本實用新型實施例涉及掩膜板領(lǐng)域，尤其涉及一種掩膜板對位系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

在有機發(fā)光二極管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)技術(shù)中，真空蒸鍍用的掩膜板技術(shù)是一項至關(guān)重要的技術(shù)，掩膜板的質(zhì)量直接影響著生產(chǎn)制造成本和產(chǎn)品質(zhì)量。OLED蒸鍍用的掩膜板中精密金屬掩模板(Fine Metal Mask，F(xiàn)MM)是最關(guān)鍵的掩膜板，F(xiàn)MM用于蒸鍍發(fā)光層材料，因此FMM質(zhì)量的好壞直接關(guān)系到屏幕的顯示效果。

目前，OLED蒸鍍用的掩膜板一般由多條子掩膜板張網(wǎng)而成。在對每條子掩膜板進行引張時，可能會由于張力不到位、子掩膜板自身重力影響或子掩膜板稍微傾斜等因素，導(dǎo)致部分蒸鍍圖案位置出現(xiàn)偏差，掩膜板自對位不準(zhǔn)確，造成對OLED進行蒸鍍時，掩膜板上的部分蒸鍍圖案無法與OLED上的待蒸鍍區(qū)域精準(zhǔn)對位，降低了產(chǎn)品良率，增加了生產(chǎn)制造成本。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本實用新型提供一種掩膜板對位系統(tǒng)，以實現(xiàn)對掩膜板本身的高精度對位，提高產(chǎn)品良率，減小生產(chǎn)制造成本。

本實用新型實施例提供了一種掩膜板對位系統(tǒng)，包括：

待對位掩膜板，所述待對位掩膜板包括分離的多張子掩膜板；

對位參考板，與所述待對位掩膜板相對設(shè)置，其中，所述對位參考板上包括根據(jù)待蒸鍍基板的待蒸鍍區(qū)域設(shè)定的多個第一對位標(biāo)記，所述子掩膜板包括與所述第一對位標(biāo)記對應(yīng)設(shè)置的第二對位標(biāo)記；

對位傳感器，用于監(jiān)測任一第二對位標(biāo)記與對應(yīng)的第一對位標(biāo)記的相對位置關(guān)系，并將相對位置關(guān)系數(shù)據(jù)反饋至控制設(shè)備；

控制設(shè)備，連接于所述對位傳感器，用于移動所述對位傳感器，根據(jù)所述相對位置關(guān)系數(shù)據(jù)，調(diào)整所述任一第二對位標(biāo)記所在的子掩膜板的位置，以使待對位掩膜板的蒸鍍圖案與所述待蒸鍍區(qū)域?qū)?yīng)。

本實用新型實施例根據(jù)待蒸鍍基板的待蒸鍍區(qū)域在對位參考板上設(shè)定多個第一對位標(biāo)記，并在各子掩膜板上設(shè)置與第一對位標(biāo)記對應(yīng)的第二對位標(biāo)記；在對各子掩膜板進行引張時，通過對位傳感器實時監(jiān)測任一第二對位標(biāo)記與對應(yīng)的第一對位標(biāo)記的相對位置關(guān)系，控制設(shè)備根據(jù)相對位置關(guān)系調(diào)整子掩膜板的位置，直至各第二對位標(biāo)記與對應(yīng)的第一對位標(biāo)記相對，完成整張掩膜板(待對位掩膜板)本身的對位，以使待對位掩膜板的蒸鍍圖案與待蒸鍍基板的待蒸鍍區(qū)域完全對位。

附圖說明

圖1為本實用新型實施例提供的一種掩膜板對位系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實用新型實施例提供的待對位掩膜板的平面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本實用新型實施例提供的另一種掩膜板對位系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本實用新型實施例提供的另一種待對位掩膜板的平面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本實用新型實施例提供的另一種掩膜板對位系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為本實用新型實施例提供的另一種待對位掩膜板的平面結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖和實施例對本實用新型作進一步的詳細說明?？梢岳斫獾氖?，此處所描述的具體實施例僅僅用于解釋本實用新型，而非對本實用新型的限定。另外還需要說明的是，為了便于描述，附圖中僅示出了與本實用新型相關(guān)的部分而非全部結(jié)構(gòu)。

圖1為本實用新型實施例提供的一種掩膜板對位系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1所示，該掩膜板對位系統(tǒng)包括待對位掩膜板1、對位參考板2、對位傳感器3和控制設(shè)備4。

