顯示裝置及其制造方法
【專利說明】顯示裝置及其制造方法
[0001]本申請要求于2014年8月29日提交的第10-2014-0114517號韓國專利申請的優(yōu)先權和權益，該韓國專利申請的公開內容通過引用全部包含于此。
技術領域
[0002]本發(fā)明的一個或更多個實施例涉及一種顯示裝置及其制造方法。
【背景技術】
[0003]最近，以各種方式使用顯示裝置。此外，隨著顯示裝置已經(jīng)變得厚度小且重量輕，顯示裝置的使用范圍已經(jīng)得到擴展。
[0004]具體地講，已經(jīng)使用便攜式薄平板顯示裝置取代顯示裝置。
[0005]顯示裝置在基板上可具有顯示區(qū)域以朝向用戶產(chǎn)生可見光線，并且發(fā)射光的顯示器件可形成在顯示區(qū)域中。
[0006]為了保護顯示器件免受外來物質影響，在顯示器件上形成包封層或包封構件。
[0007]然而，當包封構件的耐久性降低，因而包封構件未恰當?shù)乇Ｗo顯示器件時，顯示裝置的耐久性和圖像質量方面的改善受到限制。
[0008]具體地講，當包封構件未穩(wěn)定地覆蓋顯示器件而是剝落或損壞時，包封構件的包封特性劣化，從而影響顯示裝置的耐久性和圖像質量。

【發(fā)明內容】

[0009]本發(fā)明的一個或更多個實施例包括一種顯示裝置及其制造方法。
[0010]另外的方面將在下面的描述中部分地闡述，且部分地通過描述將是明顯的，或者可通過提出的實施例的實踐而獲知。
[0011]根據(jù)本發(fā)明的一個或更多個實施例，一種顯示裝置包括具有中央?yún)^(qū)域和圍繞所述中央?yún)^(qū)域的外周區(qū)域的基底，中央?yún)^(qū)域具有顯示區(qū)域。所述顯示裝置還包括:顯示區(qū)域無機層，位于顯示區(qū)域上，并延伸到外周區(qū)域的一部分；以及包封無機層，位于顯示區(qū)域無機層上，覆蓋顯示區(qū)域，并具有與顯示區(qū)域無機層的邊緣平行的邊緣，或者具有延伸越過顯示區(qū)域無機層的邊緣的邊緣。
[0012]包封無機層可比基底小，包封無機層的所述邊緣可與基底的邊緣隔開。
[0013]顯示區(qū)域無機層可比基底小，顯示區(qū)域無機層的所述邊緣可與基底的邊緣隔開。
[0014]包封無機層的至少一個邊緣可延伸越過顯示區(qū)域無機層的邊緣，從而可位于基底上。
[0015]包封無機層可包括主要區(qū)域以及連接到主要區(qū)域并比主要區(qū)域更接近基底的邊緣的陰影區(qū)域。
[0016]主要區(qū)域可延伸越過顯示區(qū)域無機層的邊緣，陰影區(qū)域可位于基底上。
[0017]主要區(qū)域的邊緣可不延伸越過顯示區(qū)域無機層的邊緣，陰影區(qū)域可接觸顯示區(qū)域無機層的側表面。
[0018]陰影區(qū)域可具有傾斜的側表面。
[0019]顯示裝置還可包括與顯示區(qū)域無機層分開的分開構件，包封無機層的陰影區(qū)域可不延伸越過分開構件，陰影區(qū)域可以不比分開構件更接近基底的邊緣。
[0020]陰影區(qū)域可接觸分開構件的側表面。
[0021]陰影區(qū)域可與分開構件的側表面分開。
[0022]分開構件可包括與顯示區(qū)域無機層的材料相同的材料。
[0023]顯示裝置還可包括介于基底與顯示區(qū)域無機層之間的阻擋層。
[0024]包封無機層的至少一個邊緣可延伸越過阻擋層的邊緣。
[0025]阻擋層的至少一個邊緣可延伸越過包封無機層的邊緣。
[0026]顯示裝置還可包括與顯示區(qū)域無機層分開的分開構件，包封無機層的陰影區(qū)域可不延伸越過分開構件，從而不比分開構件更接近基底的邊緣，分開構件可位于阻擋層上。
[0027]顯示裝置還可包括與顯示區(qū)域無機層分開的分開構件，包封無機層的陰影區(qū)域可不延伸越過分開構件，從而不比分開構件更接近基底的邊緣，分開構件可包括與阻擋層的材料相同的材料。
