)從檢測器6發(fā)送到激光輸出值控制單元7。
[0052]指示與除去(升華)相應厚度的異物所需的能量對應的激光輸出值的數(shù)據(jù)被預先存儲在激光輸出值控制單元7中。然后按照從檢測器6發(fā)送的異物厚度來確定除去異物所需的激光輸出值，隨之將用于用具有適當?shù)靥岣叩哪芰康募す庹丈洚愇锏目刂菩盘?圖1中的信號U2)發(fā)送到激光振蕩器4。
[0053]旋轉(zhuǎn)輥表面清潔裝置20還包括速度控制單元8，該速度控制單元將轉(zhuǎn)速V和激光響應時間S中的至少一者控制成使得轉(zhuǎn)速V和激光響應時間S滿足關(guān)系式VXS彡D/1000(D彡0.1mm)，其中旋轉(zhuǎn)輥2的轉(zhuǎn)速為V (m/sec)，激光響應時間為S (sec)，且異物F沿旋轉(zhuǎn)輥2的周向(旋轉(zhuǎn)方向)的長度為D (mm)。這里，激光響應時間S是接收反射激光Lr、測量反射激光Lr的強度并控制發(fā)射激光的輸出所需的時間。發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，構(gòu)成異物的凝集物具有約0.1至5mm的周向長度，且構(gòu)成異物的凝集物的厚度最大為約數(shù)ym，且平均為約2至3 μπι。
[0054]通過利用速度控制單元8控制旋轉(zhuǎn)輥2的轉(zhuǎn)速和/或控制激光響應時間，能立即一一或換言之，在檢測到的異物通過激光發(fā)射位置(激光可發(fā)射范圍)之前一一用具有按照異物的厚度被控制的輸出值的激光照射由檢測器6檢測到的異物。
[0055]在由速度控制單元8執(zhí)行的控制期間，速度控制單元8向檢測器6、激光輸出值控制單元7和旋轉(zhuǎn)輥2(驅(qū)動旋轉(zhuǎn)輥2旋轉(zhuǎn)的致動器，圖中未示出)發(fā)送與滿足關(guān)系式VXS彡D/1000(D彡0.1mm)所需的轉(zhuǎn)速V和激光響應時間S有關(guān)的控制信號(圖1中的信號 U3)。
[0056]注意，構(gòu)成旋轉(zhuǎn)輥表面清潔裝置20的檢測器6、激光輸出值控制單元7和速度控制單元8可連同圖中未示出的CPU—起內(nèi)置在單個計算機中并通過總線等彼此連接以能夠交換數(shù)據(jù)，或者可分別內(nèi)置在各單獨的計算機中并由專用CPU操作以無線或有線地交換數(shù)據(jù)。
[0057]對于旁邊設置有圖中所示的旋轉(zhuǎn)輥表面清潔裝置20的制造裝置10，當確定存在異物時，能用具有足以使異物升華的能量的激光照射和除去異物，結(jié)果，能清潔旋轉(zhuǎn)輥2的表面。此外，在檢測到異物之后，在異物返回到爐I的排出口 Ib下方的位置之前執(zhí)行對檢測到的異物的除去。因此，能在繼續(xù)使旋轉(zhuǎn)輥2旋轉(zhuǎn)的同時一一或換言之，在不需要執(zhí)行暫時停止旋轉(zhuǎn)輥2的旋轉(zhuǎn)以除去異物的操作的情況下一一可靠地從旋轉(zhuǎn)輥2的表面上除去異物。結(jié)果，能尚效率地制造尚品質(zhì)的急冷帶。
[0058]此外，如圖2A所示，在構(gòu)成制造裝置10的爐I的下方設置有輪子％，從而使爐I能沿活動臺架9a在旋轉(zhuǎn)輥2的寬度方向上滑動(Zl方向)。
