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      音叉型石英晶體諧振片及石英晶體諧振器的制造方法_5

      文檔序號:9402320閱讀:來源:國知局
      1、第二激勵電極82、及引出電極83、84為導(dǎo)通狀態(tài),對于金屬膜93為非導(dǎo)通狀態(tài)。
      [0128]具有上述結(jié)構(gòu)的石英晶體諧振片2,采用由具有結(jié)晶取向的各向異性材料的石英晶體Z板構(gòu)成的石英晶圓(省略圖示),利用光刻技術(shù)(光刻法),將保護涂層作為掩膜,例如通過濕法刻蝕來實現(xiàn)石英晶體諧振片2的基板4的外形成形。
      [0129]基板4的平板成形之后,利用光刻法,將保護涂層作為掩膜,例如通過濕法刻蝕,電鍍形成第一激勵電極81、第二激勵電極82、引出電極83、84、金屬膜93、及前端金屬膜96 (金屬膜形成工序)。
      [0130]金屬膜形成工序中,在兩根腳部51、52的前端部9的至少一個主面(另一主面42)上,形成周圍(周邊部94)為基板4平板的島狀金屬膜93,以使金屬膜93對于第一激勵電極81、第二激勵電極82、引出電極83、引出電極84、及前端金屬膜96成為非導(dǎo)通狀態(tài)。
      [0131]在金屬膜形成工序之后,電鍍形成與外部電連接用的導(dǎo)電性凸塊61。
      [0132]然后,根據(jù)需要,利用干法刻蝕將前端金屬膜除去,進行振蕩頻率的微調(diào)節(jié),從而完成石英晶體諧振片2的頻率調(diào)節(jié)。
      [0133]通過上述制造工序制造出的、具有上述結(jié)構(gòu)的石英晶體諧振片2的平板(基板4)被成形為圖3、4所示的形狀。從圖3、4可知,本實施方式所涉及的石英晶體諧振片2中,石英晶體諧振片2的腳部51、52的根部6側(cè)的平板形狀為左右對稱的平衡良好的形狀。
      [0134]基于本實施方式所涉及的石英晶體諧振片2及石英晶體諧振器I,對于設(shè)置有形成了溝槽53的腳部51、52的石英晶體諧振片2,即便是相對于腳部51、52的寬度,溝槽53的寬度較大,也能實現(xiàn)穩(wěn)定的振蕩。具體而言,由于第一坎部561由寬壁部563和窄壁部564構(gòu)成,所以,能夠使第一坎部561的寬度實質(zhì)上較厚,其結(jié)果,能夠抑制其它振蕩模的發(fā)生(亂真的發(fā)生),實現(xiàn)穩(wěn)定的振蕩。另外,基于以往的音叉型石英晶體諧振片,雖然可以通過擴寬溝槽的寬度來實現(xiàn)Cl值的降低,但另一方面,如果使腳部側(cè)面的形狀平坦,則會使坎部的寬度整體上變窄,其結(jié)果,會導(dǎo)致剛性降低。因此,以往的音叉型石英晶體諧振片中,將溝槽的寬度擴寬而實現(xiàn)Cl值的降低的方式,會使振蕩所需的坎部寬度難于得到確保。對此,基于本實施方式所涉及的石英晶體諧振片2及石英晶體諧振器1,通過擴寬溝槽53的寬度能實現(xiàn)Cl值的降低,并能確保振蕩所需的坎部56的寬度。
      [0135]另外,基于本實施方式所涉及的石英晶體諧振片2及石英晶體諧振器1,由于第一坎部561由寬壁部563和窄壁部564構(gòu)成,所以通過寬壁部563,既能實現(xiàn)石英晶體諧振片2的小型化,又能使剛性強化,其結(jié)果,能夠獲得穩(wěn)定的振蕩,抑制振蕩頻率的增加。另外,通過窄壁部564,既能實現(xiàn)石英晶體諧振片2的小型化,又能使Cl值降低。這樣,通過采用寬壁部563和窄壁部564的結(jié)構(gòu),能夠提供在利用寬壁部563維持剛性的同時,相對于腳部51、52的寬度擴大了溝槽53的寬度,并在抑制振蕩頻率的增加的同時降低了 Cl值的小型石英晶體諧振片2。
      [0136]另外,雖然溝槽53被形成為相對于腳部51、52的寬度方向的中心偏位,但溝槽53的最低點533至腳部51、52的兩側(cè)面43為止的長度相同,借助于寬壁部563,在寬度方向的截面形狀中,溝槽53左右的重量平衡良好。其結(jié)果,能夠?qū)崿F(xiàn)振蕩的穩(wěn)定化。
      [0137]另外,寬壁部563的截面形狀為梯形,溝槽53的最低點533所處位置的寬度方向上有寬壁部563,因而,能夠使形成在溝槽53的激勵電極82與配置在兩側(cè)面43的激勵電極81隔著第一坎部561相互背對,其結(jié)果,能夠提高振蕩效率并使Cl值降低。
      [0138]另外,由于寬壁部563的梯形頂面被配置為與溝槽53的側(cè)面相互背對,所以能夠利用作為一對的第一激勵電極81、第二激勵電極82來形成平行電極,獲得最理想的電流效率。特別是,通過將寬壁部563構(gòu)成為梯形形狀,能夠使第一坎部561的一部分區(qū)域相對于彎曲方向有一定的厚度,從而有望抑制其它振蕩模(縱向振蕩模等)的發(fā)生并降低Cl值。
