專利名稱：光掩模缺陷修正方法、圖案轉(zhuǎn)印方法、光掩模及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在制造液晶顯示裝置等時(shí)使用的光掩模的缺陷修正方法、光掩模的制造方法、光掩模以及圖案轉(zhuǎn)印方法。
背景技術(shù)：
在電視機(jī)和監(jiān)視器等圖像顯示裝置的領(lǐng)域中，薄膜晶體管液晶顯示裝置 (ThinFilm Transistor Liquid Crystal Display 以下稱為 TFT-LCD)與采用 CRT(陰極射線管)的顯示裝置相比，具有容易做薄而且功耗低的優(yōu)點(diǎn)，因而在市場(chǎng)中的商品占有率急速增加。TFT-IXD大致具有隔著液晶相使TFT基板與濾色器重疊的構(gòu)造，TFT基板被構(gòu)造成在呈矩陣狀排列的各個(gè)像素上排列TFT，濾色器與各個(gè)像素對(duì)應(yīng)地排列了紅色、綠色和藍(lán)色的像素圖案。在制造被用于上述產(chǎn)品中的TFT和濾色器時(shí)采用光刻工藝，該光刻工藝?yán)昧斯庋谀?。隨著近年來圖像顯示裝置的高精細(xì)化所導(dǎo)致的圖案高密度化，此處使用的光掩模中，有不少光掩模具有約1 5μπι的線寬。例如，需要在具有線圖案(line pattern) 或者間隔圖案(space pattern)的寬度為3. 0 μ m以下的細(xì)微線與間隔圖案(line and spacepattern)的ITO導(dǎo)電膜、或者具有同樣線寬的薄膜晶體管的溝道圖案等的圖案加工中使用的光掩模。并且，為了減少在制造工藝中使用的光掩模的數(shù)量，需要使用了曝光設(shè)備的曝光解像極限以下(主要是線寬3μπι以下)的細(xì)微圖案的光掩模(下面說明的多灰度光掩模的一種)，因此要求形成極其細(xì)微的圖案。另外，在大型LCD用掩模的領(lǐng)域中，已經(jīng)知曉這樣的光掩模(下面稱為多灰度光掩模)其具有除了遮光部和透光部之外還包括透過率控制部的轉(zhuǎn)印用圖案。其使用目的是， 在使用光掩模進(jìn)行圖案轉(zhuǎn)印時(shí)，控制透過透過率控制部的光的透射量，從而控制形成于被轉(zhuǎn)印體上的光致抗蝕劑的膜厚。例如，在此使用的多灰度光掩模中，有的利用細(xì)微線寬的遮光部和透光部形成透過率控制部，該透過率控制部是在曝光時(shí)使用的LCD用曝光設(shè)備的解像極限以下的細(xì)微圖案。這種多灰度光掩模通過將透過透過率控制部的曝光量減少預(yù)定量，能夠在被轉(zhuǎn)印體上得到具有期望的抗蝕劑殘膜值的抗蝕劑圖案。由此，能夠得到具有不同的多個(gè)抗蝕劑殘膜值的抗蝕劑圖案。采用這種多灰度光掩模，利用一個(gè)光掩模實(shí)施過去的兩個(gè)光掩模以上的工序，從而在制造TFT-LCD等電子器件時(shí)能夠削減所需要的掩模數(shù)量。在制造如上所述的包括線寬為IXD用曝光設(shè)備的解像極限以下的圖案的光掩模時(shí)，不僅能夠?qū)我坏谋∧みM(jìn)行圖案加工來分別形成遮光部和透過率控制部，而且根據(jù)上述細(xì)微圖案的設(shè)計(jì)，通過控制透過率控制部的作為區(qū)域的透過率，能夠形成具有不同透過率的多個(gè)透過率控制部，因而不需增加掩模制造的工序即可實(shí)現(xiàn)具有多灰度的光掩模，故非常有用。另外，這樣在制造TFT或?yàn)V色器時(shí)使用的光掩模推進(jìn)了圖案的細(xì)微化，但另一方面很難修正該細(xì)微圖案中產(chǎn)生的缺陷，很難恢復(fù)為與正常圖案相同的形狀。
