掩模、形成有機層圖案的方法和制造顯示器的方法
【技術領域】
[0001]描述的技術總體涉及一種用于形成有機層圖案的掩模、通過利用該掩模來形成有機層圖案的方法和用于制造有機發(fā)光二極管顯示器的方法。
【背景技術】
[0002]有機發(fā)光二極管顯示器通常包括兩個電極和設置在兩個電極之間的有機發(fā)射層,其中,從一個電極注入的電子和從另一個電極注入的空穴在有機發(fā)射層中彼此結合以產生激子,激子放出能量以發(fā)光。
[0003]有機發(fā)光二極管顯示器的制造工藝有時包括在基板上形成多個層圖案的工藝。可以通過諸如噴墨印刷、絲網印刷和光刻的各種方法來形成層圖案。
[0004]具體地,當層是包括有機材料的有機層時,有機材料對氧和水非常敏感,從而不能使用諸如光刻的用于形成無機層圖案的普通方法。可以通過使用噴墨、旋轉器和噴嘴等的印刷工藝、沉積和圖案化工藝、利用陰影掩模的沉積工藝、利用熱的轉移工藝或激光來形成有機層圖案。
[0005]如上面描述的,用于形成有機層圖案的幾個方法中的轉移工藝被廣泛地用作以低成本且簡單地在較大的基板上形成層圖案的方法。
[0006]在本【背景技術】部分中公開的上述信息僅用于增強對所描述的技術的背景的理解,因此它可以包含沒有形成在這個國家已被本領域技術人員所知曉的現(xiàn)有技術的信息。
【發(fā)明內容】
[0007]不例性實施例提供一種用于形成有機層圖案同時提尚應用效率和有機層材料的利用量的掩模、一種通過利用該掩模來形成有機層圖案的方法,以及有機發(fā)光二極管顯示器的制造方法。
[0008]根據(jù)示例性實施例的用于形成有機層圖案的掩模包括:包括第一基板和形成在第一基板上的反射層的光掩模;布置在光掩模上以與光掩模分隔開并包括第二基板和形成在第二基板上的吸收部的供體基板,其中,光掩模包括將入射到光掩模的光反射的反射部和將光會聚以將光傳輸?shù)焦w基板的光會聚部。
[0009]反射部和光會聚部可以交替地設置。
[0010]多個光會聚圖案可以形成在第一基板的表面中的光會聚部處,光會聚圖案可以具有凹雕形狀,凹雕形狀可以是凹半圓形的剖面,凹雕形狀可以具有凸半圓形的剖面,并且凹雕形狀可以具有凹三角形的剖面。
[0011]光會聚圖案可以具有浮雕形狀,浮雕形狀可以是凸半圓形狀。
[0012]反射層可以形成在反射部處。
[0013]根據(jù)示例性實施例的一種形成有機層圖案的方法包括:在用于形成有機層圖案的掩模的吸收部上涂覆有機層,掩模包括具有反射層的光掩模和設置在光掩模上以與光掩模間隔開并包括吸收部的供體基板;將用于形成有機層圖案的掩模和第一目標基板對準;通過將光照射到用于形成有機層圖案的掩模的后表面來加熱吸收部以在第一目標基板處形成第一有機層圖案。
[0014]光掩??梢园▽⑷肷涞焦庋谀5墓夥瓷涞姆瓷洳亢蛯⒐鈺垡詡鬏?shù)焦w基板的光會聚部。
[0015]反射部和光會聚部可以交替地設置。
[0016]可以將有機層中的形成在與光會聚部對應的位置處的轉移有機層轉移到第一目標基板以形成第一有機層圖案。
[0017]所述方法還可以包括:移動光掩模以將光掩模的光會聚部與供體基板的有機層中的未轉移的有機層疊置;將用于形成有機層圖案的掩模和第二目標基板彼此對準;通過將光照射到用于形成有機層圖案的掩模來加熱吸收部,以在第二目標基板處形成第二有機層圖案。
[0018]可以將未轉移的有機層轉移到第二目標基板以形成第二有機層圖案。
[0019]光會聚部可以包括多個光會聚圖案。
[0020]根據(jù)示例性實施例的制造有機發(fā)光二極管顯示器的方法包括:在第一目標基板上形成第一開關晶體管和第一驅動晶體管;形成連接到第一驅動晶體管的第一像素電極;在第一像素電極上形成第一有機發(fā)射層;在第一有機發(fā)射層上形成第一共電極。形成第一有機發(fā)射層的步驟包括:在用于形成有機層圖案的掩模的吸收部上涂覆有機層,該掩模包括具有反射層的光掩模和設置在光掩模上以與光掩模分開并包括吸收部的供體基板;將用于形成有機層圖案的掩模和形成有第一像素電極的第一目標基板對準;通過將光照射到用于形成有機層圖案的掩模的后表面來加熱吸收部,以在第一目標基板的第一像素電極上形成第一有機發(fā)射層。
