基板處理裝置及基板保持構(gòu)件的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種基板處理裝置及在該基板處理裝置中使用的基板保持構(gòu)件。
【背景技術(shù)】
[0002]在移動終端的觸摸面板的制造工序中,包括在玻璃基板上涂覆作為濾色膜的藥液的處理,然后進(jìn)行真空干燥處理、加熱處理及冷卻處理的工序。以往,在進(jìn)行這些處理時,如專利文獻(xiàn)1、2所示,使用機(jī)械手將基板搬運至各處理單元。
[0003]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0004]專利文獻(xiàn)
[0005]專利文獻(xiàn)1:日本專利特開2010 - 80856號公報
[0006]專利文獻(xiàn)2:日本專利特開2012 - 222087號公報
[0007]因而,在基板的處理時間中,除了包括實際對基板進(jìn)行處理的時間之外,還包括使用機(jī)械手將基板放入各處理單元及將基板從各處理單元拆下的時間、即基板的搬運時間。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0008]因此,本發(fā)明的目的在于提供一種能夠縮短基板的處理時間、特別是縮短基板的搬運時間的基板處理裝置及基板保持構(gòu)件。
[0009]本申請的第一方面是對基板進(jìn)行處理的基板處理裝置,其特征是,包括:基板保持構(gòu)件,該基板保持構(gòu)件對基板進(jìn)行保持;處理部,該處理部具有對基板進(jìn)行處理的多個處理單元;以及搬運元件,該搬運元件對基板進(jìn)行搬運,上述搬運元件構(gòu)成為在上述基板保持構(gòu)件保持有基板的狀態(tài)下,將上述基板保持構(gòu)件在各上述處理單元之間水平地搬運,各上述處理單元從上方和/或下方接近上述基板保持構(gòu)件。
[0010]根據(jù)上述結(jié)構(gòu),由于基板在保持于基板保持構(gòu)件的狀態(tài)下在各處理單元之間水平地搬運,因此,能夠省略在各處理單元中利用機(jī)械手將基板載置到基板保持構(gòu)件上及將基板從基板保持構(gòu)件拆下的作業(yè),從而能夠縮短基板的搬運時間。
[0011 ] 在上述第一方面中,較為理想的是,還包括以下結(jié)構(gòu)。
[0012](I)上述基板保持構(gòu)件包括:具有開口部的框體;以及膜體,該膜體覆蓋上述開口部,并安裝于上述框體,
[0013]基板載置在上述膜體上,
[0014]上述膜體由具有透氣性的膜制成。
[0015](2)上述處理部包括對基板進(jìn)行涂覆處理的涂覆單元,
[0016]上述涂覆單元包括:平臺,該平臺從下方對載置有基板的上述基板保持構(gòu)件進(jìn)行支承;以及涂覆構(gòu)件,該涂覆構(gòu)件從上述基板的上方對上述基板進(jìn)行涂覆,
[0017]上述平臺能夠沿上下方向移動。
[0018](3)上述處理部包括對基板進(jìn)行真空干燥處理的真空干燥單元,
[0019]上述真空干燥單元包括:
[0020]上腔室,該上腔室從載置有基板的上述基板保持構(gòu)件的上方與上述基板保持構(gòu)件抵接,并覆蓋上述基板保持構(gòu)件的上方;以及
[0021]下腔室,該下腔室從載置有基板的上述基板保持構(gòu)件的下方與上述基板保持構(gòu)件抵接,并覆蓋上述基板保持構(gòu)件的下方,
[0022]上述上腔室及上述下腔室能夠沿上下方向移動。
[0023](4)上述處理部包括對基板進(jìn)行加熱的加熱單元,
[0024]上述加熱單元包括從載置有基板的上述基板保持構(gòu)件的上方和/或下方對基板進(jìn)行加熱的加熱構(gòu)件,
[0025]上述加熱構(gòu)件能夠沿上下方向移動。
[0026](5)上述處理部包括對基板進(jìn)行冷卻的冷卻單元,
[0027]上述冷卻單元包括從載置有基板的上述基板保持構(gòu)件的上方和/或下方對基板進(jìn)行冷卻的冷卻構(gòu)件,
[0028]上述冷卻構(gòu)件能夠沿上下方向移動。
[0029](6)在上述結(jié)構(gòu)(I)中,上述基板處理裝置還包括將基板從上述基板保持構(gòu)件拆下的拆卸機(jī)構(gòu),
[0030]上述膜體具有伸縮性,
[0031]上述拆卸機(jī)構(gòu)包括:
[0032]上推構(gòu)件,該上推構(gòu)件從上述基板保持構(gòu)件的下方將上述膜體及上述基板朝上方推動;以及
[0033]載置構(gòu)件,該載置構(gòu)件插入到通過上述上推構(gòu)件將上述膜體及上述基板朝上推動而產(chǎn)生的、上述膜體與上述基板的間隙中,并且上述載置構(gòu)件供上述基板。
[0034](7)上述搬運元件以使上述基板保持構(gòu)件循環(huán)的方式進(jìn)行搬運。
