的音叉型石英晶體諧振片中不會(huì)出現(xiàn)的技術(shù)問(wèn)題。
[0110]對(duì)此,本實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)的特征在于,溝槽53被形成為相對(duì)于第一腳部51、第二腳部52的寬度方向(X軸方向)的中心偏位,而且,溝槽53在寬度方向(X軸方向)的截面形狀中,溝槽53的最低點(diǎn)533至腳部的兩個(gè)側(cè)面為止的長(zhǎng)度(Wl和W2)相同?;诒緦?shí)施方式,由于溝槽53的最低點(diǎn)533至腳部的兩個(gè)側(cè)面為止的長(zhǎng)度(Wl和W2)相同,所以,對(duì)于由石英晶片構(gòu)成,且溝槽53被形成為相對(duì)于第一腳部51、第二腳部52的寬度方向(X軸方向)的中心偏位的結(jié)構(gòu),能夠進(jìn)一步進(jìn)行重量補(bǔ)償來(lái)保持重量平衡。這與對(duì)石英晶體諧振片2采用石英晶片有關(guān),溝槽53的由多個(gè)面構(gòu)成的側(cè)面532具有傾斜面,側(cè)面532 (多個(gè)面)的傾斜面的角度(寬度尺寸)不同。因此,雖然因形成溝槽53而使腳部(第一腳部51及第二腳部52)重量失去平衡,但基于本實(shí)施方式,由于溝槽53在第一腳部51及第二腳部52的寬度方向(X軸方向)的截面形狀中,溝槽53的最低點(diǎn)533至腳部的兩個(gè)側(cè)面為止的長(zhǎng)度(Wl和W2)相同,所以,能夠防止腳部(第一腳部51及第二腳部52)重量失去平衡。
[0111]具體而言,基于本實(shí)施方式,由石英晶片構(gòu)成,且在第一腳部51、第二腳部52,各自的溝槽53被形成為相對(duì)于第一腳部51、第二腳部52的寬度方向(X軸方向)的中心偏位,溝槽53在圖3所示的寬度方向(X軸方向)的截面形狀中,溝槽53的最低點(diǎn)533至腳部的兩個(gè)側(cè)面為止的長(zhǎng)度(Wl和W2)相同,所以能夠防止第一腳部51及第二腳部52各自重量失去平衡。
[0112]使溝槽53的位置相對(duì)于第一腳部51、第二腳部52的寬度方向(X軸方向)的中心偏位,能夠?qū)崿F(xiàn)第一腳部51及第二腳部52在寬度方向(X軸方向)上的左右重量平衡。進(jìn)一步,溝槽53在第一腳部51及第二腳部52的寬度方向(X軸方向)的截面形狀中,溝槽53的最低點(diǎn)533至腳部的兩個(gè)側(cè)面為止的長(zhǎng)度(Wl和W2)相同,因而能夠減小側(cè)面532 (多個(gè)面)的斜面的面積差(X軸方向的寬度尺寸差)。
[0113]其結(jié)果,能夠?qū)崿F(xiàn)良好的重量平衡。另外,在這一點(diǎn)上,以往的音叉型石英晶體諧振片則由于腳部的左右斜面的面積差較大,所以?shī)A著溝槽的腳部左右的厚度不同。因此,在腳部左右會(huì)引起不同頻率的振蕩,結(jié)果會(huì)失去振蕩平衡。
[0114]另外,與本實(shí)施方式不同,溝槽存在底面的情況下,最低點(diǎn)的位置不清楚而重量失去平衡,但基于本實(shí)施方式,則不會(huì)發(fā)生這樣的問(wèn)題?;诒緦?shí)施方式,不存在底面,只存在最低點(diǎn)533。
