式的下面描述中，參照附圖進(jìn)行，所述附圖形成本實(shí)用新型的一部分，并且其中以示例方式顯示了可實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型的多個(gè)方面的不同示例性結(jié)構(gòu)、系統(tǒng)和步驟。應(yīng)理解，可以使用部件、結(jié)構(gòu)、示例性裝置、系統(tǒng)和步驟的其他特定方案，并且可在不偏離本實(shí)用新型范圍的情況下進(jìn)行結(jié)構(gòu)和功能性修改。而且，雖然本說(shuō)明書(shū)中可使用術(shù)語(yǔ)“后側(cè)”、“左側(cè)”、“右側(cè)”、“中部”等來(lái)描述本實(shí)用新型的不同示例性特征和元件，但是這些術(shù)語(yǔ)用于本文中僅出于方便，例如根據(jù)附圖中所述的示例的方向。本說(shuō)明書(shū)中的任何內(nèi)容都不應(yīng)理解為需要結(jié)構(gòu)的特定三維方向才落入本實(shí)用新型的范圍內(nèi)。
[0031]參閱圖2,圖2中代表性地示出了能夠體現(xiàn)本實(shí)用新型的原理的擴(kuò)散石英舟300的主視圖。在該示例性實(shí)施方式中，本實(shí)用新型提出的擴(kuò)散石英舟300是以適用于晶體硅太陽(yáng)電池?cái)U(kuò)散工藝的擴(kuò)散石英舟300為例進(jìn)行說(shuō)明的。本領(lǐng)域技術(shù)人員容易理解的是，為將本實(shí)用新型提出的擴(kuò)散石英舟300應(yīng)用于其他擴(kuò)散系統(tǒng)或擴(kuò)散工藝中，而對(duì)下述的【具體實(shí)施方式】做出多種改型、添加、替代、刪除或其他變化，這些變化仍在本實(shí)用新型提出的擴(kuò)散石英舟300的原理的范圍內(nèi)。
[0032]配合參閱圖3至圖5,圖3為圖2中示出的擴(kuò)散石英舟300的側(cè)視圖；圖4為圖2中示出的擴(kuò)散石英舟300的俯視圖；圖5中代表性地示出了能夠體現(xiàn)本實(shí)用新型的原理的擴(kuò)散石英舟300的局部放大圖，具體表示一偏移值D。以下結(jié)合圖2至圖5,對(duì)本實(shí)用新型提出的擴(kuò)散石英舟300的各主要結(jié)構(gòu)進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。[〇〇33]如圖2至圖4所示，在本實(shí)施方式中，本實(shí)用新型提出的擴(kuò)散石英舟300主要能夠用于放置多塊硅片。該擴(kuò)散石英舟300主要包括頂板310和底板320、兩根后固定桿330以及兩根側(cè)支撐桿。
[0034]如圖2至圖4所示，在本實(shí)施方式中，頂板310和底板320上下間隔相對(duì)設(shè)置，且頂板 310和底板320均呈尺寸相同的矩形板狀結(jié)構(gòu)，而使頂板310和底板320均具有前、后側(cè)邊與左、右側(cè)邊。另外，在本實(shí)施方式中，頂板310上設(shè)有舟叉插孔311，以與一舟叉配合，底板320 底部設(shè)有底座321，以與一石英舟底托配合。[〇〇35]本領(lǐng)域技術(shù)人員容易理解的是，為上下間隔相對(duì)地設(shè)置上述頂板310和底板320，使頂板310和底板320之間能夠便于設(shè)置各后固定桿330和側(cè)支撐桿，而對(duì)上述的頂板310和底板320的形狀或結(jié)構(gòu)做出多種改型、添加、替代、刪除或其他變化，這些變化仍在本實(shí)用新型提出的擴(kuò)散石英舟300的原理的范圍內(nèi)。例如，在本實(shí)用新型的其他示例性實(shí)施方式中， 頂板310與底板320可以為形狀不同或尺寸不同的板狀結(jié)構(gòu)。又如，頂板310可以為多邊形、 圓形或其他不規(guī)則形狀，而不具有明顯的前、后側(cè)邊和左、右側(cè)邊，然而通過(guò)后固定桿330和側(cè)支撐桿的設(shè)置，亦可界定出頂板310和底板320的前、后側(cè)和左、右側(cè)。