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      一種場(chǎng)效應(yīng)晶體管的制備方法

      文檔序號(hào):10571410閱讀:577來(lái)源:國(guó)知局
      一種場(chǎng)效應(yīng)晶體管的制備方法
      【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種場(chǎng)效應(yīng)晶體管的制備方法,場(chǎng)效應(yīng)晶體管從下到上依次為襯底、柵電極、介電層、半導(dǎo)體層、源電極和漏電極,封裝層。本發(fā)明利用蟲(chóng)膠具有粘著性的特點(diǎn),對(duì)介電材料進(jìn)行物理剝離,從而形成穩(wěn)定幾個(gè)分子層厚度的介電層,減少了介電層的溶液法制備步驟,有效杜絕了有毒試劑的使用,并提高了穩(wěn)定性。同時(shí)將蟲(chóng)膠作為襯底和封裝層,利用其良好的致密性和抗紫外線抗輻射等特點(diǎn),阻隔水氧對(duì)整個(gè)器件的侵蝕以及紫外線和電磁輻射對(duì)器件的干擾,從而提高整個(gè)器件的穩(wěn)定性和壽命。該場(chǎng)效應(yīng)晶體管采用一種可剝離介電層以及生物材料作為襯底和封裝,更加容易制備,成本更低,將場(chǎng)效應(yīng)晶體管應(yīng)用范圍拓寬,適合于可穿戴式設(shè)備與生物電子領(lǐng)域。適宜大規(guī)模量產(chǎn)。
      【專利說(shuō)明】
      一種場(chǎng)效應(yīng)晶體管的制備方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      [0001]本發(fā)明屬于電子技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種場(chǎng)效應(yīng)晶體管的制備方法。
      【背景技術(shù)】
      [0002]場(chǎng)效應(yīng)晶體管的性能及制作技術(shù)日益發(fā)展,很多新材料的迀移率超過(guò)了非晶硅,并且被廣泛應(yīng)用于電子紙、傳感器身份識(shí)別卡以及智能卡等記憶器件等方面。與傳統(tǒng)的硅基MOSFET相比,新材料場(chǎng)效應(yīng)晶體管的器件制備過(guò)程以低溫沉積或溶液(噴黑打印、旋涂、滴注等)等簡(jiǎn)單的工藝代替了傳統(tǒng)的高溫真空沉積等方法制作器件的復(fù)雜過(guò)程。此外,新材料本身所具備質(zhì)輕、價(jià)廉、具有柔性、制備方法簡(jiǎn)單、種類多、性能可通過(guò)分子設(shè)計(jì)進(jìn)行調(diào)整等優(yōu)勢(shì)。因此,新型半導(dǎo)體材料無(wú)論從材料合成以及器件的制備等方面具有非常大的降低成本的潛力
      [0003]然而現(xiàn)有的場(chǎng)效應(yīng)晶體管能在大氣環(huán)境中穩(wěn)定工作的,多為硅基場(chǎng)效應(yīng)管,大量使用時(shí)會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染,制備過(guò)程復(fù)雜,造價(jià)昂貴,且不易實(shí)現(xiàn)柔性、大面積器件;同時(shí),介電層作為場(chǎng)效應(yīng)管重要組成部分,現(xiàn)有溶液法制備過(guò)程中,大量使用了氯苯、甲苯、氯仿以及苯甲醚等有毒試劑,采用水、醇溶劑體系的介電層材料是綠色生產(chǎn)的首要因素,然而現(xiàn)有的溶于水或者醇中的介電層材料,存在大氣環(huán)境下有電學(xué)性能不穩(wěn)定的缺點(diǎn)。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0004]本發(fā)明目的在于提供一種制備工藝簡(jiǎn)單,生產(chǎn)成本低廉,綠色環(huán)保,可在大氣環(huán)境下穩(wěn)定,尚壽命的一種場(chǎng)效應(yīng)晶體管的制備方法。
