本發(fā)明涉及電子產(chǎn)品領(lǐng)域，特別是涉及一種印刷電路板操作簡單的制作方法。

背景技術(shù)：

印刷電路板即PCB是在絕緣基材上，按照預(yù)定的設(shè)計，制成印制線路，印制元件或由兩者組合而成的導(dǎo)電圖形后制成的板。印刷電路板誕生于上世紀(jì)四、五十年代，發(fā)展于上世紀(jì)八、九十年代。伴隨半導(dǎo)體技術(shù)和計算機技術(shù)的進步，印刷電路板向著高密度、細(xì)導(dǎo)線、更多層數(shù)的方向發(fā)展，其設(shè)計技術(shù)也從最初的手工繪制發(fā)展到計算機輔助設(shè)計和電子設(shè)計自動化?，F(xiàn)有的印刷電路板制作方法復(fù)雜，需要進行繁瑣的操作才能得到，不利于推廣應(yīng)用。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種印刷電路板操作簡單的制作方法，能夠?qū)崿F(xiàn)簡單易行的制作方法。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的一個技術(shù)方案是：提供一種印刷電路板操作簡單的制作方法，包括步驟為：將電路圖打印于制版膠片上，并對所述制版膠片進行裁剪，得到印有電路圖的制版膠片；將所述制版膠片置于感光板上，再將感光板置于第一玻璃上，并將第二玻璃蓋于所述制版膠片上進行曝光，得到曝光后的感光板；將所述感光板置于顯影液中顯影，顯影結(jié)束后晾干得到印刷電路板。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，對印于制版膠片上的電路圖進行檢查，若有斷裂或不完整的線條要進行修版。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述曝光時間為10-60分鐘，所述光源距離為1-3m。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述顯影時間為5-15分鐘。

本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明的印刷電路板操作簡單的制作方法，該制作方法操作簡單，能夠有效的減少勞動工作量，極大的節(jié)約了制作時間，在滿足使用上的質(zhì)量要求的前提下，大大降低了制作成本，利于推廣應(yīng)用。

具體實施方式

下面將對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅是本發(fā)明的一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

實施例一：

提供一種印刷電路板操作簡單的制作方法，包括步驟為：

（1）將電路圖打印于制版膠片上，并對所述制版膠片進行裁剪，得到印有電路圖的制版膠片，對印于制版膠片上的電路圖進行檢查，若有斷裂或不完整的線條要進行修版；

（2）將所述制版膠片置于感光板上，再將感光板置于第一玻璃上，并將第二玻璃蓋于所述制版膠片上進行曝光，所述曝光時間為40分鐘，所述光源距離為2m，得到曝光后的感光板；

（3）將所述感光板置于顯影液中顯影，所述顯影時間為15分鐘，顯影結(jié)束后晾干得到印刷電路板。

實施例二：

提供一種印刷電路板操作簡單的制作方法，包括步驟為：

（1）將電路圖打印于制版膠片上，并對所述制版膠片進行裁剪，得到印有電路圖的制版膠片，對印于制版膠片上的電路圖進行檢查，若有斷裂或不完整的線條要進行修版；

（2）將所述制版膠片置于感光板上，再將感光板置于第一玻璃上，并將第二玻璃蓋于所述制版膠片上進行曝光，所述曝光時間為60分鐘，所述光源距離為1m，得到曝光后的感光板；

（3）將所述感光板置于顯影液中顯影，所述顯影時間為5分鐘，顯影結(jié)束后晾干得到印刷電路板。

實施例三：

提供一種印刷電路板操作簡單的制作方法，包括步驟為：

（1）將電路圖打印于制版膠片上，并對所述制版膠片進行裁剪，得到印有電路圖的制版膠片，對印于制版膠片上的電路圖進行檢查，若有斷裂或不完整的線條要進行修版；

（2）將所述制版膠片置于感光板上，再將感光板置于第一玻璃上，并將第二玻璃蓋于所述制版膠片上進行曝光，所述曝光時間為10分鐘，所述光源距離為3m，得到曝光后的感光板；

（3）將所述感光板置于顯影液中顯影，所述顯影時間為10分鐘，顯影結(jié)束后晾干得到印刷電路板。

本發(fā)明的有益效果是：

一、所述印刷電路板操作簡單的制作方法操作簡單，能夠有效的減少勞動工作量，極大的節(jié)約了制作時間；

二、所述印刷電路板操作簡單的制作方法在滿足使用上的質(zhì)量要求的前提下，大大降低了制作成本，利于推廣應(yīng)用。

以上所述僅為本發(fā)明的實施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運用在其它相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內(nèi)。