[0059]當熔融金屬Y被實際地供給到旋轉(zhuǎn)輥2的表面上時，優(yōu)選執(zhí)行控制以使爐I從在具有寬度t的旋轉(zhuǎn)輥2的寬度方向上的中心位置PO滑動到另一位置，例如左位置Pl和右位置P2。這樣一來，可防止所供給的熔融金屬Y集中在旋轉(zhuǎn)輥2的表面上的特定位置。
[0060]如圖2B至2D所示，按照該構(gòu)型，通過接收反射激光來檢測異物的檢測器6、按照檢測到的異物的厚度來控制發(fā)射激光的輸出的激光輸出值控制單元7和發(fā)射經(jīng)控制后的激光的激光振蕩器4分別設置有輪子9f以便能夠在與爐I的移動相同的方向上并與其移動同步地分別沿活動臺架9c、9d、9e移動。
[0061]接下來，將參照圖3A和3B描述能利用由速度控制單元8執(zhí)行的控制通過氣化來更可靠地通過激光除去附著于旋轉(zhuǎn)輥2的表面上的異物的方式。
[0062]如圖3A所示，假設在旋轉(zhuǎn)輥2的表面上存在沿旋轉(zhuǎn)輥2的周向具有長度q的異物F。
[0063]在激光Li已被發(fā)射到異物F的端部上之后，反射激光Lr到達檢測器6，藉此確定異物F的存在和厚度。
[0064]在速度控制單元8中，將旋轉(zhuǎn)輥2的轉(zhuǎn)速V和激光響應時間S中的至少一者控制成使得旋轉(zhuǎn)輥2的轉(zhuǎn)速V和激光響應時間S滿足關(guān)系式VXS ( D/1000(D彡0.1mm)。例如，將附著于旋轉(zhuǎn)輥2的表面上的異物F的長度D設定為0.1mm，且因此將旋轉(zhuǎn)輥2的轉(zhuǎn)速V和激光響應時間S中的至少一者調(diào)節(jié)成滿足VXS ( 0.1X10_3。
[0065]例如，當旋轉(zhuǎn)輥2的轉(zhuǎn)速恒定時，具有按照異物F的厚度被控制的輸出值的激光Li’在滿足以上關(guān)系式的激光響應時間S內(nèi)被更可靠地發(fā)射到從圖3A所示的狀態(tài)移動的異物F上。
[0066]接下來，將參照圖4概述通過上述的旋轉(zhuǎn)輥表面清潔裝置或換言之旋轉(zhuǎn)輥表面清潔方法執(zhí)行的一系列動作。
[0067]在圖中所示的旋轉(zhuǎn)輥表面清潔方法中，除去旋轉(zhuǎn)輥的表面上的異物，同時繼續(xù)使旋轉(zhuǎn)輥旋轉(zhuǎn)并繼續(xù)制造急冷帶，并且不影響所制造的急冷帶的品質(zhì)。該方法包括檢測旋轉(zhuǎn)輥的表面上的異物，以及在檢測后、在異物通過激光發(fā)射位置之前即時地用具有與異物的厚度對應的激光照射異物以使異物升華(氣化)。
[0068]首先，通過將驅(qū)動旋轉(zhuǎn)輥的致動器接通來使旋轉(zhuǎn)輥旋轉(zhuǎn)。相應地，熔融金屬從爐滴下并被旋轉(zhuǎn)輥急速冷卻，藉此制造急冷帶(步驟Si)。
[0069]用皮米波激光持續(xù)地照射旋轉(zhuǎn)輥表面上的期望部位(步驟S2)。注意，爐被控制成從旋轉(zhuǎn)輥的寬度方向中心位置定期地向左和向右滑動，且通過使爐以此方式滑動，能有效地利用旋轉(zhuǎn)輥的全部表面。結(jié)果，能避免旋轉(zhuǎn)輥的表面上的溫度由于熔融金屬而上升且在旋轉(zhuǎn)輥表面上的單個位置發(fā)生損傷的狀況。
[0070]然后接收由發(fā)射到旋轉(zhuǎn)輥表面上的皮米波激光的反射所獲得的反射激光，并測量反射激光的強度(能量)(步驟S3)。
[0071]按照反射激光的強度來檢測異物(確定異物的有無)(步驟S4)。