[0028]顯示裝置還可包括介于顯示區(qū)域無機層與包封無機層之間的包封有機層，以覆蓋顯示區(qū)域。
[0029]包封有機層可比顯示區(qū)域無機層小。
[0030]包封有機層可比包封無機層小。
[0031]顯示裝置還可包括比包封有機層更接近基底的邊緣的阻擋構件。
[0032]阻擋構件可包括多個阻擋構件。
[0033]多個阻擋構件的高度可不同。
[0034]包封無機層可包括多個堆疊的無機層。
[0035]顯示裝置還可包括覆蓋顯示區(qū)域的包封有機層，包封有機層可介于包封無機層的多個堆疊的無機層之間，并且可比多個堆疊的無機層小。
[0036]包封有機層可包括多個有機層，多個有機層中的至少一個可介于包封無機層的多個堆疊的無機層中的一個與顯示區(qū)域無機層之間。
[0037]顯示裝置還可包括介于顯示區(qū)域無機層與包封無機層之間的功能層。
[0038]功能層可包括適合于控制可見光線的折射率的層。
[0039]顯示裝置還可包括介于功能層與包封無機層之間的第一保護層。
[0040]顯示裝置還可包括位于包封無機層上的第二保護層，第二保護層可以比包封無機層大。
[0041]基底可包括有機材料。
[0042]顯示區(qū)域可包括:至少一個顯示器件；薄膜晶體管(TFT)，電連接到至少一個顯示器件，并包括有源層、柵極、源極和漏極，顯示區(qū)域無機層可接觸從所述源層、所述柵極、所述源極和所述漏極中選擇的至少一個。
[0043]顯示區(qū)域無機層可與柵極絕緣層和層間絕緣層中的至少一個對應，其中，柵極絕緣層可使有源層與柵極絕緣，層間絕緣層可使源極和漏極與柵極絕緣。
[0044]至少一個顯示器件可包括第一電極、第二電極以及介于第一電極與第二電極之間并包括有機發(fā)射層的中間層。
[0045]根據(jù)本發(fā)明的一個或更多個實施例，提供一種制造顯示裝置的方法，所述顯示裝置包括具有中央?yún)^(qū)域和圍繞中央?yún)^(qū)域的外周區(qū)域的基底。所述方法包括:在顯示區(qū)域上形成顯示區(qū)域無機層，顯示區(qū)域無機層延伸到外周區(qū)域的一部分；形成覆蓋顯示區(qū)域的包封無機層，包封無機層位于顯示區(qū)域無機層上，并具有與顯示區(qū)域無機層的邊緣平行的邊緣，或者具有伸出延伸越過顯示區(qū)域無機層的邊緣的邊緣。
[0046]可通過使用沉積方法執(zhí)行形成包封無機層的步驟。
[0047]形成包封無機層的步驟可包括通過使用掩模使包封無機層圖案化，以使包封無機層與基底的至少一個邊緣分開。
【附圖說明】
[0048]通過下面結合附圖對實施例進行的描述，這些和/或其它方面將變得明顯且更容易理解，在附圖中:
[0049]圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的實施例的顯示裝置的平面圖；
[0050]圖2是沿圖1的線I1-1I截取的顯示裝置的剖視圖；
[0051]圖3、圖4、圖5、圖6、圖7、圖8、圖9、圖10和圖11示出了圖2的顯示裝置的修改示例；
[0052]圖12示出了根據(jù)本發(fā)明的另一實施例的顯示裝置的平面圖；
[0053]圖13是沿圖12的線II1-1II截取的顯示裝置的剖視圖；
[0054]圖14、圖15、圖16、圖17、圖18、圖19、圖20、圖21、圖22和圖23示出了圖13的顯示裝置的修改示例；
[0055]圖24示出了根據(jù)本發(fā)明的另一實施例的顯示裝置的平面圖；
[0056]圖25是沿圖24的線IV-1V截取的顯示裝置的剖視圖；
[0057]圖26、圖27和圖28示出了圖25的顯示裝置的修改示例；
[0058]圖29示出了根據(jù)本發(fā)明的另一實施例的顯示裝置的平面圖；
[0059]圖30是沿圖29的線VA-VA和線VB-VB截取的顯示裝置的剖視圖；
[0060]圖31示出了根據(jù)本發(fā)明的另一實施例的顯示裝置的平面圖；
