紫外線透過性基板的清洗裝置以及清洗方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本發(fā)明設(shè)及紫外線透過性基板的清洗裝置W及清洗方法。
【背景技術(shù)】
[0002] W前，作為半導(dǎo)體用娃基板和液晶玻璃基板的清洗方法，盛行的是RCA清洗法、和 使用堿洗涂劑等清洗液的濕式清洗方法。在RCA清洗法中，例如使用過氧化氨、硫酸、鹽酸、 氨等的濃的藥品，將基板表面的被除去物去除。另外，在使用堿洗涂劑等作為清洗液的清洗 中，組合刷洗、紫外線照射、超聲波清洗等的方法也是較為盛行的。在運(yùn)些方法中，由于大量 使用濃的藥品或清洗液，因而從排水處理作業(yè)和環(huán)境保護(hù)的角度考慮，一直要求盡量不使 用濃的藥品和清洗液的清洗方法。另外，玻璃基板與半導(dǎo)體晶片相比，其尺寸非常大，而且 近年來，玻璃基板的大型化更為明顯。在運(yùn)樣的大型玻璃基板的清洗中，濃的藥品或清洗液 的使用量、W及對它們進(jìn)行漂洗的純水的使用量增加。因此，由于玻璃基板的制造成本的高 漲和排水處理負(fù)荷的增大而產(chǎn)生環(huán)境負(fù)荷的增大等問題。
[0003] 另外，為了提高清洗效率，作為濕式清洗的前處理，有時也進(jìn)行干式清洗。在干式 清洗中，將紫外線照射在基板上而進(jìn)行表面處理，由此使基板表面的有機(jī)物分解(例如參照 專利文獻(xiàn)1、2)。另外，作為前處理的干式清洗的替代方法，采用有機(jī)溶劑等預(yù)先清洗基板表 面的無機(jī)物、然后用純水進(jìn)行漂洗的方法也是較為盛行的。
[0004] 然而，由于W前的干式清洗不能去除無機(jī)物，因而在進(jìn)行干式清洗后，需要進(jìn)行使 用濃的藥品和清洗液的濕式清洗，W清洗無機(jī)物。因此，在濕式清洗后產(chǎn)生大量的排水，從 而需要對該排水進(jìn)行處理。另外，即使在作為前處理使用有機(jī)溶劑而進(jìn)行清洗的方法中，在 有機(jī)溶劑清洗后W及濕式清洗后分別用純水進(jìn)行漂洗，因而與上述同樣，也需要對大量的 排水進(jìn)行處理。
[0005] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0006] 專利文獻(xiàn)
[0007] 專利文獻(xiàn)1:日本特開平5-182945號公報 [000引專利文獻(xiàn)2:日本特開平5-224167號公報

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009] 發(fā)明所要解決的課題
[0010] 本發(fā)明是為解決上述的課題而完成的，其目的在于，提供與使用濃的藥品和清洗 液的W前的清洗方法相比，可W減輕排水處理負(fù)荷和環(huán)境負(fù)荷的紫外線透過性基板的清洗 裝置W及清洗方法。
[0011] 用于解決課題的手段
[0012] 實施方式的清洗裝置是一種紫外線透過性基板的清洗裝置，其特征在于，所述清 洗裝置具有:臭氧水供給部，其向所述基板的清洗面供給臭氧水；W及紫外線照射部，其在 向所述基板的清洗面供給臭氧水的狀態(tài)下，向所述基板的清洗面的相反側(cè)的面照射包含 250~260nm的波長的紫外線。
[0013] 實施方式的清洗方法是一種紫外線透過性基板的清洗方法，其特征在于，在向所 述基板的清洗面供給臭氧水的同時，向所述基板的清洗面的相反側(cè)的面照射包含250~ 260nm的波長的紫外線。
[0014] 發(fā)明的效果
[0015] 根據(jù)本發(fā)明的紫外線透過性基板的清洗裝置W及清洗方法，與使用濃的藥品的W 前的清洗方法相比，可W減輕排水處理負(fù)荷和環(huán)境負(fù)荷。
【附圖說明】
[0016] 圖1是說明實施方式的清洗方法的圖。
[0017] 圖2是示意表示實施方式的清洗裝置的側(cè)視圖。
[0018] 圖3是示意表示實施方式的清洗裝置的俯視圖。
[0019] 圖4是表示實施方式的清洗方法的流程圖。
[0020] 圖5是表示實施例所使用的低壓水銀燈的波長特性的圖。
【具體實施方式】
