一種修復(fù)tft面板陣列t形缺陷的測試結(jié)構(gòu)及方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及醫(yī)療檢測領(lǐng)域，特別是涉及一種修復(fù)TFT面板陣列T形缺陷的測試結(jié)構(gòu)及方法。
【背景技術(shù)】
[0002]從1995年RSNA上推出第一臺平板探測器(Flat Panel Detector)設(shè)備以來，隨著近年平板探測技術(shù)取得飛躍性的發(fā)展，在平板探測器的研發(fā)和生產(chǎn)過程中，平板探測技術(shù)可分為直接和間接兩類。間接FPD的結(jié)構(gòu)主要是由閃爍體或熒光體層加具有光電二極管作用的非晶娃層(amorphous Silicon，a_Si)再加薄膜半導(dǎo)體陣列(Thin Film Transistorarray, TFT)構(gòu)成。
[0003]非晶硅X射線平板探測器的成像過程需要經(jīng)歷“X射線”到“可見光”，然后“電荷圖像”到“數(shù)字圖像”的成像轉(zhuǎn)換過程，是一種以非晶硅光電二極管陣列為核心的X射線影像探測器。在X射線照射下探測器的閃爍體或熒光體層將X射線光子轉(zhuǎn)換為可見光，而后由具有光電二極管作用的非晶硅陣列變?yōu)閳D像電信號，通過外圍電路積分讀出及A/D變換，從而獲得數(shù)字化圖像。非晶硅平板探測器具有成像速度快，良好的空間及密度分辨率，高信噪比，直接數(shù)字輸出等顯著優(yōu)點(diǎn)。
[0004]但是，在非晶硅TFT面板陣列的生產(chǎn)過程中，會引入一些雜質(zhì)，導(dǎo)致個別像素點(diǎn)因?yàn)槎搪?、擊穿、漏電等，造成該像素點(diǎn)的灰度值飽和，并影響周圍的像素，最終在整個圖像上形成一個大寫“T”形的缺陷。針對這種缺陷，當(dāng)前的修復(fù)方式是從非晶硅TFT面板陣列的正面用激光將該像素通道打通，從而隔離該像素，使其不影響其他周圍的像素。
[0005]除了在生產(chǎn)非晶硅TFT面板陣列時(shí)會引入雜質(zhì)，在給非晶硅TFT面板陣列的正面附著一層閃爍體的工藝過程中，也會出現(xiàn)“T”型缺陷，由于正面已經(jīng)覆蓋了閃爍體，難以分離，激光被閃爍體擋住，無法從正面無法穿過閃爍體，因此，此時(shí)形成的T形缺陷不能從非晶硅TFT面板陣列的正面進(jìn)行修復(fù)。
[0006]因此，提供一種新的修復(fù)TFT面板陣列T形缺陷的測試結(jié)構(gòu)及方法是本領(lǐng)域技術(shù)人員需要解決的課題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，本發(fā)明的目的在于提供一種修復(fù)TFT面板陣列T形缺陷的測試結(jié)構(gòu)及方法，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中TFT面板陣列正面制作閃爍體后，無法從正面修復(fù)T形缺陷的問題。
[0008]為實(shí)現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本發(fā)明提供一種修復(fù)TFT面板陣列T形缺陷的測試結(jié)構(gòu)，所述測試結(jié)構(gòu)至少包括:支撐件和連接件；
[0009]所述支撐件包括支撐平臺和安裝在所述支撐平臺上的緩沖層和支撐柱；
[0010]所述緩沖層上承載有待修復(fù)的非晶硅TFT面板陣列，所述非晶硅TFT面板陣列具有第一表面和第二表面，所述第一表面形成有閃爍體層，所述閃爍體層與所述緩沖層物理接觸；
[0011]所述連接件包括與所述非晶硅TFT面板陣列電連的柔性電路板、和與所述柔性電路板電連的信號處理電路板，所述信號處理電路板由所述支撐柱所支撐。
[0012]作為本發(fā)明修復(fù)TFT面板陣列T形缺陷的測試結(jié)構(gòu)的一種優(yōu)化的方案，所述支撐柱焊接在所述支撐平臺上或者通過螺紋固定在所述支撐平臺上。
[0013]作為本發(fā)明修復(fù)TFT面板陣列T形缺陷的測試結(jié)構(gòu)的一種優(yōu)化的方案，所述支撐柱為招金屬。
[0014]作為本發(fā)明修復(fù)TFT面板陣列T形缺陷的測試結(jié)構(gòu)的一種優(yōu)化的方案，所述信號處理電路板上設(shè)置有連接器，所述柔性電路板通過所述連接器與信號處理電路板電連。
[0015]作為本發(fā)明修復(fù)TFT面板陣列T形缺陷的測試結(jié)構(gòu)的一種優(yōu)化的方案，所述緩沖層為硅膠墊。
[0016]作為本發(fā)明修復(fù)TFT面板陣列T形缺陷的測試結(jié)構(gòu)的一種優(yōu)化的方案，所述非晶硅TFT面板陣列的第二表面朝上，所述第二表面覆蓋有透明基板。
