一種coa基板及其制作方法
【專利說明】
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示器技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種COA基板及其制作方法。
【【背景技術(shù)】】
[0002]COA(Color Filter on Array)基板是將彩色濾色片制作在陣列基板上，請參照圖1，圖1為現(xiàn)有技術(shù)的COA基板的結(jié)構(gòu)不意圖，如圖1所不，現(xiàn)有的COA基板包括襯底基板111、第一金屬層112、柵極絕緣層113、有源層114、歐姆接觸層115、第二金屬層116、第一鈍化層117 ;色阻層118、第二鈍化層119、透明導(dǎo)電層120，透明導(dǎo)電層120包括像素電極，像素電極通過貫穿色阻層118和第二鈍化層119的過孔121連接第二金屬層的漏極區(qū)。
[0003]但是現(xiàn)有的COA基板通常在高溫中制程，高溫會造成色阻層中的有機(jī)材料揮發(fā)形成氣泡，由于過孔121存在空余的空間，會使得產(chǎn)生的氣泡殘留在過孔中。在顯示器通電時，氣泡占據(jù)了液晶分子的位置，因而液晶分子不能到達(dá)氣泡殘留處，從而影響顯示效果。
[0004]因此，有必要提供一種COA基板及其制作方法，以解決現(xiàn)有技術(shù)所存在的問題。
【
【發(fā)明內(nèi)容】
】
[0005]本發(fā)明的目的在于提供一種COA基板及其制作方法，以解決現(xiàn)有技術(shù)過孔中殘留氣泡影響顯示效果的技術(shù)問題。
[0006]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明構(gòu)造了一種COA基板的制作方法，包括以下步驟:在襯底基板上形成第一金屬層，對所述第一金屬層進(jìn)行圖形化處理形成柵極；
[0007]在所述柵極及未被所述柵極覆蓋的襯底基板上形成柵絕緣層；
[0008]在所述柵絕緣層上形成有源層；
[0009]在所述有源層上形成歐姆接觸層；
[0010]在所述歐姆接觸層上形成第二金屬層，對所述第二金屬層進(jìn)行圖形化處理形成漏極和源極；
[0011 ] 在所述第二金屬層上形成第一鈍化層；
[0012]在所述第一鈍化層上形成色阻層；
[0013]在所述色阻層上形成第二鈍化層；
[0014]在所述第二鈍化層上形成連接所述第二金屬層的漏極的過孔；
[0015]在所述第二鈍化層上及所述過孔內(nèi)形成透明導(dǎo)電層以及
[0016]在所述COA基板的表面形成隔離子和/或黑色矩陣，并在所述過孔內(nèi)填充隔離子材料或黑色矩陣材料。
[0017]在本發(fā)明的COA基板的制作方法中，所述在所述過孔內(nèi)填充隔離子材料或黑色矩陣材料的步驟包括:在所述過孔內(nèi)填充所述隔離子材料或所述黑色矩陣材料，直至所述COA基板的表面平整。
[0018]在本發(fā)明的COA基板的制作方法中，所述在所述COA基板的表面形成隔離子的步驟包括:
[0019]在所述COA基板的表面涂布所述隔離子材料；以及
[0020]對所述隔離子材料進(jìn)行圖形化處理形成所述隔離子。
[0021]在本發(fā)明的COA基板的制作方法中，所述在所述COA基板的表面形成隔離子和黑色矩陣的步驟包括:
[0022]在所述COA基板的表面涂布所述黑色矩陣材料；以及
[0023]對所述黑色矩陣材料進(jìn)行圖形化處理形成所述隔離子和所述黑色矩陣。
[0024]在本發(fā)明的COA基板的制作方法中，所述在所述色阻層上形成所述第二鈍化層的步驟包括:通過涂布方式在所述色阻層上形成所述第二鈍化層，其中所述第二鈍化層的材料為有機(jī)透明材料。
[0025]本發(fā)明還提供一種COA基板，所述COA基板包括:
[0026]襯底基板；
[0027]第一金屬層，位于所述襯底基板上，包括薄膜晶體管的柵極區(qū)；
[0028]柵極絕緣層，部分位于所述第一金屬層上，用于隔離所述第一金屬層和第二金屬層；
[0029]有源層，部分位于所述柵極絕緣層上，用于形成溝道；
[0030]歐姆接觸層，位于所述有源層上；
[0031]所述第二金屬層，位于所述歐姆接觸層上，包括薄膜晶體管的漏極區(qū)和源極區(qū)；
[0032]第一鈍化層，位于所述第二金屬層上，用于隔離所述第二金屬層和色阻層；
[0033]所述色阻層，位于所述第一鈍化層上，用于形成彩膜色阻；
[0034]第二鈍化層，位于所述色阻層上，所述第二鈍化層上設(shè)置有連接所述第二金屬層的漏極的過孔；以及
[0035]透明導(dǎo)電層，位于所述第二鈍化層上及所述過孔內(nèi)；以及
[0036]隔離子和/或黑色矩陣，設(shè)置在所述COA基板的表面，其中所述過孔內(nèi)填充有隔離子材料或黑色矩陣材料。