[0021] 下面使用附圖，就本發(fā)明的實施方式進(jìn)行說明。在各圖中，對具有同一功能的構(gòu)成 標(biāo)注同一符號，并將重復(fù)的說明予W省略。本發(fā)明并不局限于W下的實施方式。
[0022] 圖1是說明實施方式的清洗方法的圖。本實施方式的清洗方法在向基板2的清洗面 2a供給臭氧水的狀態(tài)下，向清洗面2a的相反側(cè)的面（W下稱為紫外線照射面)2b照射紫外 線。本實施方式中的被除去物3例如為光致抗蝕劑等的有機(jī)薄膜和在無塵室內(nèi)附著于清洗 面2a的有機(jī)物。另外，在本實施方式的清洗方法中，也可W去除附著于清洗面2a的金屬微粒 等無機(jī)物。
[0023] 本實施方式的清洗方法在向清洗面2a供給臭氧水的狀態(tài)下，向紫外線照射面化照 射紫外線，利用通過向臭氧水照射紫外線所產(chǎn)生的自由基活性種而將清洗面2a的被除去物 3去除。產(chǎn)生的自由基活性種主要為由下述(1)式所示的反應(yīng)產(chǎn)生的氧自由基、和由下述(2) 式所示的反應(yīng)產(chǎn)生的徑基自由基。
[0024] 〇3+hv 一 〇2+0? (1)
[002引 0.+出0一2(^. (2)
[0026] 運(yùn)些氧自由基或徑基自由基將清洗面2a的有機(jī)物氧化分解而除去，同樣，使無機(jī) 物氧化生成氧化物而除去。
[0027] 在向清洗面2a供給臭氧水的狀態(tài)下，在清洗面2a上存在具有規(guī)定厚度的臭氧水膜 4。該臭氧水膜4中的臭氧分子通過紫外線分解而產(chǎn)生自由基活性種。產(chǎn)生的自由基活性種 例如使有機(jī)物的被除去物3氧化分解而進(jìn)行清洗。被除去物3由于附著于清洗面2a上，因而 在臭氧水膜4中產(chǎn)生的自由基活性種中，主要在清洗面2a附近產(chǎn)生的自由基活性種有助于 該被除去物3的分解除去。
[0028] 在此，在從清洗面2a側(cè)照射紫外線的情況下，可W認(rèn)為紫外線的一部分在臭氧水 膜4表面發(fā)生散射或折射，照射的紫外線在直至到達(dá)清洗面2a的期間發(fā)生衰減。另外，紫外 線的一部分被存在于臭氧水膜4內(nèi)上方部分的臭氧分子所吸收，到達(dá)清洗面2a的紫外線量 相對于照射的紫外線有所減少，從而在清洗面2a附近的氧自由基的發(fā)生量也有減少的可能 性。再者，于臭氧水膜4內(nèi)的上方部分產(chǎn)生的自由基活性種的一部分在到達(dá)清洗面2a上的被 除去物3之前，發(fā)生自由基生成的連鎖反應(yīng)，或者自由基活性種隨著臭氧水的流動而從基板 2上向外部排水，因而也有不會到達(dá)清洗面2a上的被除去物3的可能性。
[0029] 與此相對照，在本實施方式的清洗方法中，向清洗面2a的相反側(cè)的面2b照射紫外 線。因此，不會有因紫外線在臭氧水膜4表面的散射、反射、折射等引起的紫外線的衰減。另 夕h通過臭氧水膜4中時的紫外線也不會衰減。另外，在臭氧水膜4中產(chǎn)生的自由基活性種也 不會隨著臭氧水的流動而從基板2上向外部排水。因此，與從清洗面2a側(cè)照射紫外線的情況 相比，可W高效地進(jìn)行基板清洗。
[0030] 圖2是表示本實施方式的清洗裝置1的示意側(cè)視圖。圖3是表示本實施方式的清洗 裝置1的示意俯視圖。本實施方式的清洗裝置是所謂的平流清洗裝置。圖2所示的清洗裝置1 具有:臭氧水供給部5，其向作為清洗對象的基板2的清洗面2a供給臭氧水;和紫外線照射部 6,其向基板2的清洗面2a的相反側(cè)的面（W下也稱為紫外線照射面)2b照射紫外線。在基板2 的清洗面2a上例如附著有有機(jī)物和無機(jī)物等被除去物3。
[0031] 符號7表示用于輸送基板2的輸送漉。輸送漉7被設(shè)置成將載置于輸送漉7上的基板 2在臭氧水供給部5的下方輸送。輸送漉7沿箭頭A的方向輸送基板2,在輸送路徑的中途設(shè)置 的清洗裝置1對基板2依次進(jìn)行清洗。
[0032] 基板2具有對波長為254nm的紫外線的吸光系數(shù)優(yōu)選在50% W下的紫外線透過性。 在基板2中，上述波長(254nm)的紫外線的透過率優(yōu)選為50% W上，更優(yōu)選為90% W上。
[0033