      [0005]本發(fā)明的技術(shù)方案為:
      [0006]—種場(chǎng)效應(yīng)晶體管的制備方法,該場(chǎng)效應(yīng)晶體管從下到上依次為襯底、柵電極、介電層、半導(dǎo)體層、源電極和漏電極、封裝層,所述介電層為二維可剝離的介電材料,所述柵電極、源電極和漏電極為金屬納米線復(fù)合材料,所述二維可剝離的介電材料為絲素蛋白、云母或六方氮化硼中的一種,所述金屬納米線復(fù)合材料由以下重量百分比的材料構(gòu)成:金屬納米線40%?80%,蟲(chóng)膠10%?30%,水溶性粘合劑10%?30% ;
      [0007]制備方法如下:
      [0008]①先對(duì)二維可剝離的介電材料進(jìn)行徹底的清洗,清洗后干燥;
      [0009]②在介電材料表面涂覆金屬納米線復(fù)合材料作為柵電極,并對(duì)其進(jìn)行固化;
      [0010]③在柵電極上面制備蟲(chóng)膠層,并迅速提高器件加熱溫度,使得蟲(chóng)膠層熱熔狀態(tài),使其與柵電極和介電材料緊密粘合在一起,冷卻,使蟲(chóng)膠層作為襯底;
      [0011]④對(duì)襯底進(jìn)行機(jī)械剝離,將襯底,柵電極以及介電材料剝離下來(lái),從而在柵電極上面形成介電層;
      [0012]⑤在介電層上制備半導(dǎo)體層;
      [0013]⑥在半導(dǎo)體層上制備源電極和漏電極;
      [0014]⑦在源電極和漏電極上面制備蟲(chóng)膠層,作為封裝層;
      [0015]⑧迅速提高器件加熱溫度,使得蟲(chóng)膠熱熔狀態(tài),使封裝層的蟲(chóng)膠與襯底的蟲(chóng)膠熱熔到在一起,然后加熱蟲(chóng)膠到熱聚合溫度,使得蟲(chóng)膠發(fā)生熱聚合反應(yīng),進(jìn)而固化為一體,起到封裝作用;
      [0016]進(jìn)一步地,步驟③、⑦中,蟲(chóng)膠層采用旋涂法或滴涂法制備,步驟③、⑧中,蟲(chóng)膠熱熔狀態(tài)加熱溫度為70°C?90°C,步驟⑧中,蟲(chóng)膠熱聚合為120°C?150°C,加熱時(shí)間為0.5h?Ih0
      [0017]進(jìn)一步地,步驟②和⑥中,柵電極、源電極、漏電極是通過(guò)絲網(wǎng)印刷或打印方法制備,所述步驟⑤中,所述半導(dǎo)體層是通過(guò)等離子體增強(qiáng)的化學(xué)氣相沉積、熱氧化、旋涂、真空蒸鍍、輥涂、滴膜、壓印、印刷或噴涂中的一種方法制備。
      [0018]進(jìn)一步地,介電層厚度為5nm?10nm,
      [0019]進(jìn)一步地,所述蟲(chóng)膠為脫蠟蟲(chóng)膠。
      [0020]進(jìn)一步地,所述金屬納米線材料為鐵納米線、銅納米線、銀納米線、金納米線、招納米線、鎳納米線、鈷納米線、猛納米線、鎘納米線、銦納米線、錫納米線、媽納米線或鈾納米線中的一種或多種。
      [0021]進(jìn)一步地,所述的水溶性粘合劑為明膠或聚乙烯醇中的一種或兩種。
      [0022]進(jìn)一步地,所述半導(dǎo)體層為氧化鋅、氧化錫、碳納米管、氧化石墨烯、聚3-已基噻吩,6,13_雙(三異丙基硅烷基乙炔基)并五苯或含硅氧烷的聚異戊二烯衍生物中的一種,所述半導(dǎo)體層厚度為30nm?lOOnm。
      [0023]本發(fā)明中,引入蟲(chóng)膠層,因其獨(dú)特的材料特性,在常溫下為固體,受熱時(shí)一般在75°(:左右開(kāi)始熔化,120°C左右成為流體,如在此溫度下繼續(xù)受熱,它的聚合反應(yīng)很慢。溫度繼續(xù)升高時(shí),隨著受熱時(shí)間的延長(zhǎng),聚合反應(yīng)迅速進(jìn)行,蟲(chóng)膠的平均分子量不斷增大,粘度逐漸增加,軟化點(diǎn)逐步升高,顏色加深,熱硬化時(shí)間隨之不斷縮短,熱乙醇不溶物不斷增加,逐漸變稠失去流動(dòng)性,經(jīng)橡膠狀階段,最后變成在溶劑中不溶解、加熱也不熔化的角質(zhì)狀三維網(wǎng)狀聚合物。基于此種特性,當(dāng)采用蟲(chóng)膠作為襯底和封裝層時(shí),可將蟲(chóng)膠加熱至熔化狀態(tài),隨后迅速加熱,使其發(fā)生熱聚合,快速固化。從而起到很好的徹底和封裝的效果。
