本技術(shù)屬于顯示，尤其涉及一種顯示面板、顯示裝置及顯示面板的制備方法。

背景技術(shù)：

1、有機發(fā)光二極管(organic?light?emitting?display，oled)以及基于發(fā)光二極管(light?emitting?diode，led)等技術(shù)的平面顯示裝置因具有高畫質(zhì)、省電、機身薄及應用范圍廣等優(yōu)點，而被廣泛的應用于手機、電視、筆記本電腦、臺式電腦等各種消費性電子產(chǎn)品，成為顯示裝置中的主流。

2、但目前的oled顯示產(chǎn)品的使用性能有待提升。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本技術(shù)的目的是提供了一種顯示面板、顯示裝置及顯示面板的制備方法，能夠提高顯示面板的使用性能。

2、本技術(shù)第一方面提供一種顯示面板，顯示面板包括基板、隔離結(jié)構(gòu)和像素單元；隔離結(jié)構(gòu)設置于基板的一側(cè)，并圍合形成有隔離開口，像素單元包括發(fā)光顏色不相同的第一子像素和第二子像素，第一子像素、和第二子像素均包括沿遠離基板的方向依次設置的第一電極、發(fā)光功能層和第二電極；在沿垂直于基板的方向上，第一子像素的第一電極的厚度分別小于第二子像素的第一電極的厚度。

3、在一些實施例中，像素單元還包括第三子像素，第一子像素、第二子像素和第三子像素的發(fā)光顏色互不相同，第三子像素也包括沿遠離基板的方向依次設置的第一電極、發(fā)光功能層和第二電極，在沿垂直于基板的方向上，第二子像素的第一電極的厚度不大于第三子像素的第一電極的厚度；

4、優(yōu)選地，在沿垂直于基板的方向上，第二子像素的第一電極的厚度小于第三子像素的第一電極的厚度。

5、在一些實施例中，在沿垂直于基板的方向上，第一子像素的第一電極的厚度為d1，第二子像素的第一電極的厚度為d2，d1和d2滿足：1＜d2/d1≤2。

6、在一些實施例中，像素單元還包括第三子像素，第一子像素、第二子像素和第三子像素的發(fā)光顏色互不相同，第三子像素也包括沿遠離基板的方向依次設置的第一電極、發(fā)光功能層和第二電極；在沿垂直于所述基板的方向上，所述第三子像素的第一電極的厚度為d3，所述d2和d3滿足：1＜d3/d2≤2。

7、在一些實施例中，發(fā)光功能層包括沿遠離基板的方向依次設置的空穴注入層、空穴傳輸層和發(fā)光層，空穴注入層設置在第一電極上。

8、在一些實施例中，在沿垂直于所述基板的方向上，所述第一子像素的空穴注入層的厚度為h1，所述第二子像素的空穴注入層的厚度為h2；其中，h1和h2滿足：h1＜h2。

9、優(yōu)選的，h1和h2滿足：1.5≤h2/h1≤2。

10、在一些實施例中，像素單元還包括第三子像素，第一子像素、第二子像素和第三子像素的發(fā)光顏色互不相同，第三子像素也包括沿遠離基板的方向依次設置的第一電極、發(fā)光功能層和第二電極；第三子像素的空穴注入層的厚度為h3，h1和h3滿足：h1＜h3；

11、優(yōu)選的，h2和h3滿足：h2＜h3；

12、優(yōu)選的，h2和h3滿足：1.5≤h3/h2≤2。

13、在一些實施例中，隔離結(jié)構(gòu)呈網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)；

14、優(yōu)選的，像素單元還包括第三子像素，第一子像素、第二子像素和第三子像素的發(fā)光顏色互不相同，第一子像素、第二子像素和第三子像素對應設置于隔離開口。

15、在一些實施例中，隔離結(jié)構(gòu)包括第一隔離部和第二隔離部，第一隔離部設置在基板上，第二隔離部設置在第一隔離部背離基板的一側(cè)，第一隔離部在基板的正投影位于第二隔離部在基板的正投影內(nèi)。

16、優(yōu)選的，第一隔離部包括沿遠離基板方向依次設置的第一子部和第二子部，第一子部沿垂直于基板方向的厚度小于第二子部沿垂直于基板方向的厚度。

17、在一些實施例中，第三子像素包括沿遠離基板的方向依次設置的第一電極、發(fā)光功能層和第二電極，第二子部包括導電結(jié)構(gòu)，第二電極與第二子部搭接；

18、優(yōu)選的，第一子部包括導電結(jié)構(gòu)，第二電極與第一子部搭接。

19、在一些實施例中，顯示面板還包括設置在基板上的像素定義層，隔離結(jié)構(gòu)設置在像素定義層背離基板的一側(cè)，像素定義層具有像素開口，像素開口與隔離開口互相連通；