另外，為了便于描述，以下將頂板310和底板320的前、后側(cè)邊稱(chēng)為前、后側(cè)，并將頂板310和底板320的左、右側(cè)邊稱(chēng)為左、右側(cè)，且無(wú)論“側(cè)”或“側(cè)邊”的描述，均僅意在說(shuō)明頂板310與底板320的相對(duì)方向，即不排除靠近該“側(cè)”或“側(cè)邊”的區(qū)域，而并非僅限于頂板310和底板320的側(cè)邊。[〇〇36]如圖2至圖4所示，在本實(shí)施方式中，兩根后固定桿330豎直支撐于頂板310后側(cè)與底板320后側(cè)之間，且兩根后固定桿330在水平方向上間隔一定距離，而使兩根后固定桿330 共同支撐于頂板310后側(cè)的中部與底板320后側(cè)的中部之間。其中，每根后固定桿330朝向頂板310的一側(cè)面上開(kāi)設(shè)有多個(gè)上下間隔分布的第一卡槽3301，不同的后固定桿330上的多個(gè)第一卡槽3301相互對(duì)應(yīng)。[〇〇37]本領(lǐng)域技術(shù)人員容易理解的是，為設(shè)置后固定桿330,而使硅片放置于擴(kuò)散石英舟 300時(shí)，硅片對(duì)應(yīng)于頂板310或底板320后側(cè)的部分能夠得到第一卡槽3301的定位和承載，而對(duì)上述后固定桿330的數(shù)量或設(shè)置位置做出多種改型、添加、替代、刪除或其他變化，這些變化仍在本實(shí)用新型提出的擴(kuò)散石英舟300的原理的范圍內(nèi)。例如，在本實(shí)用新型的其他示例性實(shí)施方式中，后固定桿330的數(shù)量不限于兩根，亦可為一根或多根。進(jìn)一步地，當(dāng)后固定桿 330為一根時(shí)，可優(yōu)選為設(shè)置在頂板310后側(cè)的中部與底板320后側(cè)的中部之間，當(dāng)后固定桿 330為多根時(shí)，可采用均勻間隔分布的方式設(shè)置于頂板310后側(cè)與底板320后側(cè)之間，且可優(yōu)選為相對(duì)于頂板310后側(cè)的中部與底板320后側(cè)的中部連線(xiàn)對(duì)稱(chēng)分布。又如，在本實(shí)用新型的另一實(shí)施方式中，第一卡槽3301可由固定于后固定桿330上的承載板代替，提供承載硅片后側(cè)的功能。
[0038]如圖2至圖4所示，在本實(shí)施方式中兩根側(cè)支撐桿包括一根左側(cè)支撐桿341及一根右側(cè)支撐桿342。左側(cè)支撐桿341豎直支撐于頂板310左側(cè)與底板320左側(cè)之間，右側(cè)支撐桿 342豎直支撐于頂板310右側(cè)與底板320右側(cè)之間，且左側(cè)支撐桿341與右側(cè)支撐桿342優(yōu)選地可以頂板310的中心線(xiàn)對(duì)稱(chēng)設(shè)置。其中，兩根側(cè)支撐桿朝向頂板310的側(cè)面上均開(kāi)設(shè)有多個(gè)上下間隔分布的第二卡槽3401，左側(cè)支撐桿341與右側(cè)支撐桿342上的第二卡槽3401相互對(duì)應(yīng)。其中，多個(gè)第一卡槽3301與多個(gè)第二卡槽3401共同界定出上下間隔分布的多個(gè)放置空間，以分別放置多塊硅片。具體而言，在本實(shí)施方式中，每根后固定桿330上的第一卡槽 3301的數(shù)目與每根側(cè)支撐桿上的第二卡槽3401的數(shù)目相等，每根后固定桿330上的相鄰兩個(gè)第一卡槽3301的間距與每根側(cè)支撐桿上的相鄰兩個(gè)第二卡槽3401的間距相等，且每個(gè)放置空間由每根后固定桿330上的其中一個(gè)第一卡槽3301與每根側(cè)支撐桿上的其中一個(gè)第二卡槽3401共同界定而成，即兩個(gè)第一卡槽3301與兩個(gè)第二卡槽3401大致位于同一水平面上而成為一組，共同承載一塊硅片的左側(cè)、右側(cè)和后側(cè)。