基板處理裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種基板處理裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]以往，已知有這樣的基板處理裝置:一邊在形成有清潔空氣的氣流的清潔環(huán)境下輸送半導(dǎo)體晶圓、玻璃基板這樣的基板，一邊對(duì)該基板實(shí)施清洗處理等規(guī)定的基板處理。
[0003]基板處理裝置例如包括:輸入輸出室，其用于從承載件輸入基板或者將基板輸出至承載件；輸送室，其與該輸入輸出室連通；以及多個(gè)基板處理室，其沿著該輸送室配置。并且，輸入輸出室的內(nèi)部和輸送室的內(nèi)部利用風(fēng)機(jī)過濾單元等形成清潔空氣的氣流(例如，參照專利文獻(xiàn)I)。
[0004]并且，在這樣的清潔環(huán)境下抑制微粒附著于基板，并且利用設(shè)在輸送室內(nèi)的基板輸送裝置等以基板在承載件與基板處理室之間來往的方式輸送基板。
[0005]另外，在輸入輸出室與輸送室之間設(shè)有交接室，而將輸入輸出室與輸送室連通起來。該交接室是所謂的緩沖區(qū)域，在該交接室的內(nèi)部設(shè)有交接臺(tái)，該交接臺(tái)能夠同時(shí)保持多張被例如輸入輸出室內(nèi)的基板輸送裝置從承載件取出的基板。輸送室內(nèi)的基板輸送裝置用于從該交接臺(tái)取出基板并向各基板處理室輸送基板。
_6] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)_7] 專利文獻(xiàn)
[0008]專利文獻(xiàn)1:日本特開2011 - 119650號(hào)公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]發(fā)明要解決的問題
[0010]但是，在使用所述以往技術(shù)的情況下，基板雖說是暫時(shí)但也停留在作為緩沖區(qū)域的交接室內(nèi)，因此微粒附著于基板的可能性變高。因而，在進(jìn)一步抑制微粒附著于基板這一方面，具有進(jìn)一步改善的余地。
[0011]本發(fā)明的一技術(shù)方案的目的在于提供一種能夠進(jìn)一步抑制微粒附著于基板的基板處理裝置。
_2] 用于解決問題的方案
[0013]本發(fā)明的一技術(shù)方案的基板處理裝置包括輸入輸出室、輸送室和交接室。輸入輸出室用于從承載件輸入基板或者將基板輸出至承載件。輸送室形成有用于向基板處理室輸送基板的輸送路徑，該基板處理室用于對(duì)基板實(shí)施規(guī)定的處理。交接室配置在輸入輸出室與輸送室之間，用于基板的在輸入輸出室與輸送室之間的交接。并且，交接室的內(nèi)壓高于輸入輸出室的內(nèi)壓和輸送室的內(nèi)壓。
_4] 發(fā)明的效果
[0015]采用本發(fā)明的一技術(shù)方案，能夠進(jìn)一步抑制微粒附著于基板。
【附圖說明】
[0016]圖1是表示本實(shí)施方式的基板處理系統(tǒng)的概略結(jié)構(gòu)的圖。
[0017]圖2是表示基板處理系統(tǒng)的具體結(jié)構(gòu)的一例的示意圖。
[0018]圖3A是表示交接部、輸入輸出室和輸送部這三者的內(nèi)壓差的示意圖。
[0019]圖3B是表示交接部、輸入輸出室和輸送部各自內(nèi)部的氣流的方向的示意圖。
[0020]圖4A是表不交接部的供氣排氣機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)的一例的不意圖(其一)。
[0021]圖4B是表示交接部的供氣排氣機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)的一例的示意圖(其二)。
[0022]圖5A是表示輸送部的供氣排氣機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)的一例的示意圖(其一)。
[0023]圖5B是表示輸送部的供氣排氣機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)的一例的示意圖(其二)。
[0024]圖5C是表示輸送部的供氣排氣機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)的一例的示意圖(其三)。
[0025]圖f5D是表不輸送部的供氣排氣機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)的變形例的不意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0026]以下，參照附圖詳細(xì)地說明本申請(qǐng)的基板處理裝置的實(shí)施方式。其中，以下所示的實(shí)施方式并不用于限定本發(fā)明。
[0027]另外，以下，將基板處理裝置的一例記載為“基板處理系統(tǒng)”。并且，在以下參照的各圖中，對(duì)于包括多個(gè)的構(gòu)成部件，有時(shí)僅對(duì)多個(gè)中的一部分標(biāo)注附圖標(biāo)記，其他部分省略標(biāo)注附圖標(biāo)記。在該情況下，標(biāo)注附圖標(biāo)記的一部分與其他部分為同樣的結(jié)構(gòu)。