[0061]圖32是沿圖31的線VIA-VIA和線VIB-VIB截取的顯示裝置的剖視圖；
[0062]圖33示出了根據(jù)本發(fā)明的另一實施例的顯示裝置的平面圖；
[0063]圖34是沿圖33的線XA-XA和線XB-XB截取的顯示裝置的剖視圖。
【具體實施方式】
[0064]由于本發(fā)明允許各種改變和多種實施例，因此將在附圖中示出具體實施例并在書面描述中詳細描述具體實施例。通過下面參照示例性實施例和附圖進行的詳細描述，可更容易地理解本發(fā)明的效果和特征以及實現(xiàn)本發(fā)明的效果和特征的方法。然而，本發(fā)明可以以許多不同的形式來實施，且不應該被解釋為局限于在這里所闡述的實施例。
[0065]在下文中，在一個或更多個實施例中，盡管可使用如“第一”、“第二”等此種術語，但這樣的組件不必受限于以上術語，以上術語僅用于將一個組件與另一組件區(qū)分開。
[0066]在下文中，在一個或更多個實施例中，除非存在與之相反的具體描述，否則單數(shù)形式也可包括復數(shù)形式。
[0067]在下文中，在一個或更多個實施例中，諸如“包括”或“包含”的術語用于說明存在列舉的特征或組件，但不排除存在一個或更多個其它列舉的特征或一個或更多個其它組件。
[0068]在下文中，在一個或更多個實施例中，還將理解的是，當諸如層、區(qū)域或組件的元件被稱作“在”另一元件“上”時，該元件可直接在另一元件上，或者在所述元件與所述另一元件之間也可存在諸如層、區(qū)域或組件的中間元件。此外，當?shù)谝辉幻枋鰹椤敖Y合”或“連接”到第二元件時，第一元件可“直接結合”或“直接連接”到第二元件，或者可以在一個或更多個其它元件布置在它們之間的情況下“間接結合”或“間接連接”到第二元件。
[0069]在附圖中，為了便于描述并且為了清楚起見，夸大了層和區(qū)域的尺寸。例如，為了便于描述，每個元件的尺寸和厚度可以是隨意的，因此，本發(fā)明的一個或更多個實施例不限于此。
[0070]在下文中，在一個或更多個實施例中，X軸、Y軸和Z軸可不限于直角坐標系的三個軸，而是可解釋為包括三個軸的寬泛含義。例如，X軸、Y軸和Z軸可彼此垂直，或者可表示彼此不垂直的不同方向。
[0071]在一個或更多個實施例中，操作過程的順序可與描述的不同。例如，順序描述的兩個操作過程可同時或基本上同時執(zhí)行，或者可按照與描述的順序相反的順序執(zhí)行。
[0072]在下文中，下面將參照附圖更詳細地描述本發(fā)明的一個或更多個實施例。不管圖號如何，相同或相應的那些組件由相同的附圖標記呈現(xiàn)，并且省略冗余的解釋。
[0073]如這里使用的，術語“和/或”包括一個或更多個相關所列項的任意和所有組合。當諸如“…中的至少一個(種)(者)”的表述在一列元件之后時，修飾的是整列元件而不是修飾該列元件中的單個元件。
[0074]圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的實施例的顯示裝置1000的平面圖。圖2是沿圖1的線
I1-1I截取的顯示裝置1000的剖視圖。
[0075]參照圖1和圖2，顯示裝置1000包括基底101。具有顯示區(qū)域DA的中央?yún)^(qū)域CA以及設置在中央?yún)^(qū)域CA的周圍的外周區(qū)域PA限定在基底101上。
[0076]顯示區(qū)域無機層110和包封無機層120形成在基底101上。
[0077]下面更詳細地描述每個組件/結構。
[0078]基底101可包括各種材料。更詳細地講，基底101可由玻璃材料、金屬材料或一種或更多種合適的有機材料和/或其它合適的材料形成。
[0079]在實施例中，基底101可以是柔性基底101。這里，柔性基底101是指具有適合于折彎、彎曲、折疊和/或卷繞(例如，相對容易)的柔性的基底。柔性基底101可由超薄玻璃、金屬或塑料形成。例如，當使用塑料時，基底101可由聚酰亞胺(PI)形成，但一個或更多個實施例不限于此，而是可使用各種合適的材料中的一種或更多種。