并且，另外，由于頂板310前側(cè)與底板 320前側(cè)之間未設(shè)置固定桿或支撐桿的結(jié)構(gòu)，而使硅片可以由前側(cè)進(jìn)入擴(kuò)散石英舟300內(nèi)。 [〇〇39]本領(lǐng)域技術(shù)人員容易理解的是，為設(shè)置側(cè)支撐桿，而使硅片放置于擴(kuò)散石英舟300 時(shí)，硅片對(duì)應(yīng)于頂板310或底板320左、右側(cè)的部分能夠得到第二卡槽3401的定位和承載，而對(duì)上述側(cè)支撐桿的數(shù)量或設(shè)置位置做出多種改型、添加、替代、刪除或其他變化，這些變化仍在本實(shí)用新型提出的擴(kuò)散石英舟300的原理的范圍內(nèi)。例如，在本實(shí)施方式中，以左側(cè)支撐桿341為例，其優(yōu)選地設(shè)置在頂板310左側(cè)與底板320左側(cè)之間并靠近于頂板310前側(cè)與底板320前側(cè)，而優(yōu)化硅片承載于放置空間時(shí)的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性，右側(cè)支撐桿342設(shè)置位置與左側(cè)支撐桿341對(duì)應(yīng)，不再贅述。在本實(shí)用新型的另一實(shí)施方式中，左側(cè)支撐桿341亦可設(shè)置在頂板310左側(cè)的中部與底板320左側(cè)的中部之間，右側(cè)支撐桿342亦然，并不以此為限。又如，在本實(shí)用新型的其他示例性實(shí)施方式中，側(cè)支撐桿的數(shù)量不限于兩根，亦可為兩根以上，且左側(cè)支撐桿341與右側(cè)支撐桿342的數(shù)量不限于相等，當(dāng)左側(cè)支撐桿341或右側(cè)支撐桿342為多根時(shí)，各左側(cè)支撐桿341或各右側(cè)支撐桿342在水平方向上間隔分布。
[0040]另外，在本實(shí)施方式中，考慮到現(xiàn)有硅片的尺寸及其對(duì)擴(kuò)散石英舟300的結(jié)構(gòu)要求，可將第—^槽3301與第二卡槽3401的寬度優(yōu)選為1.3mm?2mm。再者，基于上述尺寸或結(jié)構(gòu)要求，可將每根后固定桿330上的第一卡槽3301的數(shù)量?jī)?yōu)選地設(shè)計(jì)為30?60個(gè)，并將每根側(cè)支撐桿上的第二卡槽3401的數(shù)量?jī)?yōu)選地設(shè)計(jì)為30?60個(gè)，S卩，在本實(shí)施方式中，該擴(kuò)散石英舟300優(yōu)選地具有30?60個(gè)放置空間，而能夠放置30?60個(gè)硅片，并不以此為限。
[0041]在此應(yīng)注意，附圖中示出而且在本說(shuō)明書(shū)中描述的擴(kuò)散石英舟300僅僅是能夠采用本實(shí)用新型原理的許多種擴(kuò)散石英舟300中的一個(gè)示例。應(yīng)當(dāng)清楚地理解，本實(shí)用新型的原理絕非僅限于附圖中示出或本說(shuō)明書(shū)中描述的擴(kuò)散石英舟300的任何細(xì)節(jié)或擴(kuò)散石英舟 300的任何部件。
[0042]舉例來(lái)說(shuō)，如圖5所示，在本實(shí)施方式中，在共同界定一個(gè)放置空間的各第一^^槽 3301和各第二卡槽3401中，第一卡槽3301的高度(水平中心線(xiàn)的高度)相對(duì)于第二卡槽3401 的高度(水平中心線(xiàn)的高度)具有一向下的偏移值D，而使硅片放置于放置空間時(shí)，硅片具有一個(gè)朝向后固定桿330向下的傾斜角度，用于防止放置在擴(kuò)散石英舟300上的硅片在擴(kuò)散過(guò)程中滑落。進(jìn)一步地，上述偏移值D可以?xún)?yōu)選為0.5mm?2.5mm。[〇〇43]然而，并非在本實(shí)用新型的每一個(gè)實(shí)施方式中，都必須將同組的第一卡槽3301與第二卡槽3401的高度設(shè)計(jì)為具有上述偏移值D。