      [0024]與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于:
      [0025]—、該場(chǎng)效應(yīng)晶體管的二維可剝離的介電材料,通過(guò)蟲(chóng)膠粘著性剝離而形成穩(wěn)定幾個(gè)分子層厚度的介電層,減少了介電層的溶液法制備,從而有效杜絕了氯苯、甲苯、氯仿以及苯甲醚等有毒試劑的使用,同時(shí)減少了傳統(tǒng)二維材料剝離后轉(zhuǎn)移的過(guò)程,減少了介電層的損壞并提高了穩(wěn)定性;
      [0026]二、機(jī)械剝離的介電層,由于其只有幾個(gè)分子層的厚度,從而有效的減小了器件的閾值電壓,提升了器件的性能;
      [0027]三、通過(guò)使用蟲(chóng)膠作為襯底和封裝層,蟲(chóng)膠出色的致密性和防紫外線防輻射的優(yōu)點(diǎn),既能使整個(gè)器件杜絕了空氣中水氧的影響,又可以防止紫外線和電磁輻射等對(duì)器件的干擾,從而提高整個(gè)器件的穩(wěn)定性和壽命;
      [0028]四、蟲(chóng)膠來(lái)源廣泛,易溶于乙醇,便于溶液法制備蟲(chóng)膠薄膜,成本低廉,制備工藝簡(jiǎn)單,同時(shí)基于其獨(dú)特的熱熔與熱聚合特性,可以很方便的控制蟲(chóng)膠襯底和蟲(chóng)膠封裝層進(jìn)行融合,并且實(shí)現(xiàn)固化封裝,易于實(shí)施,方法可靠;
      [0029]五、該場(chǎng)效應(yīng)晶體管的柵電極、源電極和漏電極采用的是含有10%?30%的蟲(chóng)膠和10%?30 %水溶性粘合劑的金屬納米線,一方面有利于金屬納米線涂覆在介電層上,另一方面水溶性粘合劑可以促進(jìn)金屬納米線與二維介電材料接觸,蟲(chóng)膠可以使得金屬納米線與后續(xù)的蟲(chóng)膠襯底熔為一體,使得蟲(chóng)膠襯底、二維介電材料、金屬納米線三者結(jié)為一體,進(jìn)而有利于襯底對(duì)介電層的機(jī)械剝離。制備采用的是絲網(wǎng)印刷或打印方法,這種方法相對(duì)于傳統(tǒng)的化學(xué)氣相沉積、熱氧化和真空蒸鍍方法,具有節(jié)能環(huán)保,易于大規(guī)模量產(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)。
      [0030]六、相對(duì)與傳統(tǒng)硅基場(chǎng)效應(yīng)晶體管,本發(fā)明可在大氣環(huán)境下持續(xù)穩(wěn)定工作,且所需材料、制備過(guò)程綠色無(wú)污染。
      【附圖說(shuō)明】
      [0031 ]圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0032]圖中:1-襯底,2-柵電極,3-介電層,4-半導(dǎo)體層,5-漏電極,6_封裝層,7_源電極;
      [0033]圖2是實(shí)施例1制備的器件的壽命測(cè)試曲線。
      [0034]圖3是實(shí)施例6制備的器件的壽命測(cè)試曲線。
      【具體實(shí)施方式】
      [0035]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明。
      [0036]參照?qǐng)D1,本發(fā)明的一種場(chǎng)效應(yīng)晶體管的制備方法,包括襯底1、柵電極2、介電層3、半導(dǎo)體層4、漏電極5、封裝層6、源電極7,所述柵電極2設(shè)置于襯底I之上,介電層3設(shè)置于柵電極2之上,半導(dǎo)體層4設(shè)置于介電層3之上,漏電極5和源電極7分別設(shè)置于半導(dǎo)體層5之上,封裝層6設(shè)置于漏電極5和源電極7之上,覆蓋整個(gè)場(chǎng)效應(yīng)晶體管器件。