例如，作為線寬為IXD曝光設(shè)備的解像極限以下的圖案的修正方法，日本特開 2002-107913號(hào)公報(bào)(專利文獻(xiàn)1)公開了這樣的方法不需使缺陷部分恢復(fù)為與正常圖案相同的形狀，即可形成能夠得到與正常圖案相同的灰調(diào)效果的修正圖案。但是，在進(jìn)行缺陷修正時(shí)，每次都設(shè)計(jì)作為透過率控制部的區(qū)域而得到與正常圖案相同的透過率的新圖案， 并非容易之事。作為用于修正光掩模的圖案中產(chǎn)生的缺陷的方法，能夠采用下述辦法利用激光照射來去除多余缺陷；利用激光CVD法形成修正膜來修正缺失缺陷。另一方面，為了實(shí)現(xiàn)LCD用基板的尺寸擴(kuò)大或基于多重圖案的生產(chǎn)數(shù)量的增大， 對(duì)這些多灰度光掩模要求的尺寸也在逐年增大，甚至出現(xiàn)了一邊超過IOOOmm或者1200_ 的光掩模。作為包括上述光掩模在內(nèi)的光掩模的缺陷修正方法，能夠采用上述的利用激光的修正裝置(下面也稱為激光修正裝置)。該修正方法能夠采用僅向修正部位及其周圍部位供給原料氣體而形成修正膜的氣幕方式等方法。例如，向多余缺陷照射脈沖激光，利用激光的熱量或者光能等使多余缺陷熔融并蒸發(fā)，能夠去除多余缺陷。并且，能夠利用激光的熱量或光反應(yīng)使氣體或液體產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，在缺失缺陷上形成薄膜，由此修正缺失缺陷。在使用激光時(shí)，可使用光學(xué)系統(tǒng)使激光會(huì)聚，以增大激光的能量密度并使激光向期望的區(qū)域照射。但是，所采用的激光的波長(zhǎng)約為10 μ m 亞微米級(jí)，在進(jìn)行修正時(shí)，很難在具有所需加工精度的狀態(tài)下使能夠會(huì)聚使用的區(qū)域的最小尺寸達(dá)到與激光的波長(zhǎng)相同或者激光的波長(zhǎng)以下。例如，雖然光掩模的修正裝置能夠采用Iym以下的激光波長(zhǎng)，但是由于照射分布的穩(wěn)定性、光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)的極限、光學(xué)系統(tǒng)調(diào)節(jié)的誤差等原因，滿足質(zhì)量的加工尺寸很難小于ι μ m。并且，在按照最小加工尺寸附近的尺寸進(jìn)行修正的情況下，由于上述的原因，加工光難以穩(wěn)定，因而很難進(jìn)行穩(wěn)定的修正。圖8涉及采用了激光的圖案修正示例，(A)示出修正產(chǎn)生于透光部的多余缺陷的示例，(B)示出修正產(chǎn)生于遮光部的缺失缺陷的示例。在(A)中，對(duì)透光部IT 6T和遮光部IS 6S交替排列的線與間隔圖案中遍及多個(gè)透光部而產(chǎn)生的多余缺陷16(參照(a)) 進(jìn)行修正，結(jié)果，導(dǎo)致不需修正的、周邊的遮光部的圖案也被去除(參照(b))。另外，在(B) 中，對(duì)與(A)相同的線與間隔圖案中遍及多個(gè)遮光部而產(chǎn)生的缺失缺陷17(參照(a))形成修正膜來進(jìn)行修正，結(jié)果，導(dǎo)致修正膜50 —直溢出到不需修正的周邊的透光部的圖案中 (參照(b))。這些附圖示出了對(duì)寬度與在一次修正作業(yè)中能夠形成或者去除的最小加工尺寸相同的缺陷進(jìn)行修正的狀態(tài)，也示出了由于修正誤差而很難實(shí)現(xiàn)高精度的修正這一情況。 對(duì)于小于在一次修正作業(yè)中能夠形成或者去除的最小加工尺寸的遮光部或者透光部，當(dāng)然不能實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確尺寸的修正。在將這種修正應(yīng)用于光透過率控制部采用的上述解像極限以下的細(xì)微圖案時(shí)，該部分的曝光光透過率高于(低于)預(yù)定范圍，結(jié)果，掩模用戶想要形成在被轉(zhuǎn)印體上的抗蝕劑圖案形狀變差。其結(jié)果是，TFT的溝道部等承擔(dān)IXD的重要功能的部分產(chǎn)生動(dòng)作不良。在其它目的的細(xì)微圖案中，同樣由于精度變差而產(chǎn)生不良。如上所述，很難修正細(xì)微的圖案(3 μ m以下，尤其是1 μ m以下的線寬)
