1.一種柔性顯示器件,包括襯底、設(shè)置在襯底上的陽極層、以及,在所述陽極層上從下至上設(shè)置的空穴注入層、空穴傳輸層、有機(jī)發(fā)光層、電子傳輸層、電子注入層、陰極層和封裝層,其特征在于,
所述陽極層包括設(shè)置于所述襯底上的第三金屬層,以及,上下層疊設(shè)置于所述第三金屬層上的第一金屬層、第二金屬層;所述第一金屬層、第三金屬層的功函數(shù)大于所述第二金屬層;所述第一金屬層和/或第三金屬層的功函數(shù)不小于4.5eV。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述柔性顯示器件,其特征在于,所述第二金屬層的功函數(shù)與所述第一金屬層和/或第三金屬層的功函數(shù)之間的差值為0.2~0.7eV。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述柔性顯示器件,其特征在于,所述第一金屬層和/或所述第三金屬層的厚度為3~25nm,所述第二金屬層的厚度為6~50nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述柔性顯示器件,其特征在于,所述第一金屬層和/或所述第三金屬層的材質(zhì)為Ni;所述第二金屬層的材質(zhì)為Ag。
5.一種柔性顯示器件的制備方法,包括如下步驟:
通過真空熱蒸鍍方法在襯底上形成第三金屬層;
通過涂布工藝在所述第三金屬層上形成第二金屬層,真空烘烤工藝和堅(jiān)膜工藝對所述第二金屬層進(jìn)行干燥和固化處理;
通過真空熱蒸鍍方法在第二金屬層上形成第一金屬層;其中,所述第一金屬層、第三金屬層的功函數(shù)大于所述第二金屬層;所述第一金屬層和/或第三金屬層的功函數(shù)不小于4.5eV;
通過等離子體方法對所述第一金屬層進(jìn)行表面除雜處理;
依次通過光刻、固化工藝,以及曝光和顯影工藝在所述第一金屬層上形成所述柔性顯示器件的陽極層的圖案;
清洗殘余的光刻膠,暴露并使所述陽極層干燥;
在所述陽極層上通過真空熱蒸鍍的方法依次形成空穴注入層、空穴傳輸層、有機(jī)發(fā)光層、電子傳輸層、電子注入層、陰極層以及封裝層。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述柔性顯示器件的制備方法,其特征在于,所述第二金屬層的功函數(shù)與所述第一金屬層和/或第三金屬層的功函數(shù)之間的差值為0.2~0.7eV。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述柔性顯示器件的制備方法,其特征在于,控制所述熱蒸鍍速度為
8.根據(jù)權(quán)利要求5或6或7任一項(xiàng)所述柔性顯示器件的制備方法,其特征在于,所述第一金屬層和/或所述第三金屬層的厚度為3~25nm,所述第二金屬層的厚度為6~50nm。
9.根據(jù)權(quán)利要求5或6或7任一項(xiàng)所述柔性顯示器件的制備方法,其特征在于,所述第一金屬層和/或所述第三金屬層的材質(zhì)為Ni;所述第二金屬層的材質(zhì)為Ag。