[0080]顯示裝置1000可按照各種合適的方式來形成。在實施例中，可對母基底執(zhí)行處理以使母基底包括多個顯示裝置1000，然后可執(zhí)行切割工藝，從而可形成多個顯示裝置1000。在另一實施例中，可在一個母基底上形成一個顯示裝置1000。
[0081]基底101分成外周區(qū)域PA和中央?yún)^(qū)域CA。更具體地講，外周區(qū)域PA指與基底101的邊緣鄰近的區(qū)域，中央?yún)^(qū)域CA指與外周區(qū)域PA相比朝內布置的區(qū)域。
[0082]中央?yún)^(qū)域CA可包括至少一個顯示區(qū)域DA。
[0083]顯示區(qū)域DA可包括至少一個顯示器件(未示出)，例如，用于顯示圖像的有機發(fā)光器件(0LED)。此外，多個像素可設置在顯示區(qū)域DA中。
[0084]非顯示區(qū)域(未示出)可在顯示區(qū)域DA的周圍形成。更具體地講，非顯示區(qū)域可圍繞顯示區(qū)域DA形成。在實施例中，非顯示區(qū)域可形成為與顯示區(qū)域DA的多個側鄰近。在另一實施例中，非顯示區(qū)域可形成為與顯示區(qū)域DA的一側鄰近。
[0085]在另一實施例中，僅顯示區(qū)域DA可布置在中央?yún)^(qū)域CA中。S卩，非顯示區(qū)域可僅形成在外周區(qū)域PA中。
[0086]焊盤區(qū)域(未示出)可形成在非顯示區(qū)域中。就這點而言，驅動器或多個焊盤單元(未示出)可設置在焊盤區(qū)域中。
[0087]顯示區(qū)域無機層110形成在基底101上。更具體地講，顯示區(qū)域無機層110形成在顯示區(qū)域DA上。例如，顯示區(qū)域無機層110可形成在布置在顯示區(qū)域DA中的顯示器件下方，可形成為鄰近于顯示器件，或者可形成為與包括在顯示器件中的多個構件中的一個鄰近。
[0088]顯示區(qū)域無機層110可形成在顯示區(qū)域DA中，并可延伸越過外周區(qū)域PA的一部分(從外周區(qū)域PA的一部分伸出)。
[0089]在實施例中，顯示區(qū)域無機層110的多個邊緣之中的至少一個邊緣可與基底101的邊緣分開(例如，隔開)。也就是說，基底101的頂表面的一部分可不被顯示區(qū)域無機層110覆蓋，而是可在與顯示區(qū)域無機層110的至少一個邊緣和基底101的邊緣之間的間隙對應的區(qū)域處暴露。
[0090]顯示區(qū)域無機層110可由各種合適的無機材料中的一種或更多種形成。
[0091]在實施例中，顯示區(qū)域無機層110可包括氧化物、氮化物和/或氮氧化物。更具體地講，顯示區(qū)域無機層110可包括氮化硅(SiNx)、氧化硅(Si02)和/或氮氧化硅(S1xNy)。
[0092]外周區(qū)域PA可設置為與基底101的邊緣鄰近。在實施例中，外周區(qū)域PA可設置為與基底101的所有邊緣鄰近。
[0093]包封無機層120在基底101上覆蓋顯示區(qū)域DA，并形成在顯示區(qū)域無機層110上。例如，包封無機層120形成為覆蓋布置在顯示區(qū)域DA中的顯示器件。通過覆蓋顯示區(qū)域DA，更具體地講，通過覆蓋顯示器件，包封無機層120可阻擋或可減少諸如濕氣或氧的外來物質滲透到顯示區(qū)域DA中。
[0094]包封無機層120形成在顯示區(qū)域無機層110上。此外，包封無機層120的至少一個邊緣比顯示區(qū)域無機層110的邊緣進一步延伸。也就是說，包封無機層120的至少一個邊緣可超過顯示區(qū)域無機層110的邊緣(例如，延伸到顯示區(qū)域無機層110的邊緣之外或比顯示區(qū)域無機層110的邊緣進一步延伸)，從而可接觸基底101的頂表面。
[0095]在實施例中