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于，提供一種光掩模的缺陷修正方法，其能夠精度良好地修正難以由修正裝置進(jìn)行修正的、產(chǎn)生于細(xì)微圖案的缺陷。并且，本發(fā)明的目的還在于，提供一種采用該缺陷修正方法的光掩模的制造方法、采用該缺陷修正方法來制造的光掩模、以及采用該光掩模的圖案轉(zhuǎn)印方法。為了解決上述問題，本發(fā)明人通過進(jìn)行認(rèn)真研究，結(jié)果完成了本發(fā)明。本發(fā)明具有以下所述的結(jié)構(gòu)。(結(jié)構(gòu)1)一種光掩模的缺陷修正方法，使用缺陷修正裝置來修正光掩模中產(chǎn)生的多余缺陷，該光掩模是對(duì)形成于透明基板上的遮光膜進(jìn)行圖案加工而形成的，具有透光部和遮光部，該缺陷修正方法的特征在于，包括膜去除步驟，將位于透光部的所述多余缺陷、和與具有所述多余缺陷的透光部鄰接的遮光部的遮光膜的一部分同時(shí)去除；以及膜形成步驟，在所述膜去除步驟中去除了遮光膜的一部分的所述遮光部上形成修正膜，在所述膜形成步驟中進(jìn)行的膜形成是針對(duì)如下遮光部進(jìn)行的，該遮光部的寬度大于通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能形成的最小膜形成寬度。(結(jié)構(gòu)2)一種光掩模的缺陷修正方法，使用缺陷修正裝置來修正光掩模中產(chǎn)生的多余缺陷，該光掩模是對(duì)形成于透明基板上的遮光膜進(jìn)行圖案加工而形成的，具有透光部和遮光部，該缺陷修正方法的特征在于，包括第1膜去除步驟，將位于透光部的所述多余缺陷、和與具有所述多余缺陷的透光部鄰接的遮光部的遮光膜的一部分同時(shí)去除；膜形成步驟，在所述第1膜去除步驟中去除了遮光膜的一部分的所述遮光部、和與該遮光部鄰接的第2透光部上形成修正膜；以及第2膜去除步驟，去除形成于所述第2透光部的所述修正膜，在所述第2膜去除步驟中進(jìn)行的膜去除是針對(duì)如下透光部進(jìn)行的，該透光部的寬度大于通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度。(結(jié)構(gòu)3)根據(jù)結(jié)構(gòu)1或者2所述的光掩模的缺陷修正方法，其特征在于，具有所述多余缺陷的透光部的寬度小于通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度。(結(jié)構(gòu)4)根據(jù)結(jié)構(gòu)1或者2所述的光掩模的缺陷修正方法，其特征在于，使在所述膜形成步驟中形成的修正膜的邊緣與所述鄰接的遮光部的邊緣一致。(結(jié)構(gòu)5)根據(jù)結(jié)構(gòu)1或者2所述的光掩模的缺陷修正方法，其特征在于，所述多余缺陷包含所述修正膜。