      [0139]另外,在比前端部9的金屬膜93更靠前端側(cè),形成有調(diào)節(jié)振蕩頻率用的前端金屬膜96,由于前端金屬膜96與金屬膜93之間為非導(dǎo)通狀態(tài),所以,因凹部95形成而調(diào)節(jié)頻率之后,還可以用其它方式進行振蕩頻率的微調(diào)節(jié)。另外,由于在比前端部9的金屬膜93更靠前端側(cè)形成有前端金屬膜96,所以能夠?qū)ξ锢砩系臎_撞(例如,裝載有石英晶體諧振片2的基座3與石英晶體諧振片2相碰等)起到保護作用。
      [0140]另外,本實施方式中,在各腳部51、52的兩主面41、42上分別形成有溝槽53,但不局限于此,也可以只在各腳部51、52的兩主面41、42中的任意一個主面上形成溝槽53。即使在這種情況下,也能夠獲得本實施方式的效果,但較佳為,在兩主面41、42上形成溝槽53。
      [0141]另外,本實施方式中,在兩根腳部51、52的前端部9的另一主面42上形成有金屬膜93,但不局限于此,也可以在腳部51、52的前端部9的兩主面41、42上形成金屬膜93。
      [0142]另外,有關(guān)坎部56的寬度,不局限于圖3所示的本實施方式,例如,也可以如圖6所示那樣,將坎部56的前端部565的寬度設(shè)定得比圖3所示的形態(tài)更窄。另外,圖6所示的坎部56中,第一坎部561及第二坎部562的前端部565的寬度較窄,但不局限于此,也可以是至少使有寬壁部563和窄壁部564的第一坎部561的前端部565的寬度較窄。
      [0143]另外,本實施方式中,如圖3所示那樣,相當(dāng)于第一坎部561的寬壁部563(除去斜坡形狀的部位)的側(cè)面43為平坦面,但也可以為圖6所示那樣的向外側(cè)凸出的形狀。
      [0144]本發(fā)明可以不超越其構(gòu)思及主要特征,而以其它各種形式實施。因此,上述實施方式只不過是對各方面的示例而已,不能作限定性的解釋。本發(fā)明的范圍是權(quán)利要求書所表達的范圍,說明書中不存在任何限定。而且,屬于權(quán)利要求書的同等范圍內(nèi)的變形和變更均涵蓋在本發(fā)明的范圍之內(nèi)。
      [0145]另外,本申請要求基于2013年4月11日向日本提出了申請的特愿2013-083066號的優(yōu)先權(quán)。因而,其所有內(nèi)容被導(dǎo)入本申請。
      [0146]工業(yè)實用性
      [0147]本發(fā)明對于設(shè)有形成了溝槽的腳部的音叉型石英晶體諧振片有效,尤其適合于實現(xiàn)了小型化的音叉型石英晶體諧振片。
      【主權(quán)項】
      1.一種音叉型石英晶體諧振片,其特征在于: 設(shè)有根部、和從所述根部向一個方向伸出的一對腳部, 所述各腳部的至少一個主面上形成有溝槽和坎部, 所述坎部是因所述溝槽的形成而成形的, 所述坎部的寬度在厚度方向上不同,所述坎部由寬度較寬的寬壁部和寬度較窄的窄壁部構(gòu)成。2.如權(quán)利要求1所述的音叉型石英晶體諧振片,其特征在于: 所述溝槽被形成為相對于所述腳部的寬度方向的中心偏位, 所述溝槽為,在所述寬度方向的截面形狀中,所述溝槽的最低點至所述腳部的兩側(cè)面為止的長度相同。3.如權(quán)利要求1或2所述的音叉型石英晶體諧振片,其特征在于: 在所述寬度方向的截面形狀中,所述寬壁部的截面形狀為梯形, 所述溝槽的最低點所在位置的寬度方向上有所述寬壁部。4.如權(quán)利要求3所述的音叉型石英晶體諧振片,其特征在于: 所述寬壁部的梯形的頂面被配置為與所述溝槽的側(cè)面相互背對。5.如權(quán)利要求2至4中任一項所述的音叉型壓電振蕩片,其特征在于: 所述腳部的兩主面上,分別形成有一個主面?zhèn)鹊臏喜酆土硪恢髅鎮(zhèn)鹊臏喜郏? 一個主面?zhèn)鹊臏喜酆土硪恢髅鎮(zhèn)鹊臏喜墼谘由旆较虻慕孛嫘螤钪?,所述最低點所處的位置相對。6.一種石英晶體諧振器,其特征在于:具備權(quán)利要求1至5中任一項所述的音叉型石英晶體諧振片。
      【專利摘要】一種音叉型石英晶體諧振片,設(shè)有根部、和從根部向一個方向伸出的一對腳部。各腳部的至少一個主面上形成有溝槽和坎部??膊渴且驕喜鄣男纬啥尚蔚模膊康膶挾仍诤穸确较蛏喜煌?。坎部由寬度較寬的寬壁部、和寬度較窄的窄壁部構(gòu)成。
      【IPC分類】H03H9/19, H03H9/215
      【公開號】CN105122643
      【申請?zhí)枴緾N201480020666
      【發(fā)明人】石野悟, 阪本和靖
      【申請人】株式會社大真空
      【公開日】2015年12月2日
      【申請日】2014年3月12日
      【公告號】WO2014167933A1
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