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      一種肖特基pn結(jié)集成器件的制作方法

      文檔序號:12566057閱讀:243來源:國知局

      本實用新型涉及肖特基二極管。



      背景技術(shù):

      現(xiàn)有的肖特基二極管的通態(tài)壓降Vf若降低,那么反向耐壓BV也會降低;因此若反向耐壓達(dá)到100V以上,通態(tài)壓降就會大到無法使用。因此在高壓領(lǐng)域中,它的應(yīng)用受到了限制。



      技術(shù)實現(xiàn)要素:

      本實用新型的目的是克服現(xiàn)有產(chǎn)品中不足,提供一種肖特基pn結(jié)集成器件。

      為了達(dá)到上述目的,本實用新型是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的:

      本實用新型的一種肖特基pn結(jié)集成器件,包括P基區(qū)、肖特基勢壘金屬層,所述肖特基勢壘金屬層位于在P基區(qū)的頂端,所述P基區(qū)上設(shè)有N基區(qū)、P+陽極發(fā)射區(qū),所述N基區(qū)位于P基區(qū)的上側(cè),所述P+陽極發(fā)射區(qū)位于P基區(qū)的下側(cè),所述N基區(qū)上設(shè)有兩個P+保護(hù)環(huán)、N+發(fā)射區(qū),所述兩個P+保護(hù)環(huán)、N+發(fā)射區(qū)都位于N基區(qū)的上方,所述兩個P+保護(hù)環(huán)都與肖特基勢壘金屬層相連接,所述肖特基勢壘金屬層為正極A,所述N+發(fā)射區(qū)為負(fù)極,所述P+陽極發(fā)射區(qū)為正極B。

      本實用新型所述兩個P+保護(hù)環(huán)為第一P+保護(hù)環(huán)和第二P+保護(hù)環(huán),所述第二P+保護(hù)環(huán)位于第一P+保護(hù)環(huán)與N+發(fā)射區(qū)之間。

      本實用新型所述兩個P+保護(hù)環(huán)、N+發(fā)射區(qū)都位于N基區(qū)的頂端。

      本實用新型所述第一P+保護(hù)環(huán)緊貼N基區(qū)的左側(cè),所述N+發(fā)射區(qū)位于N基區(qū)的右側(cè)。

      本實用新型所述肖特基勢壘金屬層位于兩個P+保護(hù)環(huán)的上方。

      本實用新型的有益效果如下:本實用新型提高了肖特基二極管的反向耐壓值,并降低通態(tài)壓降,增大了通態(tài)電流。因此,本實用新型保持了超高速開通、低通態(tài)壓降的優(yōu)良特性,并滿足電力電子對肖特基二極管高反向耐壓值的要求。

      附圖說明

      圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

      具體實施方式

      下面結(jié)合說明書附圖對本實用新型的技術(shù)方案作進(jìn)一步說明:

      如圖1所示,一種肖特基pn結(jié)集成器件,包括P基區(qū)6、肖特基勢壘金屬層2,所述肖特基勢壘金屬層2位于在P基區(qū)6的頂端,所述P基區(qū)6上設(shè)有N基區(qū)5、P+陽極發(fā)射區(qū)7,所述N基區(qū)5位于P基區(qū)6的上側(cè),所述P+陽極發(fā)射區(qū)7位于P基區(qū)6的下側(cè),所述N基區(qū)5上設(shè)有兩個P+保護(hù)環(huán)、N+發(fā)射區(qū)4,所述兩個P+保護(hù)環(huán)、N+發(fā)射區(qū)4都位于N基區(qū)5的上方,所述兩個P+保護(hù)環(huán)都與肖特基勢壘金屬層2相連接,所述肖特基勢壘金屬層2為正極A,所述N+發(fā)射區(qū)4為負(fù)極,所述P+陽極發(fā)射區(qū)7為正極B。

      本實用新型采用肖特基與pn結(jié)集成的結(jié)構(gòu),保持了超高速開通、低通態(tài)壓降的優(yōu)良特性,并提高了耐壓,耐壓值可以通過對P基區(qū)、N基區(qū)摻雜濃度和厚度的選擇來調(diào)整。

      工作原理:

      開通物理機(jī)理:正極A加正偏壓,肖特基勢壘高度降低,N+發(fā)射區(qū)的電子穿越勢壘流入金屬,形成從金屬指向N+發(fā)射區(qū)的電流,肖特基二極管先導(dǎo)通;隨之,P+陽極發(fā)射區(qū)、P基區(qū)和N基區(qū)、N+發(fā)射區(qū)形成的PIN二極管導(dǎo)通,形成從P+陽極發(fā)射區(qū)指向N+發(fā)射區(qū)的電流。這樣,器件內(nèi)部形成兩股電流,同時流向陰極,由此,增大了通態(tài)電流,降低了通態(tài)壓降。

      反向阻斷機(jī)理:陽極加反偏壓,器件的反向耐壓由PN結(jié)的耗盡區(qū)來承擔(dān),它與P基區(qū)、N基區(qū)的摻雜濃度及厚度相關(guān)。所以,耐壓值可以通過對P基區(qū)、N基區(qū)摻雜濃度和厚度的選擇來調(diào)整。

      本實用新型提高了肖特基二極管的反向耐壓值,并降低通態(tài)壓降,增大了通態(tài)電流。因此,本實用新型保持了超高速開通、低通態(tài)壓降的優(yōu)良特性,并滿足電力電子對肖特基二極管高反向耐壓值的要求。

      需要注意的是,以上列舉的僅是本實用新型的一種具體實施例。顯然,本實用新型不限于以上實施例,還可以有許多變形。

      總之,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員能從本實用新型公開的內(nèi)容直接導(dǎo)出或聯(lián)想到的所有變形,均應(yīng)認(rèn)為是本實用新型的保護(hù)范圍。

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