(結(jié)構(gòu)6)一種光掩模的缺陷修正方法，使用缺陷修正裝置來修正光掩模中產(chǎn)生的缺失缺陷，該光掩模是對(duì)形成于透明基板上的遮光膜進(jìn)行圖案加工而形成的，具有透光部和遮光部，該缺陷修正方法的特征在于，包括膜形成步驟，在包括位于遮光部中的所述缺失缺陷、 和與具有所述缺失缺陷的遮光部鄰接的透光部的一部分在內(nèi)的區(qū)域中形成修正膜；以及膜去除步驟，去除在所述膜形成步驟中形成的所述透光部中的修正膜，在所述膜去除步驟中進(jìn)行的膜去除是針對(duì)如下透光部進(jìn)行的，該透光部的寬度大于通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度。(結(jié)構(gòu)7)一種光掩模的缺陷修正方法，使用缺陷修正裝置來修正光掩模中產(chǎn)生的缺失缺陷，該光掩模是對(duì)形成于透明基板上的遮光膜進(jìn)行圖案加工而形成的，具有透光部和遮光部，該缺陷修正方法的特征在于，包括第1膜形成步驟，在包括位于遮光部中的所述缺失缺陷、和與具有所述缺失缺陷的遮光部鄰接的透光部的一部分在內(nèi)的區(qū)域中形成修正膜； 膜去除步驟，將在所述第1膜形成步驟中形成于所述透光部中的所述修正膜、和與該透光部鄰接的第2遮光部的遮光膜的一部分同時(shí)去除；以及第2膜形成步驟，在所述膜去除步驟中去除了遮光膜的一部分的所述第2遮光部上形成修正膜，在所述第2膜形成步驟中進(jìn)行的膜形成是針對(duì)如下遮光部進(jìn)行的，該遮光部的寬度大于通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能形成的最小膜形成寬度。(結(jié)構(gòu)8)根據(jù)結(jié)構(gòu)6或者7所述的光掩模的缺陷修正方法，其特征在于，具有所述缺失缺陷的遮光部的寬度小于通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能形成的最小膜形成寬度。(結(jié)構(gòu)9)根據(jù)結(jié)構(gòu)6或者7所述的光掩模的缺陷修正方法，其特征在于，使在所述膜去除步驟中去除的修正膜的邊緣與所述透光部的邊緣一致。(結(jié)構(gòu)10)根據(jù)結(jié)構(gòu)6或者7所述的光掩模的缺陷修正方法，其特征在于，所述缺失缺陷包含利用所述缺陷修正方法去除了遮光膜的區(qū)域。(結(jié)構(gòu)11)根據(jù)結(jié)構(gòu)1、2、6或者7中任意一項(xiàng)所述的光掩模的缺陷修正方法，其特征在于，具有所述多余缺陷的透光部或者具有所述缺失缺陷的遮光部的線寬為1 μ m以下。(結(jié)構(gòu)12)一種光掩模的缺陷修正方法，使用激光缺陷修正裝置來修正光掩模中產(chǎn)生的缺陷，該光掩模是對(duì)形成于透明基板上的遮光膜進(jìn)行圖案加工而形成的，具有透光部和遮光部，該缺陷修正方法的特征在于，所述光掩模具有透光部和遮光部交替排列的圖案區(qū)域，該圖案區(qū)域具有寬度小于通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度的小寬度透光部；寬度小于通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能形成的最小膜形成寬度的小寬度遮光部；以及寬度大于通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度的大寬度透光部，所述缺陷修正方法包括步驟(A)，從所述大寬度透光部起交替地按順序計(jì)數(shù)構(gòu)成所述圖案區(qū)域的所述小寬度遮光部和所述小寬度透光部，并確定具有缺陷而且位次最大的遮光部或者透光部；步驟(B-I)，在通過所述步驟(A)確定出遮光部時(shí)，在所述確定出的遮光部的缺失缺陷處形成修正膜，進(jìn)行修正，而且同時(shí)在與所述遮光部的所述大寬度透光部側(cè)鄰接的透光部(a)暫且形成修正膜，或者步驟(B-2)，在通過所述步驟(A