本發(fā)明涉及一種顯示裝置的制造方法。

背景技術(shù)：

1、顯示裝置的重要性隨著多媒體的發(fā)展而逐漸增大。順應(yīng)于此，正在開發(fā)諸如液晶顯示裝置(lcd：liquid?crystal?display?device)、有機(jī)發(fā)光顯示裝置(oled：organiclight?emitting?diode?display?device)等多種顯示裝置。

2、在顯示裝置中，自發(fā)光顯示裝置包括自發(fā)光元件。自發(fā)光元件可以包括對(duì)向的兩個(gè)電極和夾設(shè)在兩個(gè)電極之間的發(fā)光層。在自發(fā)光元件是有機(jī)發(fā)光元件的情況下，從兩個(gè)電極提供的電子和空穴可以在發(fā)光層復(fù)合而生成激子，所生成的激子可以從激發(fā)態(tài)變化為基態(tài)并發(fā)出光。這種有機(jī)發(fā)光元件易受氧氣和水分影響，因此可以包括封裝結(jié)構(gòu)物以防止氧氣和水分滲透。

3、另外，可以形成用于防止諸如封裝結(jié)構(gòu)物中包含的有機(jī)物之類的形成于顯示區(qū)域的有機(jī)物被過度涂覆而流出到非顯示區(qū)域或子區(qū)域的一個(gè)以上的阻擋件。另外，在子區(qū)域可以形成有用于保護(hù)從顯示區(qū)域延伸至子區(qū)域的布線的堤結(jié)構(gòu)物。這種阻擋件和堤結(jié)構(gòu)物可能具有相當(dāng)?shù)母叨?，并且在阻擋件與堤結(jié)構(gòu)物之間可能形成谷部。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明要解決的技術(shù)問題在于，提供一種在阻擋件、堤結(jié)構(gòu)物以及谷部上形成金屬層時(shí)使谷部?jī)?nèi)的金屬層的殘?jiān)钌倩娘@示裝置的制造方法。

2、本發(fā)明的技術(shù)問題不限于以上提及的技術(shù)問題，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以通過以下的記載明確地理解未提及的其他技術(shù)問題。

3、一種用于解決上述技術(shù)問題的根據(jù)一實(shí)施例的顯示裝置的制造方法，所述顯示裝置包括：基板，包括顯示區(qū)域和布置在所述顯示區(qū)域的一側(cè)的子區(qū)域；多個(gè)發(fā)光元件，布置在所述基板上的所述顯示區(qū)域；第一阻擋件，布置在所述基板上，并布置在所述多個(gè)發(fā)光元件與所述子區(qū)域之間；堤結(jié)構(gòu)物，布置在所述基板上，并在所述第一阻擋件的一側(cè)布置在所述子區(qū)域中；以及第一谷部，布置在所述第一阻擋件與所述堤結(jié)構(gòu)物之間，其中，所述顯示裝置的制造方法包括以下步驟：在所述第一谷部上形成包含第一金屬的第一金屬層；在所述第一谷部?jī)?nèi)的所述第一金屬層上形成階梯差補(bǔ)償部；在所述第一金屬層和所述階梯差補(bǔ)償部上形成光刻膠層；通過對(duì)所述光刻膠層進(jìn)行圖案化來形成光刻膠圖案；以及通過利用所述光刻膠圖案對(duì)所述第一金屬層進(jìn)行圖案化來形成第一電極。

4、所述階梯差補(bǔ)償部可以包含與所述第一金屬層相同的所述第一金屬。

5、在形成所述第一電極的步驟中，所述階梯差補(bǔ)償部可以在進(jìn)行所述第一金屬層的圖案化的同時(shí)被去除。

6、所述階梯差補(bǔ)償部可以構(gòu)成為被用于蝕刻所述第一金屬層的蝕刻液蝕刻。

7、在形成所述階梯差補(bǔ)償部的步驟中，所述第一金屬層和所述階梯差補(bǔ)償部的上表面可以位于相同的高度。

8、在形成所述光刻膠層的步驟中，所述光刻膠層可以在所述第一谷部上平坦地形成。

9、在形成所述光刻膠圖案的步驟中，所述光刻膠圖案可以不布置在所述第一谷部上。

10、在形成所述第一電極的步驟中，所述第一電極或所述第一金屬層可以不布置在所述第一谷部上。

11、所述顯示裝置還可以包括：薄膜封裝層，布置在所述多個(gè)發(fā)光元件上，其中，所述薄膜封裝層可以包括：第一封裝層；第二封裝層；布置在所述第一封裝層上；以及第三封裝層，布置在所述第二封裝層上，所述第二封裝層可以不布置在所述第一谷部上。

12、所述顯示裝置還可以包括：第二阻擋件，布置在所述基板上，并布置在所述第一阻擋件與所述多個(gè)發(fā)光元件之間；以及第二谷部，布置在所述第一阻擋件與所述第二阻擋件之間，在形成所述階梯差補(bǔ)償部的步驟中，所述階梯差補(bǔ)償部還可以形成在所述第二谷部?jī)?nèi)。

