。
[0036] 2、參考圖4,在腔體1的底部設有臺階2,介質塊4設置在臺階2與蓋板5之間。
[0037] 3、參考圖5,在腔體1的底部設有諧振桿3,介質塊4設置在諧振桿3與蓋板5之 間。
[003引 4、參考圖6,在腔體1的底部從下至上依次設有臺階2和諧振桿3,介質塊4設置 在諧振桿3與蓋板5之間。
[0039] 上述四種介質塊4的安裝方式，在腔體1內部設置了臺階2和/或諧振桿3,由于 臺階2、諧振桿3和上文中的調諧螺桿6和緊固螺母9不是必須構件，如果加工精度能保證， 調諧螺桿6和緊固螺母9可去掉，因此，本實用新型的諧振腔可W根據(jù)具體情況進行多種自 由組合。
[0040] 本實用新型的介質塊4直接設置在用于固定所述介質塊的構件上，介質塊4的下 表面與用于固定所述介質塊4的構件接觸，W對介質塊4進行安裝，因此，介質塊4的上表 面與蓋板5接觸或不接觸均可。
[0041] 另外，若介質塊4的上、下表面分別與蓋板5和用于固定所述介質塊4的構件接觸 時，介質塊4的上表面和下表面可W被金屬化（一般為刷銀），W保證介質塊4能與用于固 定所述介質塊4的構件良好接地。在介質塊4的上表面還設有金屬化的薄墊片或薄蓋板， 當介質塊4的上表面與蓋板5有接觸的情況下，薄墊片或薄蓋板可W釋放溫度變化過程中 產生的應力。
[0042] 為了更好的安裝介質塊4,本實用新型中用于固定介質塊4的構件，例如該構件為 諧振桿3,可在諧振桿3頂部設有一圈或兩圈第一凸起10,第一凸起10對應設置在介質塊 4徑向外側（參考圖7)、內側（參考圖8)或兩側（參考圖9)，在介質塊4安裝使用時可對 介質塊4進行限位。還可W在諧振桿3頂部設置有若干個第二凸起11，介質塊4下表面設 置有若干個與第二凸起11相匹配的凹槽，裝配時，介質塊4可W與構件諧振桿3插合（參 考圖10)，W達到對介質塊4進行限位的目的。
[0043] 參考圖3,當介質塊4直接設置在腔體1的底部上時，可在腔體1的底部開設與介 質塊4底部相匹配的凹槽，介質塊4設置在凹槽中，通過凹槽邊緣對介質塊4進行限位。
[0044] 參考圖11，在腔體1內設有諧振桿3的情況下，可將諧振桿3的圓盤采用介質材料 制成，此時諧振桿3的圓盤即為介質塊4,該樣設計的目的在于；介質塊4取代諧振腔傳統(tǒng) 金屬諧振桿的圓盤，通過將介質塊4的底部金屬化，達到介質加載盤比金屬圓盤更大福度 的降低諧振腔的諧振頻率的目的。
[0045] 需要說明的是，本實用新型若因加工精度滿足不了要求，設置了調諧螺桿6,介質 塊4需設置被調諧螺桿6穿過的孔。
[0046] 另外，因介質塊4 一般較薄，燒結使用的介質材料比燒結一般介質濾波器的諧振 桿少得多，故成本也較低。
[0047] W上所述，僅是本實用新型的較佳實施例而已，并非對本實用新型的結構做任何 形式上的限制。凡是依據(jù)本實用新型的技術實質對W上實施例所作的任何簡單修改、等同 變化與修飾，均仍屬于本實用新型的技術方案的范圍內。
【主權項】
1. 一種能大幅降低諧振頻率的諧振腔，包括腔體（1)和蓋板（5)，所述腔體（1)內部掏 空，所述腔體（1)頂部由蓋板（5)密封，其特征在于：所述腔體（1)內部設置有介電常數(shù)大 于1的介質塊（4)。
2. 根據(jù)權利要求1所述的一種能大幅降低諧振頻率的諧振腔，其特征在于：所述介質 塊（4)設置在所述腔體（1)的底部與所述蓋板（5)之間。
3. 根據(jù)權利要求1所述的一種能大幅降低諧振頻率的諧振腔，其特征在于：所述腔體 (1)的底部設有臺階（2)，所述介質塊（4)設置在所述臺階（2)與所述蓋板（5)之間。
4. 根據(jù)權利要求1所述的一種能大幅降低諧振頻率的諧振腔，其特征在于：所述腔體 (1)的底部設有諧振桿（3)，所述介質塊（4)設置在所述諧振桿（3)與所述蓋板（5)之間。
5. 根據(jù)權利要求1所述的一種能大幅降低諧振頻率的諧振腔，其特征在于：所述腔體 (1)的底部從下至上依次設有臺階（2)和諧振桿（3)，所述介質塊（4)設置在所述諧振桿 (3)與所述蓋板（5)之間。
6. 根據(jù)權利要求2、3、4或5所述的一種能大幅降低諧振頻率的諧振腔，其特征在于： 所述介質塊（4)的上表面與所述蓋板（5)接觸或不接觸，所述介質塊（4)的下表面與用于 固定所述介質塊（4)的構件接觸，并固定設置在所述構件上。
7. 根據(jù)權利要求4或5所述的一種能大幅降低諧振頻率的諧振腔，其特征在于：所述 介質塊（4)為所述諧振桿（3)的圓盤。
8. 根據(jù)權利要求6所述的一種能大幅降低諧振頻率的諧振腔，其特征在于：所述介質 塊（4)的上表面和/或下表面覆蓋有金屬層；所述介質塊（4)上表面還設有金屬化的薄墊 片或薄蓋板。
9. 根據(jù)權利要求7所述的一種能大幅降低諧振頻率的諧振腔，其特征在于：用于固定 所述介質塊（4)的構件頂部設有一圈或兩圈第一凸起（10)，所述第一凸起（10)對應設置在 所述介質塊（4)徑向外側、內側或兩側。
10. 根據(jù)權利要求7所述的一種能大幅降低諧振頻率的諧振腔，其特征在于：用于固定 所述介質塊（4)的構件頂部設置有若干個第二凸起（11)，所述介質塊（4)下表面設置有若 干個與所述第二凸起（11)相匹配的凹槽。
【專利摘要】本實用新型公開了一種能大幅降低諧振頻率的諧振腔，包括腔體和蓋板，腔體內部掏空，腔體頂部由蓋板密封，腔體內部設置有介電常數(shù)大于1的介質塊。本實用新型在降低濾波器高度的同時維持單腔橫向尺寸不變，通過介質加載大幅降低了諧振腔的諧振頻率。在濾波器的小型化中，當橫向尺寸的縮小已趨于飽和的情形下，通過降低縱向尺寸來縮小體積成為一種可能。而縱向尺寸的降低必然導致諧振腔頻率的上升。通過介質加載來抵消因降低高度導致的頻率上升，從而維持了諧振腔的諧振頻率，在濾波器的小型化中起到了極其重要的作用。
【IPC分類】H01P1-207
【公開號】CN204361232
【申請?zhí)枴緾N201520056964
【發(fā)明人】許建軍, 朱暉
【申請人】武漢凡谷電子技術股份有限公司
【公開日】2015年5月27日
【申請日】2015年1月27日