[0017]作為本發(fā)明修復(fù)TFT面板陣列T形缺陷的測試結(jié)構(gòu)的一種優(yōu)化的方案，所述閃爍體層為GOS或Cs I。
[0018]本發(fā)明還提供一種修復(fù)TFT面板陣列T形缺陷的方法，所述方法包括:將所述非晶硅TFT面板陣列倒置于支撐平臺上的緩沖層表面，用所述支撐柱支撐信號處理電路板，激光從所述非晶硅TFT面板陣列的第二表面入射，隔離缺陷像素點(diǎn)。
[0019]作為本發(fā)明修復(fù)TFT面板陣列T形缺陷的方法的一種優(yōu)化的方案，所述信號處理電路板為倒扣式安裝，并由所述支撐柱支撐。
[0020]作為本發(fā)明修復(fù)TFT面板陣列T形缺陷的方法的一種優(yōu)化的方案，所述激光穿過透明基板，從所述第二表面入射到達(dá)非晶硅TFT面板陣列上的缺陷像素點(diǎn)。
[0021]如上所述，本發(fā)明修復(fù)TFT面板陣列T形缺陷的測試結(jié)構(gòu)及方法，所述測試結(jié)構(gòu)至少包括:支撐件和連接件；所述支撐件包括支撐平臺和安裝在所述支撐平臺上的緩沖層和支撐柱；所述緩沖層上承載有待修復(fù)的非晶硅TFT面板陣列，所述非晶硅TFT面板陣列具有第一表面和第二表面，所述第一表面形成有閃爍體層，所述閃爍體層與所述緩沖層物理接觸；所述連接件包括與所述非晶硅TFT面板陣列電連的柔性電路板、和與所述柔性電路板電連的信號處理電路板，所述信號處理電路板由所述支撐柱所支撐。本發(fā)明通過在支撐平臺上設(shè)置支撐件，再利用柔性電路板和信號處理電路板，使非晶硅TFT面板陣列能夠倒置于支撐平臺上，從而將使激光可以從非晶硅TFT面板陣列的背面入射，找到并隔離修復(fù)受損像素點(diǎn)。
【附圖說明】
[0022]圖1為現(xiàn)有技術(shù)的測試結(jié)構(gòu)無法修復(fù)TFT面板陣列T形缺陷的示意圖。
[0023]圖2為本發(fā)明的修復(fù)TFT面板陣列T形缺陷的測試結(jié)構(gòu)示意圖。
[0024]元件標(biāo)號說明
[0025]I支撐平臺
[0026]2緩沖層
[0027]3閃爍體
[0028]4非晶硅TFT面板陣列
[0029]41第一表面
[0030]42第二表面
[0031]5支撐柱
[0032]6電路板
[0033]61連接器
[0034]7柔性電路板
【具體實(shí)施方式】
[0035]以下通過特定的具體實(shí)例說明本發(fā)明的實(shí)施方式，本領(lǐng)域技術(shù)人員可由本說明書所揭露的內(nèi)容輕易地了解本發(fā)明的其他優(yōu)點(diǎn)與功效。本發(fā)明還可以通過另外不同的【具體實(shí)施方式】加以實(shí)施或應(yīng)用，本說明書中的各項(xiàng)細(xì)節(jié)也可以基于不同觀點(diǎn)與應(yīng)用，在沒有背離本發(fā)明的精神下進(jìn)行各種修飾或改變。
[0036]請參閱附圖。需要說明的是，本實(shí)施例中所提供的圖示僅以示意方式說明本發(fā)明的基本構(gòu)想，遂圖式中僅顯示與本發(fā)明中有關(guān)的組件而非按照實(shí)際實(shí)施時(shí)的組件數(shù)目、形狀及尺寸繪制，其實(shí)際實(shí)施時(shí)各組件的型態(tài)、數(shù)量及比例可為一種隨意的改變，且其組件布局型態(tài)也可能更為復(fù)雜。
[0037]現(xiàn)有技術(shù)中，一般將非晶硅TFT面板陣列正面朝上放置進(jìn)行缺陷像素電的修復(fù)。如果非晶硅TFT面板陣列正面沒有形成閃爍體層，則這種放置方式可以順利進(jìn)行像素點(diǎn)的修復(fù)操作，但是如果所述非晶硅TFT面板陣列的表面已經(jīng)形成閃爍體層，則這種放置方式則會由于閃爍體的遮擋而無法進(jìn)行激光修復(fù)。如圖1所示，激光從正面入射，被閃爍體3擋住，無法達(dá)到非晶硅TFT面板陣列4上的缺陷像素點(diǎn)。
[0038]有鑒于此，本發(fā)明提供一種修復(fù)TFT面板陣列T形缺陷的測試結(jié)構(gòu)及方法，與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明在支撐平臺上增加了結(jié)構(gòu)支撐柱，利用專門設(shè)計(jì)的轉(zhuǎn)接電路板和連接器，使所述非晶硅TFT面板陣列倒扣于支撐平臺上，從而使激光入射進(jìn)入非晶硅TFT面板陣列的背面，能夠順利摘到并隔離受損的像素點(diǎn)。
[0039]以下將詳細(xì)闡述本發(fā)明的修復(fù)TFT面板陣列T形缺陷的測試結(jié)構(gòu)及方法的原理及實(shí)施方式，使本領(lǐng)域技術(shù)人員不需要創(chuàng)造性勞動