      [0037]①先對(duì)二維可剝離的介電材料進(jìn)行徹底的清洗,清洗后干燥;
      [0038]②在介電材料表面涂覆金屬納米線復(fù)合材料作為柵電極,并對(duì)其進(jìn)行固化;
      [0039]③在柵電極上面制備蟲(chóng)膠層,并迅速提高器件加熱溫度,使得蟲(chóng)膠層熱熔狀態(tài),使其與柵電極和介電材料緊密粘合在一起,冷卻,使蟲(chóng)膠層作為襯底;
      [0040]④對(duì)襯底進(jìn)行機(jī)械剝離,將襯底,柵電極以及介電材料剝離下來(lái),從而在柵電極上面形成介電層;
      [0041]⑤在介電層上制備半導(dǎo)體層;
      [0042]⑥在半導(dǎo)體層上制備源電極和漏電極;
      [0043]⑦在源電極和漏電極上面制備蟲(chóng)膠層,作為封裝層;
      [0044]⑧迅速提高器件加熱溫度,使得蟲(chóng)膠熱熔狀態(tài),使封裝層的蟲(chóng)膠與襯底的蟲(chóng)膠熱熔到在一起,然后加熱蟲(chóng)膠到熱聚合溫度,使得蟲(chóng)膠發(fā)生熱聚合反應(yīng),進(jìn)而固化為一體,起到封裝作用;
      [0045]以下是本發(fā)明的具體實(shí)施例:
      [0046]實(shí)施例1:
      [0047]如圖1所示為底柵頂接觸式結(jié)構(gòu),各層的材料和厚度為:襯底為蟲(chóng)膠,柵電極、源電極和漏電極均為銀納米線,加入了 10%的蟲(chóng)膠和30%的水溶性粘合劑明膠,介電層采用云母片,厚度為5nm,半導(dǎo)體層為氧化鋅,厚度為30nm,封裝層為蟲(chóng)膠。用該結(jié)構(gòu)可實(shí)現(xiàn)高壽命高穩(wěn)定性的場(chǎng)效應(yīng)晶體管。
      [0048]制備方法如下:
      [0049]①先對(duì)云母片進(jìn)行徹底的清洗,清洗后干燥;
      [0050]②在云母表面采用絲網(wǎng)印刷技術(shù)制備銀納米線柵電極2,并對(duì)其進(jìn)行固化;
      [0051]③在所述柵電極2上面制備蟲(chóng)膠層,并迅速提高器件加熱溫度到70°C?90°C,使得蟲(chóng)膠層熱熔狀態(tài),使其與柵電極和云母片緊密粘合在一起,冷卻,使蟲(chóng)膠層作為襯底I;
      [0052]④對(duì)所述襯底I進(jìn)行機(jī)械剝離,將襯底I,柵電極2以及云母片剝離下來(lái),從而在柵電極2上面形成一層幾個(gè)分子層厚的云母介電層3;
      [0053]⑤在介電層3上采用旋涂方法制備氧化鋅半導(dǎo)體層4;
      [0054]⑥在半導(dǎo)體層4上采用絲網(wǎng)印刷技術(shù)制備銀納米線源電極5和銀納米線漏電極7;
      [0055]⑦在源電極5和漏電極7上面制備蟲(chóng)膠層,作為封裝層6;
      [0056]⑧迅速提高器件加熱溫度到70°C?90°C,使得蟲(chóng)膠熱熔狀態(tài),使封裝層的蟲(chóng)膠與襯底的蟲(chóng)膠熱熔到在一起,然后加熱蟲(chóng)膠到熱聚合溫度120°C?150°C,使得蟲(chóng)膠發(fā)生熱聚合反應(yīng),進(jìn)而固化為一體,起到封裝作用。
      [0057]實(shí)施例2:
      [0058]如圖1所示為底柵頂接觸式結(jié)構(gòu),各層的材料和厚度為:襯底為蟲(chóng)膠,柵電極、源電極和漏電極均為鋁納米線,加入了30%的蟲(chóng)膠和30%的水溶性粘合劑聚乙烯醇,介電層采用絲素蛋白片,厚度為8nm,半導(dǎo)體層為氧化石墨烯,厚度為30nm,封裝層為蟲(chóng)膠。用該結(jié)構(gòu)可實(shí)現(xiàn)尚壽命尚穩(wěn)定性的場(chǎng)效應(yīng)晶體管。
      [0059]制備方法如同實(shí)施例1.