[0037]在本發(fā)明的COA基板中，所述過孔內(nèi)填充有設(shè)定量的隔離子材料或黑色矩陣材料，所述設(shè)定量的隔離子材料或黑色矩陣材料用于使所述COA基板的表面平整。
[0038]在本發(fā)明的COA基板中，在所述COA基板的表面設(shè)置有所述隔離子材料，所述隔離子材料用于在所述COA基板的表面形成所述隔離子。
[0039]在本發(fā)明的COA基板中，在所述COA基板的表面設(shè)置有所述黑色矩陣材料，所述黑色矩陣材料用于在所述COA基板的表面形成所述黑色矩陣。
[0040]在本發(fā)明的COA基板中，所述第二鈍化層的材料為有機(jī)透明材料。
[0041]本發(fā)明的COA基板及其制作方法，通過在形成隔離子和/或黑色矩陣時，在所述過孔內(nèi)填充隔離子材料或黑色矩陣材料，從而提高顯示效果。
【【附圖說明】】
[0042]圖1為現(xiàn)有技術(shù)的COA基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0043]圖2為本發(fā)明第一實(shí)施例的COA基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0044]圖3為本發(fā)明第二實(shí)施例的COA基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0045]圖4為本發(fā)明第三實(shí)施例的COA基板的結(jié)構(gòu)示意圖。【【具體實(shí)施方式】】
[0046]以下各實(shí)施例的說明是參考附加的圖式，用以例示本發(fā)明可用以實(shí)施的特定實(shí)施例。本發(fā)明所提到的方向用語，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「內(nèi)」、「外」、「側(cè)面」等，僅是參考附加圖式的方向。因此，使用的方向用語是用以說明及理解本發(fā)明，而非用以限制本發(fā)明。在圖中，結(jié)構(gòu)相似的單元是以相同標(biāo)號表示。
[0047]請參照圖2，圖2為本發(fā)明第一實(shí)施例的COA基板的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0048]本發(fā)明的COA基板如圖2所示，包括襯底基板11、第一金屬層12、柵極絕緣層13、有源層14、歐姆接觸層15、第二金屬層16、第一鈍化層17 ;色阻層18、第二鈍化層19、透明導(dǎo)電層20。
[0049]所述第一金屬層12，位于所述襯底基板11上，包括薄膜晶體管的柵極區(qū)，對所述第一金屬層12進(jìn)行圖形化處理形成的柵極，所述柵極區(qū)部分以外的第一金屬層在制程過程中被刻蝕掉；為了隔離所述第一金屬層12和所述第二金屬層16、以及隔離所述第一金屬層12和有源層14，在所述第一金屬層12上設(shè)置所述柵極絕緣層13，僅在所述第一金屬層的柵極區(qū)設(shè)置有所述柵極絕緣層13，其余所述柵極絕緣層13設(shè)置在所述襯底基板上。所述有源層14，部分位于所述柵極絕緣層13上，用于形成所述薄膜晶體管的漏極和源極之間的溝道；所述歐姆接觸層15位于所述有源層14上，用于在所述薄膜晶體管的柵極閉合時，導(dǎo)通源極和漏極。所述歐姆接觸層的材料可為氮化硅。
[0050]所述第二金屬層16，位于所述歐姆接觸層15上，包括薄膜晶體管的漏極區(qū)和源極區(qū)；對所述第二金屬層16進(jìn)行圖形化處理形成漏極和源極；所述漏極和源極以外的第二金屬層在制程過程中被刻蝕掉。
[0051]第一鈍化層17，位于所述第二金屬層16上，用于將所述漏極和所述源極分別與所述色組層18隔離；所述色阻層18，位于所述第一鈍化層17上，對所述色阻層18進(jìn)行圖形化處理以形成彩膜色阻；第二鈍化層19，位于所述色阻層18上，用隔離所述色阻層18和所述透明導(dǎo)電層20 ;所述第二鈍化層19上設(shè)置有連接所述第二金屬層16的所述漏極的過孔21 ;所述過孔21貫穿所述色阻層18、所述第二鈍化層19、以及所述第一鈍化層17。所述透明導(dǎo)電層20，位于所述第二鈍化層19上(僅部分覆蓋在所述第二鈍化層19上)，其包括像素電極，所述像素電極與所述漏極之間通過過孔21連接，所述第二鈍化層19的材料可為有機(jī)透明材料。
[0052]在所述COA基板的表面還設(shè)置有隔離子22，其中所述過孔21內(nèi)填充有隔離子材料。具體地，所述隔離子22設(shè)置在未被所述透明導(dǎo)電層20覆蓋的所述第二鈍化層19上，且在所述過孔內(nèi)填充有設(shè)定量的隔離子材料，所述設(shè)定量的隔