[0028]圖1是表示本實(shí)施方式的基板處理系統(tǒng)的概略結(jié)構(gòu)的圖。以下，為了使位置關(guān)系明確，規(guī)定彼此正交的X軸、Y軸和Z軸，將Z軸正方向設(shè)為鉛垂朝上方向。
[0029]如圖1所不，基板處理系統(tǒng)I包括輸入輸出站2和處理站3。輸入輸出站2與處理站3鄰接地設(shè)置。
[0030]輸入輸出站2包括承載件載置部11和輸送部12。承載件載置部11用于載置多個(gè)將多張基板、在本實(shí)施方式中為半導(dǎo)體晶圓(以下記載為晶圓W)以水平狀態(tài)收納的承載件Co
[0031]輸送部12與承載件載置部11鄰接地設(shè)置，輸送部12的內(nèi)部具有基板輸送裝置13和交接部14?；遢斔脱b置13具有用于保持晶圓W的晶圓保持機(jī)構(gòu)。并且，基板輸送裝置13能夠沿水平方向和鉛垂方向移動(dòng)，而且能夠以鉛垂軸線為中心進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，利用晶圓保持機(jī)構(gòu)在承載件C與交接部14之間進(jìn)行晶圓W的輸送。
[0032]處理站3與輸送部12鄰接地設(shè)置。處理站3包括輸送部15和多個(gè)處理單元16。多個(gè)處理單元16排列設(shè)置在輸送部15的兩側(cè)。
[0033]輸送部15的內(nèi)部具有基板輸送裝置17?；遢斔脱b置17具有用于保持晶圓W的晶圓保持機(jī)構(gòu)。并且，基板輸送裝置17能夠沿水平方向和鉛垂方向移動(dòng)，而且能夠以鉛垂軸線為中心進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，利用晶圓保持機(jī)構(gòu)在交接部14與處理單元16之間進(jìn)行晶圓W的輸送。
[0034]處理單元16用于對(duì)由基板輸送裝置17輸送來的晶圓W進(jìn)行規(guī)定的基板處理。
[0035]并且，基板處理系統(tǒng)I還包括控制裝置4?？刂蒲b置4例如為計(jì)算機(jī)，包括控制部18和存儲(chǔ)部19。在存儲(chǔ)部19內(nèi)存儲(chǔ)有用于控制在基板處理系統(tǒng)I中執(zhí)行的各種處理的程序?？刂撇?8通過讀取并執(zhí)行被存儲(chǔ)于存儲(chǔ)部19的程序來控制基板處理系統(tǒng)I的動(dòng)作。
[0036]另外，該程序存儲(chǔ)于可由計(jì)算機(jī)讀取的存儲(chǔ)介質(zhì)，也可以自該存儲(chǔ)介質(zhì)安裝于控制裝置4的存儲(chǔ)部19。作為可由計(jì)算機(jī)讀取的存儲(chǔ)介質(zhì)，具有例如硬盤(HD)、軟盤(FD)、光盤(⑶)、光磁盤(MO)、存儲(chǔ)卡等。
[0037]在如所述那樣構(gòu)成的基板處理系統(tǒng)I中，首先，輸入輸出站2的基板輸送裝置13自載置于承載件載置部11的承載件C取出晶圓W，并將該取出的晶圓W載置于交接部14。載置于交接部14的晶圓W被處理站3的基板輸送裝置17自交接部14取出并向處理單元16輸入。
[0038]輸入處理單元16的晶圓W在被處理單元16處理之后被基板輸送裝置17自處理單元16輸出并載置于交接部14。之后，載置于交接部14的已處理的晶圓W利用基板輸送裝置13返回至承載件載置部11的承載件C。
[0039]接著，參照?qǐng)D2更具體地說明基板處理系統(tǒng)I的結(jié)構(gòu)。圖2是表示基板處理系統(tǒng)I的具體結(jié)構(gòu)的一例的示意圖。另外，圖2是從Y軸的負(fù)方向透視基板處理系統(tǒng)I而得到的簡(jiǎn)略的側(cè)面示意圖。并且，省略了處理單元16(相當(dāng)于“基板處理室”的一例)的圖示。
[0040]首先，更具體地說明輸入輸出站2。如圖2所示，輸入輸出站2的輸送部12包括輸入輸出室21和交接站22。輸入輸出室21用于收納所述基板輸送裝置13。在輸入輸出室21的頂部設(shè)有FFU (Fan Filter Unit，風(fēng)機(jī)過濾單元)21a。
[0041]交接站22包括所述交接部14。交接部14配置在輸入輸出室21與所述輸送部15之間，是將輸入輸出室21和輸送部15連通起來的緩沖區(qū)域，相當(dāng)于“交接室”的一例。
[0042]與能夠在高度方向上呈多層地設(shè)有多個(gè)所述輸送部15相應(yīng)地，該交接部14同樣能夠在交接站22的高度方向上呈多層地設(shè)有多個(gè)。其中，在圖2中圖示了與在高度方向上設(shè)有兩個(gè)輸送部15相應(yīng)地交接部14同樣設(shè)有兩個(gè)的情況，但并不用于限定交接部14的個(gè)數(shù)。
[0043]另外，在交接部14連結(jié)有FFU14a和排氣裝置14b。FFU14a配置在交接部14的上方，例如如圖2所示那樣配置于交接站22的頂部，連結(jié)于交接部14。排氣裝置14b配置在交接部14的下方，例如如圖2所示那樣直接連結(jié)于交接部14的下部。
[0044]另外