13、所述顯示裝置還可以包括：薄膜封裝層，布置在所述多個(gè)發(fā)光元件上，其中，所述薄膜封裝層可以包括：第一封裝層；第二封裝層，布置在所述第一封裝層上；以及第三封裝層，布置在所述第二封裝層上，所述第二封裝層可以不布置在所述第二谷部上。

14、所述階梯差補(bǔ)償部可以利用絲網(wǎng)印刷工藝涂覆糊狀物而形成。

15、一種用于解決上述技術(shù)問題的根據(jù)另一實(shí)施例的顯示裝置的制造方法，所述顯示裝置包括：基板；多個(gè)發(fā)光元件，布置在所述基板上；第一阻擋件，布置在所述基板上，并布置在所述多個(gè)發(fā)光元件的一側(cè)；第二阻擋件，布置在所述基板上，并布置在所述第一阻擋件的一側(cè)；以及谷部，布置在所述第一阻擋件與所述第二阻擋件之間，所述顯示裝置的制造方法包括以下步驟：在所述谷部上形成包含第一金屬的第一金屬層；在所述谷部?jī)?nèi)的所述第一金屬層上形成階梯差補(bǔ)償部；在所述第一金屬層和所述階梯差補(bǔ)償部上形成光刻膠層；通過對(duì)所述光刻膠層進(jìn)行圖案化來形成光刻膠圖案；以及通過利用所述光刻膠圖案對(duì)所述第一金屬層進(jìn)行圖案化來形成第一電極。

16、所述階梯差補(bǔ)償部包含與所述第一金屬層相同的所述第一金屬。

17、在形成所述第一電極的步驟中，所述階梯差補(bǔ)償部可以在進(jìn)行所述第一金屬層的圖案化的同時(shí)被去除。

18、所述階梯差補(bǔ)償部可以構(gòu)成為被用于蝕刻所述第一金屬層的蝕刻液蝕刻。

19、在形成所述階梯差補(bǔ)償部的步驟中，所述第一金屬層和所述階梯差補(bǔ)償部的上表面可以位于相同的高度。

20、在形成所述光刻膠層的步驟中，所述光刻膠圖案可以在所述谷部上平坦地形成。

21、在形成所述光刻膠圖案的步驟中，所述光刻膠圖案可以不布置在所述谷部上。

22、在形成所述第一電極的步驟中，所述第一電極或所述第一金屬層可以不布置在所述谷部上。

23、根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的顯示裝置的制造方法在阻擋件、堤結(jié)構(gòu)物以及谷部上形成金屬層時(shí)可以使谷部?jī)?nèi)的金屬層的殘?jiān)钚』?/p>

24、根據(jù)實(shí)施例的效果不受以上示例的內(nèi)容的限制，本說明書中包括更多樣的效果。

技術(shù)特征：

1.一種顯示裝置的制造方法，所述顯示裝置包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置的制造方法，其中，

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置的制造方法，其中，

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置的制造方法，其中，

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置的制造方法，其中，

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示裝置的制造方法，其中，

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置的制造方法，其中，

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置的制造方法，其中，

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置的制造方法，其中，

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置的制造方法，其中，

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的顯示裝置的制造方法，其中，

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置的制造方法，其中，

13.一種顯示裝置的制造方法，所述顯示裝置包括：

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的顯示裝置的制造方法，其中，

15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的顯示裝置的制造方法，其中，

16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的顯示裝置的制造方法，其中，

17.根據(jù)權(quán)利要求13所述的顯示裝置的制造方法，其中，

18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的顯示裝置的制造方法，其中，

19.根據(jù)權(quán)利要求13所述的顯示裝置的制造方法，其中，

20.根據(jù)權(quán)利要求13所述的顯示裝置的制造方法，其中，

技術(shù)總結(jié)
提供一種顯示裝置的制造方法。顯示裝置包括：基板，包括顯示區(qū)域和布置在顯示區(qū)域的一側(cè)的子區(qū)域；多個(gè)發(fā)光元件，布置在基板上的顯示區(qū)域；第一阻擋件，布置在基板上并布置在多個(gè)發(fā)光元件與子區(qū)域之間；堤結(jié)構(gòu)物，布置在基板上并在第一阻擋件的一側(cè)布置在子區(qū)域中；以及第一谷部，布置在第一阻擋件與堤結(jié)構(gòu)物之間，顯示裝置的制造方法包括以下步驟：在第一谷部上形成包含第一金屬的第一金屬層；在第一谷部?jī)?nèi)的第一金屬層上形成階梯差補(bǔ)償部；在第一金屬層和階梯差補(bǔ)償部上形成光刻膠層；通過對(duì)光刻膠層進(jìn)行圖案化來形成光刻膠圖案；以及通過利用光刻膠圖案對(duì)第一金屬層進(jìn)行圖案化來形成第一電極，階梯差補(bǔ)償部包含與第一金屬層相同的第一金屬。

技術(shù)研發(fā)人員：裵俊佑,金廣海,鄭參臺(tái)
受保護(hù)的技術(shù)使用者：三星顯示有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/19