[0115]另外,以往的、在各腳部形成有溝槽的音叉型石英晶體諧振片不只產(chǎn)生激勵(lì)所需要的主振蕩,還會(huì)產(chǎn)生其它振蕩模(縱向振蕩模等)。這與以往的結(jié)構(gòu)中、溝槽的最低點(diǎn)或底面被形成為相對(duì)于腳部的寬度方向的中心大大偏位有關(guān),另外,原因在于,溝槽的內(nèi)面為相對(duì)于主面傾斜的傾斜面。
[0116]對(duì)此,基于本實(shí)施方式,在第一腳部51、第二腳部52,各自的溝槽53分別被形成為相對(duì)于第一腳部51、第二腳部52的寬度方向(X軸方向)的中心偏位,溝槽53在第一腳部51、第二腳部52的寬度方向(X軸方向)的截面形狀中,溝槽53的最低點(diǎn)533至腳部的兩個(gè)側(cè)面為止的長(zhǎng)度(Wl和W2)相同,所以,在第一腳部51及第二腳部52的寬度方向(X軸方向)的截面形狀中,溝槽53的內(nèi)面531中的側(cè)面532的形狀基本對(duì)稱。另外,與以往的音叉型石英晶體諧振片相比,溝槽53的內(nèi)面中,傾斜面能被減少一個(gè)以上。S卩,由于溝槽53的內(nèi)面的一個(gè)以上被減少,所以使其它傾斜面的構(gòu)成比率(面積)發(fā)生變化,而且,由于被減少的面,溝槽53的最低點(diǎn)533能被配置到腳部51、52的中間位置。
[0117]其結(jié)果,能夠避免被減少的傾斜面所引起的其它振蕩模(縱向振蕩模等)的發(fā)生。
[0118]然而,現(xiàn)在,裝載石英晶體諧振片2的石英晶體諧振器I或振蕩器(省略圖示)等石英晶體諧振裝置的封裝尺寸有減小的趨勢(shì)(例如,封裝尺寸:2.0mmX 1.2mm以下,石英晶體諧振片2的全長(zhǎng)(作為長(zhǎng)邊方向的第一腳部51及第二腳部52的延伸方向的尺寸):
1.5mm以下),發(fā)明者已經(jīng)確認(rèn)到,隨著小型化,石英晶體諧振片2的振蕩中容易發(fā)生亂真。另一方面,以往,由于石英晶體諧振片2中幾乎不會(huì)發(fā)生亂真,所以沒(méi)有考慮抑制亂真,但是,對(duì)于現(xiàn)在的小型石英晶體諧振片2,還有必要考慮抑制亂真。對(duì)于該亂真的發(fā)生,基于本實(shí)施方式,通過(guò)減少溝槽53的側(cè)面532的傾斜面、減小傾斜面的傾斜度差,能夠?qū)崿F(xiàn)亂真抑制,其結(jié)果,能夠通過(guò)抑制亂真而降低Cl值。本實(shí)施方式最適合于小型的石英晶體諧振片
2。另外,還能防止出現(xiàn)因亂真發(fā)生而使振蕩頻率的值(主振蕩的值)變化的情況。
[0119]另外,一個(gè)主面41側(cè)的溝槽53和另一主面42側(cè)的溝槽53在延伸方向的截面形狀中,最低點(diǎn)533所處的位置相對(duì),所以,能防止相對(duì)于第一腳部51及第二腳部52各自的厚度方向重量失去平衡的情況發(fā)生。其結(jié)果,能夠抑制因重量失去平衡而引起的其它振蕩模(縱向振蕩模等)的發(fā)生,抑制石英晶體諧振片2的特性惡化,例如能降低Cl值、抑制Cl值的上升。
[0120]通過(guò)如上所述那樣在腳部51、52形成溝槽53,能夠?qū)⒖膊?6成形于腳部51、52。換言之,能在腳部51、52同時(shí)形成溝槽53和坎部56。
[0121]坎部56由寬度在厚度方向上不同的第一坎部561、及寬度在厚度方向上大致不變的第二坎部562構(gòu)成。另外,第一坎部561和第二坎部562都具有溝槽53的側(cè)面532和腳部51、52的側(cè)面。