      [0060]實(shí)施例3:
      [0061]如圖1所示為底柵頂接觸式結(jié)構(gòu),各層的材料和厚度為:襯底為蟲(chóng)膠,柵電極、源電極和漏電極均為金納米線,加入了30%的蟲(chóng)膠和10%的水溶性粘合劑明膠,介電層采用六方氮化硼,厚度為10nm,半導(dǎo)體層為碳納米管,厚度為50nm,封裝層為蟲(chóng)膠。用該結(jié)構(gòu)可實(shí)現(xiàn)尚壽命尚穩(wěn)定性的場(chǎng)效應(yīng)晶體管。
      [0062]制備方法如同實(shí)施例1.
      [0063]實(shí)施例4:
      [0064]如圖1所示為底柵頂接觸式結(jié)構(gòu),各層的材料和厚度為
      [0065]:襯底為蟲(chóng)膠,柵電極、源電極和漏電極均為銅納米線,加入了10%的蟲(chóng)膠和30%的水溶性粘合劑明膠,介電層采用云母片,厚度為6nm,半導(dǎo)體層為氧化錫,厚度為30nm,封裝層為蟲(chóng)膠。用該結(jié)構(gòu)可實(shí)現(xiàn)高壽命高穩(wěn)定性的場(chǎng)效應(yīng)晶體管。
      [0066]制備方法如同實(shí)施例1.
      [0067]實(shí)施例5:
      [0068]如圖1所示為底柵頂接觸式結(jié)構(gòu),各層的材料和厚度為:襯底為蟲(chóng)膠,柵電極、源電極和漏電極均為鐵納米線,加入了20%的蟲(chóng)膠和20%的水溶性粘合劑明膠,介電層采用絲素蛋白片,厚度為8nm,半導(dǎo)體層為6,13-雙(三異丙基娃燒基乙炔基)并五苯,厚度為30nm,封裝層為蟲(chóng)膠。用該結(jié)構(gòu)可實(shí)現(xiàn)高壽命高穩(wěn)定性的場(chǎng)效應(yīng)晶體管。
      [0069]制備方法如同實(shí)施例1.
      [0070]實(shí)施例6:
      [0071]如圖1所示為底柵頂接觸式結(jié)構(gòu),各層的材料和厚度為:襯底為蟲(chóng)膠,柵電極、源電極和漏電極均為銀納米線,加入了20%的蟲(chóng)膠和30%的水溶性粘合劑聚乙烯醇,介電層采用云母片,厚度為5nm,半導(dǎo)體層為氧化石墨烯,厚度為50nm,封裝層為蟲(chóng)膠。用該結(jié)構(gòu)可實(shí)現(xiàn)尚壽命尚穩(wěn)定性的場(chǎng)效應(yīng)晶體管。
      [0072]制備方法如下:
      [0073]①先對(duì)云母片進(jìn)行徹底的清洗,清洗后干燥;
      [0074]②在云母表面采用打印技術(shù)制備銀納米線柵電極2,并對(duì)其進(jìn)行固化;
      [0075]③在所述柵電極2上面制備蟲(chóng)膠層,并迅速提高器件加熱溫度到70°C?90°C,使得蟲(chóng)膠層熱熔狀態(tài),使其與柵電極和云母片緊密粘合在一起,冷卻,使蟲(chóng)膠層作為襯底I;
      [0076]④對(duì)所述襯底I進(jìn)行機(jī)械剝離,將襯底I,柵電極2以及云母片剝離下來(lái),從而在柵電極2上面形成一層幾個(gè)分子層厚的云母介電層3;
      [0077]⑤在介電層3上采用旋涂方法制備氧化石墨烯半導(dǎo)體層4;
      [0078]⑥在半導(dǎo)體層4上采用打印技術(shù)制備銀納米線源電極5和銀納米線漏電極7;
      [0079]⑦在源電極5和漏電極7上面制備蟲(chóng)膠層,作為封裝層6;
      [0080]⑧迅速提高器件加熱溫度到70°C?90°C,使得蟲(chóng)膠熱熔狀態(tài),使封裝層的蟲(chóng)膠與襯底的蟲(chóng)膠熱熔到在一起,然后加熱蟲(chóng)膠到熱聚合溫度120°C?150°C,使得蟲(chóng)膠發(fā)生熱聚合反應(yīng),進(jìn)而固化為一體,起到封裝作用。
      [0081 ] 實(shí)施例7:
      [0082]如圖1所示為底柵頂接觸式結(jié)構(gòu),各層的材料和厚度為:襯底為蟲(chóng)膠,柵電極、源電極和漏電極均為銀納米線,加入了 10%的蟲(chóng)膠和30%的水溶性粘合劑明膠,介電層采用六方氮化硼,厚度為Snm,半導(dǎo)體層為含硅氧烷的聚異戊二烯衍生物,厚度為SOnm,封裝層為蟲(chóng)膠。用該結(jié)構(gòu)可實(shí)現(xiàn)高壽命高穩(wěn)定性的場(chǎng)效應(yīng)晶體管。
      [0083]制備方法如同實(shí)施例6。
      [0084]實(shí)施例8:
      [0085]如圖1所示為底柵頂接觸式結(jié)構(gòu),各層的材料和厚度為:襯底為蟲(chóng)膠,柵電極、源電極和漏電極均為金納米線,加入了 10%的蟲(chóng)膠和30%的水溶性粘合劑明膠,介電層采用絲素蛋白片,厚度為8nm,半導(dǎo)體層為氧化鋅,厚度為lOOnm,封裝層為蟲(chóng)膠。用該結(jié)構(gòu)可實(shí)現(xiàn)高壽命尚穩(wěn)定性的場(chǎng)效應(yīng)晶體管。
      [0086]制備方法如同實(shí)施例6。
      [0087]實(shí)施例9:
      [0088]如圖1所示為底柵頂接觸式結(jié)構(gòu),各層的材料和厚度為:襯底為蟲(chóng)膠,柵電極、源電極和漏電極均為鎳納米線,加入了 10%的蟲(chóng)膠和30%的水溶性粘合劑聚乙烯醇,介電層采用云母片,厚度為10nm,半導(dǎo)體層為氧化石墨烯,厚度為80nm,封裝層為蟲(chóng)膠。用該結(jié)構(gòu)可實(shí)現(xiàn)尚壽命尚穩(wěn)定性的場(chǎng)效應(yīng)晶體管。
      [0089]制備方法如下:
      [0090]①先對(duì)云母片進(jìn)行徹底的清洗,清洗后干燥;
      [0091]②在云母表面采用打印技術(shù)制備銀納米線柵電極2,并對(duì)其進(jìn)行固化;
      [0092]③在所述柵電極2上面制備蟲(chóng)膠層,并迅速提高器件加熱溫度到70°C?90°C,使得蟲(chóng)膠層熱熔狀態(tài),使其與柵電極和云母片緊密粘合在一起,冷卻,使蟲(chóng)膠層作為襯底I;
      [0093]④對(duì)所述襯底I進(jìn)行機(jī)械剝離,將襯底I,柵電極2以及云母片剝離下來(lái),從而在柵電極2上面形成一層幾個(gè)分子層厚的云母介電層3;
      [0094]⑤在介電層3上噴涂方法制備氧化石墨烯半導(dǎo)體層4;
      [0095]⑥在半導(dǎo)體層4上采用打印技術(shù)制備銀納米線源電極5和銀納米線漏電極7;
      [0096]⑦在源電極5和漏電極7上面制備蟲(chóng)膠層,作為封裝層6;
      [0097]⑧迅速提高器件加熱溫度到70°C?90°C,使得蟲(chóng)膠熱熔狀態(tài),使封裝層的蟲(chóng)膠與襯底的蟲(chóng)膠熱熔到在一起,然后加熱蟲(chóng)膠到熱聚合溫度120°C?150°C,使得蟲(chóng)膠發(fā)生熱聚合反應(yīng),進(jìn)而固化為一體,起到封裝作用。
      [0098]實(shí)施例10:
      [0099]如圖1所示為底柵頂接觸式結(jié)構(gòu),各層的材料和厚度為:襯底為蟲(chóng)膠,柵電極、源電極和漏電極均為金納米線,加入了20%的蟲(chóng)膠和10%的水溶性粘合劑明膠,介電層采用六方氮化硼,厚度為10nm,半導(dǎo)體層為3-已基噻吩,厚度為80nm,封裝層為蟲(chóng)膠。用該結(jié)構(gòu)可實(shí)現(xiàn)1?壽命1?穩(wěn)定性的場(chǎng)效應(yīng)晶體管D