[0035](8)上述基板保持構(gòu)件和/或上述處理單元能夠相對于上述基板處理裝置拆卸。
[0036](9)在上述結(jié)構(gòu)(7)中,上述搬運元件包括呈圓形或橢圓形的搬運帶以及使上述搬運帶動作的動作機(jī)構(gòu),
[0037]在上述搬運帶上連接有多個基板保持構(gòu)件,
[0038]在上述基板保持構(gòu)件的外周側(cè),與上述基板保持構(gòu)件連接有另外的基板保持構(gòu)件。
[0039](10)在上述結(jié)構(gòu)(7)中,上述搬運元件包括:圓形的搬運帶;使上述搬運帶旋轉(zhuǎn)的動作機(jī)構(gòu);以及作為上述搬運帶的旋轉(zhuǎn)中心的軸,
[0040]上述搬運帶能夠相對于上述軸自由裝拆。
[0041](11)上述搬運元件包括:彼此位于上下方向的位置的多個搬運帶;以及使多個上述搬運帶動作的動作機(jī)構(gòu),
[0042]在各上述搬運帶上連接有多個基板保持構(gòu)件,
[0043]與上述搬運帶連接的基板保持構(gòu)件配置在與另一個上述搬運帶連接的基板保持構(gòu)件的上下方向的位置上。
[0044]根據(jù)上述結(jié)構(gòu)(I),通過將基板載置在由具有透氣性的膜制成的膜體上,就能夠在將基板保持于基板保持構(gòu)件的狀態(tài)下在各處理單元之間進(jìn)行搬運。
[0045]根據(jù)上述結(jié)構(gòu)(2),能夠利用涂覆單元對載置在基板保持構(gòu)件上的基板進(jìn)行涂覆。
[0046]根據(jù)上述結(jié)構(gòu)(3),能夠利用真空干燥單元對載置在基板保持構(gòu)件上的基板進(jìn)行真空干燥。
[0047]根據(jù)上述結(jié)構(gòu)(4),能夠利用加熱單元對載置在基板保持構(gòu)件上的基板進(jìn)行加熱。
[0048]根據(jù)上述結(jié)構(gòu)(5),能夠利用冷卻單元對載置在基板保持構(gòu)件上的基板進(jìn)行冷卻。
[0049]根據(jù)上述結(jié)構(gòu)(6),能夠利用拆卸機(jī)構(gòu)將在基板保持構(gòu)件載置的基板從基板保持構(gòu)件拆下。
[0050]根據(jù)上述結(jié)構(gòu)(7),通過使基板保持構(gòu)件循環(huán),就能夠減少基板處理裝置的設(shè)置面積。
[0051]根據(jù)上述結(jié)構(gòu)(8),由于能夠?qū)⑿枰幕灞3謽?gòu)件和/或處理單元安裝在基板處理裝置上,并將不需要的基板保持構(gòu)件和/或處理單元拆下,因此,能夠形成與基板處理內(nèi)容相應(yīng)的、合理的基板處理裝置。
[0052]根據(jù)上述結(jié)構(gòu)(9),由于基板處理裝置在基板保持構(gòu)件的外周還包括基板保持構(gòu)件,因此,能夠增大基板處理裝置的基板處理量。
[0053]根據(jù)上述結(jié)構(gòu)(10),由于搬運帶能夠自由裝拆,因此,能夠通過改變所安裝的搬運帶的大小,來對基板處理裝置的生產(chǎn)量及設(shè)置面積進(jìn)行調(diào)節(jié)。
[0054]根據(jù)上述結(jié)構(gòu)(11),由于基板處理裝置在基板保持構(gòu)件的上下方向的位置上還包括基板保持構(gòu)件,因此,能夠在幾乎不增加基板處理裝置的設(shè)置面積的情況下增加基板處理裝置的基板處理量。
[0055]本申請的第二方面是一種在基板處理裝置中使用的基板保持構(gòu)件,其特征是,
[0056]上述基板保持構(gòu)件包括:具有開口部的框體;以及膜體,該膜體覆蓋上述開口部,并安裝于上述框體,
[0057]將基板載置在上述膜體上,
[0058]上述膜體由具有透氣性的膜制成。
[0059]根據(jù)上述結(jié)構(gòu),通過將基板載置在由具有透氣性的膜制成的膜體上,能夠在將基板保持于基板保持構(gòu)件的狀態(tài)下在各處理單元之間水平地搬運。其結(jié)果是,能夠省略在各處理單元中將基板載置到基板保持構(gòu)件上及將基板從基板保持構(gòu)件拆下的作業(yè),從而能夠縮短搬運時間。
[0060]總而言之,根據(jù)本發(fā)明,可提供能縮短基板的搬運時間的基板處理裝置及基板保持構(gòu)件。
【附圖說明】
[0061]圖1是本發(fā)明實施方式的基板處理裝置的示意俯視圖。
[0062]圖2是基板保持構(gòu)件的不意俯視圖。
[0063]圖3是圖2的II1-1II剖視圖。
[0064]圖4是表示利用涂覆單元對基板進(jìn)行涂覆處理的作業(yè)的示意剖視圖。
[0065]圖5是表示利用涂覆單元對基板進(jìn)行涂覆處理的作業(yè)的示意剖視圖。
[0066]圖6是表示利用真空干燥單元對基板進(jìn)行真空干燥處理的作業(yè)的示意剖視圖。
[0067]圖7是表