[0072]當未檢測到異物時(當確定不存在異物時)，不需要進一步的措施，且因此繼續(xù)旋轉(zhuǎn)輥的旋轉(zhuǎn)和急冷帶的制造(步驟S7)。
[0073]另一方面，當檢測到異物時(當確定存在異物時)，按照異物的厚度來調(diào)節(jié)激光輸出值(步驟S5)。
[0074]通過用具有經(jīng)調(diào)節(jié)后的激光輸出值的激光照射異物，從旋轉(zhuǎn)輥的表面除去異物(步驟S6) ο
[0075]這里，貫穿步驟SI至S5，將旋轉(zhuǎn)輥的轉(zhuǎn)速V和激光響應時間S中的至少一者適當?shù)卣{(diào)節(jié)成使得旋轉(zhuǎn)輥的轉(zhuǎn)速V和激光響應時間S被維持為滿足關(guān)系式VXS ^ D/1000(D 彡 0.1mm)(步驟 S8)。
[0076]由于在步驟S8中執(zhí)行的調(diào)節(jié)，在檢測到的異物到達位于爐的排出口正下方的位置之前通過激光照射除去了在旋轉(zhuǎn)輥的表面上檢測到的異物。因此，從爐供給的熔融金屬的急速冷卻不會被異物阻礙，結(jié)果，能制造具有優(yōu)良品質(zhì)的急冷帶。此外，由于在處理流程期間不需要停止旋轉(zhuǎn)輥的旋轉(zhuǎn)，所以能由所供給的熔融金屬連續(xù)地制造急冷帶。
[0077]發(fā)明人利用三角法在檢測器中對由凝集物構(gòu)成的異物進行了測量。可以判定出輥產(chǎn)生位移(變位)的部位與異物的厚度對應。圖5示出與在寬度方向上的輥位置和輥位移(異物的厚度)有關(guān)的實驗結(jié)果。
[0078]如圖中所示，在該實驗中，在離寬度為250mm的旋轉(zhuǎn)輥的左端約130mm的位置(大致為寬度方向中心位置)計算出了約5 μπι的輥位移。
[0079]發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，異物的平均厚度為約2至3 μπι，但在此實驗中，附著的異物具有比平均值大的厚度。
[0080]通過以此方式在檢測器中應用三角法，能以高精度計算異物的厚度。
[0081]發(fā)明人進行了實驗以確定納米波激光和皮米波激光中的焦距和能量之間的關(guān)系。實驗結(jié)果在圖6Α中示出。
[0082]如從該圖顯而易見的，納米波激光具有約15 μπι的寬焦距，而皮米波激光具有約4μπι的窄焦距。
[0083]接下來，基于激光的相應能量分布來驗證旋轉(zhuǎn)輥表面上的異物的厚度和兩種類型激光的效用之間的關(guān)系。實驗結(jié)果在圖6Β中示出。
[0084]如上所述，異物的平均厚度為約2至3 μπι。當用具有約4 μπι的焦點深度的皮米波激光照射異物時，皮米波激光的影響不會波及位于異物下方的旋轉(zhuǎn)輥的表面和該表面下方的更深范圍。因此，當用皮米波激光照射異物時，皮米波激光不會損傷旋轉(zhuǎn)輥。
[0085]另一方面，當用具有約15 μπι的更深焦點深度的納米波激光照射異物時，納米波激光的影響波及至位于異物下方的旋轉(zhuǎn)輥的表面和該表面下方的更深范圍。因此，當用納米波激光照射異物時，納米波激光可能損傷旋轉(zhuǎn)棍。
[0086]考慮到這些驗證結(jié)果，在根據(jù)本發(fā)明的旋轉(zhuǎn)輥表面清潔方法和旋轉(zhuǎn)輥表面清潔裝置中優(yōu)選使用皮米波激光或波長比皮米波激光短的激光。
[0087]發(fā)明人在旋轉(zhuǎn)輥的表面上形成通過激光照射清潔了的部位和包括殘留凝集物的未經(jīng)清