      [0100]制備方法如同實(shí)施例9。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種場(chǎng)效應(yīng)晶體管的制備方法,其特征在于,該場(chǎng)效應(yīng)晶體管從下到上依次為襯底、柵電極、介電層、半導(dǎo)體層、源電極和漏電極、封裝層,所述介電層為二維可剝離的介電材料,所述柵電極、源電極和漏電極為金屬納米線復(fù)合材料,所述二維可剝離的介電材料為絲素蛋白、云母或六方氮化硼中的一種,所述金屬納米線復(fù)合材料由以下重量百分比的材料構(gòu)成:金屬納米線40%?80%,蟲(chóng)膠10%?30%,水溶性粘合劑10%?30% ; 制備方法如下: ①先對(duì)二維可剝離的介電材料進(jìn)行徹底的清洗,清洗后干燥; ②在介電材料表面涂覆金屬納米線復(fù)合材料作為柵電極,并對(duì)其進(jìn)行固化; ③在柵電極上面制備蟲(chóng)膠層,并迅速提高器件加熱溫度,使得蟲(chóng)膠層熱熔狀態(tài),使其與柵電極和介電材料緊密粘合在一起,冷卻,使蟲(chóng)膠層作為襯底; ④對(duì)襯底進(jìn)行機(jī)械剝離,將襯底,柵電極以及介電材料剝離下來(lái),從而在柵電極上面形成介電層; ⑤在介電層上制備半導(dǎo)體層; ⑥在半導(dǎo)體層上制備源電極和漏電極; ⑦在源電極和漏電極上面制備蟲(chóng)膠層,作為封裝層; ⑧迅速提高器件加熱溫度,使得蟲(chóng)膠熱熔狀態(tài),使封裝層的蟲(chóng)膠與襯底的蟲(chóng)膠熱熔到在一起,然后加熱蟲(chóng)膠到熱聚合溫度,使得蟲(chóng)膠發(fā)生熱聚合反應(yīng),進(jìn)而固化為一體,起到封裝作用。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基一種場(chǎng)效應(yīng)晶體管的制備方法,其特征在于,步驟③、⑦中,蟲(chóng)膠層采用旋涂法或滴涂法制備,步驟③、⑧中,蟲(chóng)膠熱熔狀態(tài)加熱溫度為70°C?90°C,步驟⑧中,蟲(chóng)膠熱聚合為120°C?150°C,加熱時(shí)間為0.5h?Ih。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種場(chǎng)效應(yīng)晶體管及其制備方法,其特征在于,步驟②和⑥中,柵電極、源電極、漏電極是通過(guò)絲網(wǎng)印刷或打印方法制備,所述步驟⑤中,所述半導(dǎo)體層是通過(guò)等離子體增強(qiáng)的化學(xué)氣相沉積、熱氧化、旋涂、真空蒸鍍、輥涂、滴膜、壓印、印刷或噴涂中的一種方法制備。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種場(chǎng)效應(yīng)晶體管的制備方法,其特征在于,介電層厚度為5nm?10nmo5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種場(chǎng)效應(yīng)晶體管的制備方法,其特征在于,所述蟲(chóng)膠為脫蠟蟲(chóng)膠。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種場(chǎng)效應(yīng)晶體管的制備方法,其特征在于,所述金屬納米線材料為鐵納米線、銅納米線、銀納米線、金納米線、招納米線、鎳納米線、鈷納米線、猛納米線、鎘納米線、銦納米線、錫納米線、鎢納米線或鉑納米線中的一種或多種。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種場(chǎng)效應(yīng)晶體管的制備方法,其特征在于,所述的水溶性粘合劑為明膠或聚乙烯醇中的一種或兩種。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種場(chǎng)效應(yīng)晶體管的制備方法,其特征在于,所述半導(dǎo)體層為氧化鋅、氧化錫、碳納米管、氧化石墨烯、聚3-已基噻吩,6,13-雙(三異丙基硅烷基乙炔基)并五苯或含硅氧烷的聚異戊二烯衍生物中的一種,所述半導(dǎo)體層厚度為30nm?10nm0
      【文檔編號(hào)】H01L21/336GK105931971SQ201610548403
      【公開(kāi)日】2016年9月7日
      【申請(qǐng)日】2016年7月13日
      【發(fā)明人】于軍勝, 莊昕明, 韓世蛟, 鄭華靖
      【申請(qǐng)人】電子科技大學(xué)
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