20、優(yōu)選的，像素定義層包括無機材料。

21、第二方面，本技術(shù)實施例還提供了一種顯示面板，包括基板、像素單元和限定結(jié)構(gòu)；像素單元包括發(fā)光顏色互不相同的第一子像素、第二子像素和第三子像素，第一子像素、第二子像素和第三子像素均包括沿遠離基板的方向依次設置的第一電極、發(fā)光功能層和第二電極，至少部分第一電極由隔離開口露出，發(fā)光功能層與第二電極位于隔離開口內(nèi)；在沿垂直于基板的方向上，第一子像素的第一電極的厚度分別小于第二子像素和第三子像素的第一電極的厚度；限定結(jié)構(gòu)設置于基板的一側(cè)并用于限定像素單元。

22、在一些實施例中，在沿垂直于基板的方向上，第二子像素的第一電極的厚度不大于第三子像素的第一電極的厚度；

23、優(yōu)選地，在沿垂直于基板的方向上，第二子像素的第一電極的厚度小于第三子像素的第一電極的厚度。

24、在一些實施例中，在沿垂直于基板的方向上，第一子像素的第一電極的厚度為d1，第二子像素的第一電極的厚度為d2，d1和d2滿足：1＜d2/d1≤2。

25、在一些實施例中，在沿垂直于所述基板的方向上，所述第三子像素的第一電極的厚度為d3，所述d2和d3滿足：1＜d3/d2≤2。

26、在一些實施例中，發(fā)光功能層包括沿遠離基板的方向依次設置的空穴注入層、空穴傳輸層和發(fā)光層，空穴注入層設置在第一電極上。

27、在一些實施例中，在沿垂直于所述基板的方向上，所述第一子像素的空穴注入層的厚度為h1，所述第二子像素的空穴注入層的厚度為h2，其中，h1和h2滿足：h1＜h2。

28、優(yōu)選的，h1和h2滿足：1.5≤h2/h1≤2。

29、在一些實施例中，第三子像素的空穴注入層的厚度為h3，h1和h3滿足：h1＜h3；

30、優(yōu)選的，h2和h3滿足：h2＜h3；

31、優(yōu)選的，h2和h3滿足：1.5≤h3/h2≤2。

32、在一些實施例中，限定結(jié)構(gòu)包括隔離結(jié)構(gòu)，隔離結(jié)構(gòu)圍合形成有隔離開口而呈網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)并包括導電結(jié)構(gòu)，第二電極與導電結(jié)構(gòu)搭接；

33、限定結(jié)構(gòu)還包括像素定義層，隔離結(jié)構(gòu)設置在像素定義層背離基板的一側(cè)，像素定義層為無機材料，像素定義層具有與像素單元對應的像素開口。

34、第三方面，本技術(shù)實施例還提供了一種顯示面板的制備方法，包括以下步驟：

35、在基板的一側(cè)蒸鍍第一電極的材料，刻蝕形成多個間隔設置的第一電極；其中，在沿垂直于所述基板的方向上，第一子像素的第一電極的厚度小于第二子像素的第一電極的厚度；

36、在所述第一電極背離所述基板的一側(cè)依次制備形成發(fā)光功能層和第二電極；其中，所述第一子像素和第二子像素的發(fā)光顏色互不相同。

37、在一些實施例中，在所述第一電極背離所述基板的一側(cè)依次制備形成發(fā)光功能層和第二電極的步驟之前還包括：

38、分別對第一子像素和第二子像素的第一電極的表面進行清洗處理。

39、在一些實施例中，第二子像素的第一電極表面清洗次數(shù)大于第一子像素的第一電極表面清洗次數(shù)。

40、在一些實施例中，像素單元還包括第三子像素，第一子像素、第二子像素和第三子像素的發(fā)光顏色互不相同，第三子像素也包括沿遠離基板的方向依次設置的第一電極、發(fā)光功能層和第二電極；第三子像素的第一電極表面清洗次數(shù)大于第二子像素的第一電極表面清洗次數(shù)。

41、在一些實施例中，清洗處理采用等離子體處理。

42、第四方面，本技術(shù)實施例還提供了一種顯示裝置，包括如上述任一實施方式的顯示面板，或者上述任一實施方式的制備方法制備得到的顯示面板。

43、本技術(shù)實施例提供一種顯示面板、顯示裝置及顯示面板的制備方法。顯示面板包括基板、隔離結(jié)構(gòu)和像素單元；隔離結(jié)構(gòu)設置于基板的一側(cè)，并圍合形成有隔離開口；像素單元包括顏色不相同的第一子像素和第二子像素，第一子像素和第二子像素均包括沿遠離基板的方向依次設置的第一電極、發(fā)光功能層和第二電極。第一子像素為像素單元中第一個圖案化的子像素，由于在沿垂直于基板的方向上，第一子像素的第一電極的厚度小于第二子像素的第一電極的厚度，因此在對第一子像素進行圖案化時有刻蝕工藝，即使對第二子像素的第一電極過刻產(chǎn)生破壞，但是仍然能保證第一子像素的第一電極具有一定的厚度，能夠提高顯示面板的使用性能。