例如，在本實(shí)用新型的其他示例性實(shí)施方式中，共同界定一個(gè)放置空間的各第一卡槽3301與各第二卡槽3401的高度可以相等，即硅片放置于放置空間時(shí)保持水平的狀態(tài)。又如，在本實(shí)用新型的另一實(shí)施方式中，上述第一卡槽 3301的高度與第二卡槽3401的高度之間的偏移值D亦可不限于上述取值范圍，并不以此為限。[〇〇44]綜上所述，本實(shí)用新型提出的擴(kuò)散石英舟300,通過(guò)各第一卡槽3301與各第二卡槽 3401界定出多個(gè)放置空間，能夠使硅片能夠沿與工藝氣流平行的方向放置在上述放置空間，進(jìn)而使擴(kuò)散石英舟300上的硅片和工藝氣流平行，使氣流能夠均勻地在硅片之間流動(dòng)， 對(duì)擴(kuò)散方阻的均勻性有較大的改善，同時(shí)提高了電池片的轉(zhuǎn)換效率，降低了低效片的比例， 節(jié)約了企業(yè)的成本。
[0045]以上詳細(xì)地描述和/或圖示了本實(shí)用新型提出的擴(kuò)散石英舟的示例性實(shí)施方式。 但本實(shí)用新型的實(shí)施方式不限于這里所描述的特定實(shí)施方式，相反，每個(gè)實(shí)施方式的組成部分和/或步驟可與這里所描述的其它組成部分和/或步驟獨(dú)立和分開(kāi)使用。一個(gè)實(shí)施方式的每個(gè)組成部分和/或每個(gè)步驟也可與其它實(shí)施方式的其它組成部分和/或步驟結(jié)合使用。 在介紹這里所描述和/或圖示的要素/組成部分/等時(shí)，用語(yǔ)“一個(gè)”、“一”和“上述”等用以表示存在一個(gè)或多個(gè)要素/組成部分/等。術(shù)語(yǔ)“包含”、“包括”和“具有”用以表示開(kāi)放式的包括在內(nèi)的意思并且是指除了列出的要素/組成部分/等之外還可存在另外的要素/組成部分/等。此外，權(quán)利要求書(shū)及說(shuō)明書(shū)中的術(shù)語(yǔ)“第一”和“第二”等僅作為標(biāo)記使用，不是對(duì)其對(duì)象的數(shù)字限制。
[0046]雖然已根據(jù)不同的特定實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型提出的擴(kuò)散石英舟進(jìn)行了描述，但本領(lǐng)域技術(shù)人員將會(huì)認(rèn)識(shí)到可在權(quán)利要求的精神和范圍內(nèi)對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施進(jìn)行改動(dòng)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種擴(kuò)散石英舟(300)，用于放置多塊硅片，其特征在于，所述擴(kuò)散石英舟(300)包 括:頂板(310)和底板(320)，上下間隔相對(duì)設(shè)置；至少一根后固定桿(330)，豎直支撐于所述頂板(310)后側(cè)與所述底板(320)后側(cè)之間， 所述后固定桿(330)朝向所述頂板(310)的一側(cè)面上開(kāi)設(shè)有多個(gè)上下間隔分布的第一卡槽 (3301);以及多根側(cè)支撐桿，包括至少一根左側(cè)支撐桿(341)及至少一根右側(cè)支撐桿(342)，所述左 側(cè)支撐桿(341)豎直支撐于所述頂板(310)左側(cè)與所述底板(320)左側(cè)之間；所述右側(cè)支撐 桿(342)豎直支撐于所述頂板(310)右側(cè)與所述底板(320)右側(cè)之間，所述側(cè)支撐桿朝向所 述頂板(310)的一側(cè)面上開(kāi)設(shè)有多個(gè)上下間隔分布的第二卡槽(3401);其中，所述多個(gè)第一卡槽(3301)與所述多個(gè)第二卡槽(3401)共同界定出上下間隔分布 的多個(gè)放置空間，以分別放置所述多塊硅片。