其中，待對位掩膜板1包括分離的多張子掩膜板11；

對位參考板2與待對位掩膜板1相對設(shè)置，其中，對位參考板2上包括根據(jù)待蒸鍍基板的待蒸鍍區(qū)域設(shè)定的多個第一對位標(biāo)記211，子掩膜板11包括與第一對位標(biāo)記211對應(yīng)設(shè)置的第二對位標(biāo)記111；

對位傳感器3用于監(jiān)測任一第二對位標(biāo)記111與對應(yīng)的第一對位標(biāo)記211的相對位置關(guān)系，并將相對位置關(guān)系數(shù)據(jù)反饋至控制設(shè)備4；

控制設(shè)備4連接于對位傳感器，用于移動所述對位傳感器，根據(jù)相對位置關(guān)系數(shù)據(jù)，調(diào)整任一第二對位標(biāo)記111所在的子掩膜板11的位置，以使待對位掩膜板1的蒸鍍圖案與待蒸鍍區(qū)域?qū)?yīng)。

示例性的，本實施例的掩膜板對位系統(tǒng)適用于對OLED蒸鍍用的掩膜板本身進行對位?？蛇x的，上述對位參考板2可以為對位參考掩膜板，該對位參考掩膜板可以是制備液晶顯示面板時使用的掩膜板，且掩膜板的開口圖案的位置與本實用新型待蒸鍍基板的待蒸鍍區(qū)域的位置相同；另外，上述對位參考板2也可以為對位參考基板，該對位參考基板可以為本實用新型OLED陣列基板前段制程中的玻璃基板，該玻璃基板上具有待蒸鍍區(qū)域和多個第一對位標(biāo)記211。需要說明的是，上述對位參考板2可通過夾具夾持固定。

本實施例中，每張子掩膜板11對應(yīng)待蒸鍍區(qū)域或?qū)ξ粎⒖及?中的一片區(qū)域，各子掩膜板11上標(biāo)有與對位參考板2對應(yīng)區(qū)域中的第一對位標(biāo)記211相對應(yīng)的第二對位標(biāo)記111，在子掩膜板11與對位參考板2完全對位時，各第一對位標(biāo)記211與對應(yīng)的第二對位標(biāo)記111在子掩膜板11上的正投影重合。

可選的，上述對位傳感器3包括光學(xué)鏡頭，用于采集待對位掩膜板1和對位參考板2的對位圖像，該光學(xué)鏡頭可以為CCD攝像頭。對位傳感器3實時采集對位圖像并將對位圖像數(shù)據(jù)反饋給控制設(shè)備4，控制設(shè)備4可控制對位傳感器3精密移動，并根據(jù)對位圖像數(shù)據(jù)，調(diào)整任一第二對位標(biāo)記111所在的子掩膜板的位置，以此逐一調(diào)整各子掩膜板11的位置，直至所有子掩膜板11上的所有第二對位標(biāo)記111與對應(yīng)的第一對位標(biāo)記211相對應(yīng)，完成待對位掩膜板1本身的對位。

如圖1所示，本實施例的掩膜板對位系統(tǒng)還包括支撐體5，用于支撐待對位掩膜板1。結(jié)合圖1和圖2，該支撐體5上設(shè)置有沿第一方向延伸沿第二方向排布的多個定位柱51，用于拉伸子掩膜板11，其中，第一方向與第二方向垂直；子掩膜板11沿第一方向延伸沿第二方向設(shè)置于定位柱51上。其中，定位柱51受到張力拉伸變形，設(shè)置在定位柱51上的子掩膜板11隨著定位柱51的拉伸而拉伸，以此，通過拉伸定位柱51可對子掩膜板11的位置進行微調(diào)。另外，定位柱51可位于相鄰子掩膜板11之間的區(qū)域，以避免遮擋蒸鍍圖案。

圖3為本實用新型實施例提供的另一種掩膜板對位系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖?；趫D1對應(yīng)的實施例，本實施例的支撐體5上還設(shè)置有沿第二方向延伸沿第一方向排布的多個支撐柱52。

參考圖3和圖4，可選的，支撐柱52支撐于子掩膜板11的中部區(qū)域。由于子掩膜板11的長邊相對短邊較長，且厚度很薄，子掩膜板11受自身重力作用，其中部區(qū)域容易發(fā)生凹陷，導(dǎo)致子掩膜板11上蒸鍍圖案的位置出現(xiàn)偏差。因此，在子掩膜板11的中部區(qū)域設(shè)置支撐柱52，可防止子掩膜板11的中部區(qū)域發(fā)生凹陷，進一步提高了對待對位掩膜板本身進行對位的精確度。

