本實(shí)用新型涉及電感，具體的說是涉及一種高功率密度共模電感。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有技術(shù)中，共模電感一般都是通過磁環(huán)繞線實(shí)現(xiàn)，為滿足一定的功率要求，器件總體體積大，占板面積大，限制電源板功率密度的提升；且加工成本高。因此，如何提供一種高功率密度、小體積的共模電感，在現(xiàn)有磁材及規(guī)格上，最大化利用磁芯空間和電源中占有體積是一個(gè)需要解決的技術(shù)問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中的不足，本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題在于提供了一種高功率密度共模電感。

為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型通過以下方案來實(shí)現(xiàn)：一種高功率密度共模電感，該共模電感為E型結(jié)構(gòu)，包括磁芯、扁平線圈、填充物，所述磁芯呈E型，在其E型中部設(shè)置有磁芯中柱，所述扁平線圈繞線于磁芯中柱上，其繞制的方向使扁平線圈在磁芯中產(chǎn)生的磁力線匯聚于磁芯中柱的共用部分，而磁力線方向相反；

所述扁平線圈繞于磁芯中柱上，且繞成兩個(gè)繞組，在兩個(gè)繞組之間填充有填充物。

進(jìn)一步的，所述共模電感的高度小于31.5mm。

進(jìn)一步的，所述磁芯引出兩根引腳，該引腳分別連接扁平線圈的兩個(gè)繞組上的接頭。

進(jìn)一步的，所述填充物為可硬化的絕緣膠體。

相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型的有益效果是：本實(shí)用新型高功率密度共模電感，設(shè)計(jì)原型來自常規(guī)的磁環(huán)共模電感，通過重新設(shè)計(jì)新型E型非標(biāo)磁芯和與之匹配的扁平線圈，減小器件整體占板面積，提高電源板功率密度。本實(shí)用新型所提供的共模電感，具有高功率密度、小體積的特點(diǎn)，在現(xiàn)有磁材及規(guī)格上，最大化縮小器件體積，以到達(dá)縮小電源空間的作用；該設(shè)計(jì)方案還集成差模電感，通過兩個(gè)線圈之間的填充物來調(diào)節(jié)差模感量，達(dá)到用一個(gè)器件替代傳統(tǒng)電源布局共模+差模的效果。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型高功率密度共模電感的主視圖；

圖2為本實(shí)用新型高功率密度共模電感的俯視圖。

附圖中標(biāo)記：磁芯10、扁平線圈20、填充物30、引腳40、磁芯中柱50。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)闡述，以使本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，從而對(duì)本實(shí)用新型的保護(hù)范圍做出更為清楚明確的界定。

請(qǐng)參照附圖1~2，一種高功率密度共模電感，該共模電感為E型結(jié)構(gòu)，包括磁芯10、扁平線圈20、填充物30，所述磁芯10呈E型，在其E型中部設(shè)置有磁芯中柱50，所述扁平線圈20繞線于磁芯中柱50上，其繞制的方向使扁平線圈20在磁芯10中產(chǎn)生的磁力線匯聚于磁芯中柱50的共用部分，而磁力線方向相反；所述扁平線圈20繞于磁芯中柱50上，且繞成兩個(gè)繞組，在兩個(gè)繞組之間填充有填充物30，所述共模電感的高度小于31.5mm。所述磁芯10引出兩根引腳40，該引腳分別連接扁平線圈20的兩個(gè)繞組上的接頭，所述填充物30為可硬化的絕緣膠體。本實(shí)用新型共模電感為E型的結(jié)構(gòu)，即繞線在磁芯中柱50上，通過扁平線圈20的繞線方向調(diào)整，使線圈在磁芯10中產(chǎn)生的磁力線匯聚于中柱的共用部分，而磁力線方向剛好相反，滿足共模電感常規(guī)的布線規(guī)則；通過調(diào)整兩個(gè)繞組間的填充物30（改變厚度尺寸或者本身材料特性）來達(dá)到調(diào)整差模感量的需求，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)共差模一體電感設(shè)計(jì)，進(jìn)一步提高電源板功率密度，減少電源板尺寸。另外巧妙的引腳40布置，使得器件上沒有額外的占有占板高度；該共模電感的高度小于31.5mm。本實(shí)用新型所提供的共模電感，在現(xiàn)有磁材及規(guī)格上，最大化利用磁芯空間和電源中占有體積。

以上所述僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，并非因此限制本實(shí)用新型的專利范圍，凡是利用本實(shí)用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其它相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。