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的擴(kuò)散石英舟(300)，其特征在于，所述擴(kuò)散石英舟(300)包括兩 根所述后固定桿(330)，所述兩根后固定桿(330)間隔平行設(shè)置，且支撐于所述頂板(310)后 側(cè)的中部與所述底板(320)后側(cè)的中部之間。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的擴(kuò)散石英舟(300)，其特征在于，所述擴(kuò)散石英舟(300)包括相 對(duì)設(shè)置的一根所述左側(cè)支撐桿(341)及一根所述右側(cè)支撐桿(342)，所述左側(cè)支撐桿(341) 支撐于所述頂板(310)左側(cè)的中部與所述底板(320)左側(cè)的中部之間，所述右側(cè)支撐桿 (342)支撐于所述頂板(310)右側(cè)的中部與所述底板(320)右側(cè)的中部之間。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的擴(kuò)散石英舟(300)，其特征在于，每個(gè)所述放置空間由每根所 述后固定桿(330)上的其中一個(gè)所述第一卡槽(3301)與每根所述側(cè)支撐桿上的其中一個(gè)所 述第二卡槽(3401)共同界定。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的擴(kuò)散石英舟(300)，其特征在于，在共同界定一個(gè)所述放置空 間的各所述第一卡槽(3301)和各所述第二卡槽(3401)中，所述第一卡槽(3301)的高度相對(duì) 于所述第二卡槽(3401)的高度具有一向下的偏移值，而使所述硅片放置于所述放置空間 時(shí)，所述硅片具有一個(gè)朝向所述后固定桿(330)向下的傾斜角度。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的擴(kuò)散石英舟(300)，其特征在于，所述偏移值為0.5mm?2.5mm。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的擴(kuò)散石英舟(300)，其特征在于，每根所述后固定桿(330)上的 所述第一卡槽(3301)的數(shù)目與每根所述側(cè)支撐桿上的所述第二卡槽(3401)的數(shù)目相等。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的擴(kuò)散石英舟(300)，其特征在于，每根所述后固定桿(330)上的 相鄰兩個(gè)所述第一卡槽(3301)的間距與每根所述側(cè)支撐桿上的相鄰兩個(gè)所述第二卡槽 (3401)的間距相等。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的擴(kuò)散石英舟(300)，其特征在于，所述頂板(310)上設(shè)有舟叉插 孔(311)，以與一舟叉配合。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的擴(kuò)散石英舟(300)，其特征在于，所述底板(320)底部設(shè)有底 座(321 )，以與一石英舟底托配合。
【文檔編號(hào)】H01L21/673GK205692810SQ201620628027
【公開(kāi)日】2016年11月16日
【申請(qǐng)日】2016年6月21日 公開(kāi)號(hào)201620628027.X, CN 201620628027, CN 205692810 U, CN 205692810U, CN-U-205692810, CN201620628027, CN201620628027.X, CN205692810 U, CN205692810U
【發(fā)明人】和江變, 鄒凱, 周?chē)?guó)華, 馬承鴻, 李健
【申請(qǐng)人】?jī)?nèi)蒙古日月太陽(yáng)能科技有限責(zé)任公司