本實(shí)用新型涉及一種用于板式PECVD手動(dòng)下料裝置，尤其涉及一種用于板式PECVD整排手動(dòng)下料裝置。

背景技術(shù)：

板式PECVD是光伏太陽(yáng)能行業(yè)中常用的設(shè)備。如圖1所示，為現(xiàn)有板式PECVD手動(dòng)單片下料裝置結(jié)構(gòu)示意圖，現(xiàn)有單片下料裝置一般包括一個(gè)真空吸盤1，真空吸盤1上連接有真空氣管2，真空氣管2上連接有真空控制閥3。如圖2所示，現(xiàn)有單片下料裝置在使用過(guò)程中需要單片下料，導(dǎo)致下料操作次數(shù)多，下料時(shí)間長(zhǎng)，使生產(chǎn)過(guò)程碎片增加，并影響生產(chǎn)產(chǎn)能。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是：提供了一種減少下料操作次數(shù)、縮短下料時(shí)間的用于板式PECVD整排手動(dòng)下料裝置，解決了現(xiàn)有單片下料裝置在使用過(guò)程中需要單片下料，導(dǎo)致下料操作次數(shù)多，下料時(shí)間長(zhǎng)的問(wèn)題。

為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型的技術(shù)方案是提供了一種用于板式PECVD整排手動(dòng)下料裝置，其特征在于，包括框架型材，框架型材的上下兩側(cè)均設(shè)有圓形絲桿，每根圓形絲桿上均設(shè)有可以左右滑動(dòng)的固定滑塊，兩個(gè)固定滑塊分別固定在整排真空吸片器的兩端，框架型材內(nèi)還設(shè)有硅片承載盒。

優(yōu)選地，所述的整排真空吸片器包括平移架，平移架下設(shè)有多個(gè)真空吸片器，平移架上設(shè)有平移把手，平移把手上設(shè)有真空開關(guān)。

優(yōu)選地，所述的真空吸片器的數(shù)量與石墨框內(nèi)每排可放的硅片數(shù)量相同。

本實(shí)用新型通過(guò)平移把手將整排真空吸片器平移到硅片上方，打開真空開關(guān)使硅片吸出石墨框，通過(guò)平移把手將硅片平移到硅片承載盒上方，關(guān)閉真空開關(guān)使硅片掉落到硅片承載盒中，整個(gè)下片過(guò)程整排進(jìn)行，減少了下料操作次數(shù)，縮短了下料時(shí)間，降低了生產(chǎn)過(guò)程碎片。

附圖說(shuō)明

圖1為現(xiàn)有手動(dòng)單片下料裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為現(xiàn)有手動(dòng)單片下料裝置的操作示意圖；

圖3為整排真空吸片器的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為圖3的俯視圖；

圖5為一種用于板式PECVD整排手動(dòng)下料裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

為使本實(shí)用新型更明顯易懂，茲以優(yōu)選實(shí)施例，并配合附圖作詳細(xì)說(shuō)明如下。

本實(shí)用新型為一種用于板式PECVD整排手動(dòng)下料裝置，如圖5所示，其包括整排真空吸片器13，整排真空吸片器13的兩端分別固定有兩個(gè)固定滑塊12，兩個(gè)固定滑塊12安裝在圓形絲桿11上，且可以在圓形絲桿11上左右滑動(dòng)，圓形絲桿11安裝在框架型材10的上下兩側(cè)上，框架型材10內(nèi)還安裝有硅片承載盒14。如圖3、圖4所示，整排真空吸片器13包括平移架6，平移架6下安裝有真空吸片器7，平移架6上安裝有平移把手9，平移把手9上安裝有真空開關(guān)8。

其中：真空吸片器7的數(shù)量與石墨框4內(nèi)每排可放的硅片5數(shù)量相同。

本實(shí)用新型的工作過(guò)程如下：

首先把本實(shí)用新型的裝置放置在帶有硅片5的石墨框4上，通過(guò)平移把手9將整排真空吸片器13平移到硅片5上方，打開真空開關(guān)8，通過(guò)真空吸片器7將硅片5吸出石墨框4，通過(guò)平移把手9將硅片5平移到硅片承載盒14上方，關(guān)閉真空開關(guān)8使硅片5掉落到承載盒14中，整個(gè)下片過(guò)程整排進(jìn)行，減少了下料操作次數(shù)，縮短了下料時(shí)間，降低了生產(chǎn)過(guò)程碎片。