[0021]光掩??梢园▽⑷肷涞焦庋谀5墓夥瓷涞姆瓷洳亢蛯⒐鈺垡詡鬏?shù)焦w基板的光會聚部。
[0022]可以交替地設置反射部和光會聚部,并且可以將有機層中的在與光會聚部對應的位置處形成的轉移有機層轉移到第一目標基板以形成第一有機發(fā)射層。
[0023]所述方法還可以包括:在第二目標基板上形成第二開關晶體管和第二驅動晶體管;形成連接到第二驅動晶體管的第二像素電極;在第二像素電極上形成第二有機發(fā)射層;在第二有機發(fā)射層上形成第二共電極。形成第二有機發(fā)射層的步驟可以包括:移動光掩模以將光掩模的光會聚部和供體基板的有機層中的未轉移的有機層疊置;將用于形成有機層圖案的掩模和形成有第二像素電極的第二目標基板彼此對準;通過將光照射到用于形成有機層圖案的掩模來加熱吸收部,以在第二目標基板的第二像素電極上形成第二有機發(fā)射層。
[0024]可將未轉移的有機層轉移到第二目標基板以形成第二有機發(fā)射層。
[0025]光會聚部可以包括多個光會聚圖案。
[0026]在根據(jù)示例性實施例的用于形成有機層圖案的掩模、利用該掩模來形成有機層圖案的方法和有機發(fā)光二極管顯示器的制造方法中,通過在彼此分隔開的光掩模和供體基板處形成反射層與吸收部,以及在光掩模處形成多個光會聚圖案,可以通過利用在供體基板上一次形成的有機層來在至少一個或更多個目標基板上形成有機層圖案,使得可以提高用于形成有機層圖案的掩模的使用效率并且可以增加有機層材料的利用量。
[0027]此外,因為反射層和吸收部彼此分隔開,所以消除了在反射層與吸收部接觸的光掩模中會產生的剝離現(xiàn)象,使得無需額外的維護成本,從而降低制造成本。
【附圖說明】
[0028]圖1是根據(jù)示例性實施例的用于形成有機層圖案的掩模的剖面圖。
[0029]圖2是根據(jù)另一示例性實施例的用于形成有機層圖案的掩模的剖面圖。
[0030]圖3是根據(jù)另一示例性實施例的用于形成有機層圖案的掩模的剖面圖。
[0031]圖4是根據(jù)另一示例性實施例的用于形成有機層圖案的掩模的剖面圖。
[0032]圖5至圖9是順序地示出根據(jù)另一示例性實施例的通過利用用于形成有機層圖案的掩模來形成有機層圖案的方法的剖面圖。
[0033]圖10至圖16是順序地示出根據(jù)示例性實施例的利用用于形成有機層圖案的掩模制造有機發(fā)光二極管顯示器的方法的剖面圖。
【具體實施方式】
[0034]在下文中,將參照其中示出了本發(fā)明的示例性實施例的附圖來更全面地描述示例性實施例。如本領域技術人員將意識到的,在所有未脫離本發(fā)明的精神或范圍的前提下,可以以各種不同的方式來修改描述的實施例。
[0035]在下面的整個本說明書和權利要求書中,除非明確地描述為相反,否則詞語“包括”或諸如“包含”或“含有”的變型將被理解為意指包含所述的元件,但并非排除任何其他元件。在下面的實施例的描述中,將被理解的是,當諸如層(膜)、區(qū)域、圖案或結構的元件被稱作“在”另一元件“之上”或“之下”時,它能夠“直接在”另一元件之上或之下,或者能夠被“間接地”形成,從而也存在中間元件。此外,諸如“在…之上”或“在…之下”的術語應基于附圖來理解。此外,這里可以使用“在…之上”或“在…之下”的表述來表示如附圖中示出的一個元件與另一個元件的關系。將被理解的是,這種表述意圖包括除附圖中描繪的方位以外的元件的不同方位,即,既包括“在…之上”又包括“在…之下”。
[0036]圖1是根據(jù)示例性實施例的用于形成有機層圖案的掩模的剖面圖。
[0037]如圖1中所示,根據(jù)示例性實施例的用于形成有機層圖案的掩模I包括光掩模10和在光掩模10上的與光掩模10分隔開第一間距dl的供體基板20。
[0038]光掩模10包括第