[0122]在第一腳部51及第二腳部52的主面(一個(gè)主面41、另一主面42)上,相對(duì)于第二坎部562,第一坎部561被構(gòu)成為,從溝槽53 (溝槽53的側(cè)面532)至腳部(第一腳部51及第二腳部52)的兩側(cè)面43為止的距離較短(寬度窄)。
[0123]第一坎部561由寬度較寬的寬壁部563、和寬度較窄的窄壁部564構(gòu)成。本實(shí)施方式中,在腳部51、52的厚度方向上,坎部56的寬度不同,位于腳部51、52的主面41、42側(cè)的坎部56的前端部565側(cè)的寬度較窄;位于腳部51、52的厚度方向的中間的坎部56的根端部566側(cè)的寬度較寬,第一坎部561 (具體而言,是腳部51、52的側(cè)面43)被成形為斜坡形,從而從窄壁部564至寬壁部563寬度尺寸逐漸改變。因此,第一坎部561中,使斜坡形狀的部位包含在寬壁部563中,則圖3所示的第一坎部561的寬壁部563的截面形狀為梯形,成為梯形上表面(頂面)的腳部51、52的側(cè)面43與相當(dāng)于下表面的溝槽53的側(cè)面532隔著第一坎部561相互背對(duì)。該斜坡被成形在腳部51、52各自的側(cè)面43。另外,窄壁部564中,腳部51、52的側(cè)面43與溝槽53的側(cè)面532隔著第一坎部561相互背對(duì)。
[0124]第二坎部562中,腳部51、52的側(cè)面43未被成形為斜坡,而被成形為大致平坦面。與第二坎部562對(duì)應(yīng)的腳部51、52的側(cè)面43和第一坎部561的寬壁部563的梯形的頂面為平行關(guān)系。
[0125]如上所述那樣,本實(shí)施方式所涉及的第一腳部51及第二腳部52中,溝槽53在圖3所示的X軸方向的截面形狀中,溝槽53的最低點(diǎn)533至兩側(cè)面為止的尺寸(W1、W2)的長(zhǎng)度相同,另外,溝槽53的最低點(diǎn)533位于腳部51、52的中間。這是因?yàn)椋瑴喜?3被形成為相對(duì)于第一腳部51、第二腳部52的寬度方向(X軸方向)的中心偏位;與第一坎部561相比第二坎部562寬度更寬(寬度尺寸大);第一坎部561由寬壁部563和窄壁部564構(gòu)成;以及溝槽53的最低點(diǎn)533所處的位置的寬度方向上有寬壁部563,所以,溝槽53的最低點(diǎn)533到兩側(cè)面為止的尺寸(W1、W2)的長(zhǎng)度相同。
[0126]另外,在本實(shí)施方式中,只在兩根腳部51、52的至少一個(gè)主面(本實(shí)施方式中是另一主面42)中,比形成有引出電極83、84的部位(與激勵(lì)相關(guān)的部位)更靠前端的前端部9上電鍍形成了金屬膜93。金屬膜93對(duì)于第一激勵(lì)電極81、第二激勵(lì)電極82、及引出電極83、84為非導(dǎo)通狀態(tài)。另外,兩根腳部51、52的至少一個(gè)主面(本實(shí)施方式中是另一主面42)中,金屬膜93周圍的基板4被露出。
[0127]進(jìn)一步,在比前端部9的金屬膜93更靠前端側(cè),電鍍形成有振蕩頻率微調(diào)節(jié)用的前端金屬膜96。有關(guān)該前端金屬膜96,斜面部位(前端面91的兩側(cè)端92)及前端部9的兩主面41、42上也形成有前端金屬膜96。該前端金屬膜96對(duì)于第一激勵(lì)電極8