圖5為本實用新型實施例提供的另一種掩膜板對位系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。基于圖3對應(yīng)的實施例，本實施例的子掩膜板11還包括多個可熔融定位點112，可熔融定位點112的垂直投影位于51定位柱和支撐柱52上；且掩膜板對位系統(tǒng)還包括熔融設(shè)備6，熔融設(shè)備6連接于控制設(shè)備4，用于在多張子掩膜板11完成對位后，熔融可熔融定位點112，以將子掩膜板11固定于支撐體5上。

參考圖5和圖6，可選的，熔融設(shè)備6為激光器，上述支撐體5、支撐架52和可熔融定位點112可以為金屬材料，通過激光熔融將各子掩膜板11焊接在支撐體5上，完成整張待對位掩膜板的制作。本實施例中，控制設(shè)備4可控制熔融設(shè)備移動到設(shè)定可熔融定位點112，由此可進一步檢測子掩膜板11是否對位準(zhǔn)確，在確定對位準(zhǔn)確后，通過熔融可熔融定位點112將子掩膜板11焊接在支撐體5上，以固定子掩膜板11，防止在后續(xù)工藝中子掩膜板11移動。

具體的，上述實施例中的待蒸鍍區(qū)域包括多個子像素單元，待對位掩膜板用于蒸鍍子像素單元中的發(fā)光層材料，本實用新型中的待對位掩膜板為精密金屬掩膜板。上述第一對位標(biāo)記可以包括待蒸鍍區(qū)域的邊緣位置標(biāo)記和任一子像素單元的位置標(biāo)記。示例性的，待蒸鍍區(qū)域的邊緣位置標(biāo)記可以為十字形標(biāo)記，任一子像素單元的位置標(biāo)記可以為子像素單元對應(yīng)位置處的符號標(biāo)記，也可以為子像素單元對應(yīng)的蒸鍍圖案。

可選的，本實用新型中的控制設(shè)備可包括控制主機和張網(wǎng)機，控制主機通過線路分別連接于對位傳感器和張網(wǎng)機；

張網(wǎng)機可包括移動機構(gòu)和張網(wǎng)機構(gòu)，移動機構(gòu)連接對位傳感器，用于移動對位傳感器，張網(wǎng)機的張網(wǎng)機構(gòu)連接定位柱的兩端，用于拉伸定位柱；

控制主機用于根據(jù)相對位置關(guān)系數(shù)據(jù)，向張網(wǎng)機發(fā)送位置調(diào)整指令；

張網(wǎng)機用于根據(jù)位置調(diào)整指令，調(diào)整任一第二對位標(biāo)記所在的子掩膜板的位置。

本實用新型實施例根據(jù)待蒸鍍基板的待蒸鍍區(qū)域在對位參考板上設(shè)定多個第一對位標(biāo)記，并在各子掩膜板上設(shè)置與第一對位標(biāo)記對應(yīng)的第二對位標(biāo)記；在對各子掩膜板進行引張時，通過對位傳感器實時監(jiān)測任一第二對位標(biāo)記與對應(yīng)的第一對位標(biāo)記的相對位置關(guān)系，控制設(shè)備根據(jù)相對位置關(guān)系調(diào)整子掩膜板的位置，直至各第二對位標(biāo)記與對應(yīng)的第一對位標(biāo)記相對，完成整張掩膜板本身的對位，以使待對位掩膜板的蒸鍍圖案與待蒸鍍基板的待蒸鍍區(qū)域完全對位。

注意，上述僅為本實用新型的較佳實施例及所運用技術(shù)原理。本領(lǐng)域技術(shù)人員會理解，本實用新型不限于這里所述的特定實施例，對本領(lǐng)域技術(shù)人員來說能夠進行各種明顯的變化、重新調(diào)整和替代而不會脫離本實用新型的保護范圍。因此，雖然通過以上實施例對本實用新型進行了較為詳細的說明，但是本實用新型不僅僅限于以上實施例，在不脫離本實用新型構(gòu)思的情況下，還可以包括更多其他等效實施例，而本實用新型的范圍由所附的權(quán)利要求范圍決定。