)確定出透光部時(shí)，去除所述確定出的透光部的多余缺陷進(jìn)行修正，而且同時(shí)將與所述透光部的所述大寬度透光部側(cè)鄰接的遮光部的一部分暫且去除；以及步驟(C)，將所述暫且形成或者暫且去除的部分作為所述圖案區(qū)域中產(chǎn)生的多余缺陷或者缺失缺陷，反復(fù)進(jìn)行所述步驟(A)和、所述步驟(B-I)或者所述步驟(B-幻中的任意一個(gè)步驟，當(dāng)在所述步驟(B-I)中所述透光部(a)與所述大寬度透光部一致時(shí)，去除所述大寬度透光部中形成的多余缺陷。(結(jié)構(gòu)13)一種光掩模的缺陷修正方法，使用激光缺陷修正裝置來修正光掩模中產(chǎn)生的缺陷，該光掩模是對(duì)形成于透明基板上的遮光膜進(jìn)行圖案加工而形成的，具有透光部和遮光部，該缺陷修正方法的特征在于，所述光掩模具有透光部和遮光部交替排列的圖案區(qū)域，該圖案區(qū)域具有寬度小于通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度的小寬度透光部；寬度小于通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能形成的最小膜形成寬度的小寬度遮光部；以及寬度大于通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能形成的最小膜形成寬度的大寬度遮光部，所述缺陷修正方法包括步驟(A)，從所述大寬度遮光部起交替地按順序計(jì)數(shù)構(gòu)成所述圖案區(qū)域的所述小寬度透光部和所述小寬度遮光部，并確定具有缺陷而且位冷最大的遮光部或者透光部；步驟(B-I)，在通過所述步驟(A)確定出遮光部時(shí)，在所述確定出的遮光部的缺失缺陷處形成修正膜進(jìn)行修正，而且同時(shí)在與所述遮光部的所述大寬度遮光部側(cè)鄰接的透光部(a)暫且形成修正膜，或者步驟(B-2)，在通過所述步驟(A)確定出透光部時(shí)，去除所述確定出的透光部的多余缺陷進(jìn)行修正，而且同時(shí)將與所述透光部的所述大寬度遮光部側(cè)鄰接的遮光部(a)的一部分暫且去除；以及步驟(C)，將所述暫且形成或者暫且去除的部分作為所述圖案區(qū)域中產(chǎn)生的多余缺陷或者缺失缺陷，反復(fù)進(jìn)行所述步驟(A)和、所述步驟(B-I)或者所述步驟(B-幻中的任意一個(gè)步驟，當(dāng)在所述步驟(B-2)中所述遮光部(a)與所述大寬度遮光部一致時(shí)，修正所述大寬度遮光部中形成的缺失缺陷。(結(jié)構(gòu)14)根據(jù)結(jié)構(gòu)1、2、6、7、12或者13中的任意一項(xiàng)所述的光掩模的缺陷修正方法，其特征在于，所述缺陷修正裝置的所述膜形成是通過激光CVD進(jìn)行的，所述膜去除是通過激光照射進(jìn)行的，所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能形成的最小膜形成寬度、以及所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度為1 μ m以上。(結(jié)構(gòu)15)一種光掩模的制造方法，該光掩模具有通過對(duì)形成于透明基板上的遮光膜進(jìn)行圖案加工而形成的遮光部和透光部，該制造方法的特征在于，包括準(zhǔn)備步驟，準(zhǔn)備在所述透明基板上形成有遮光膜的光掩模坯料；圖案加工步驟，利用光刻法對(duì)所述遮光膜進(jìn)行圖案加工，由此形成至少具有遮光部和透光部的轉(zhuǎn)印圖案；以及修正步驟，修正在所形成的所述轉(zhuǎn)印圖案中產(chǎn)生的缺陷，在所述修正步驟中采用根據(jù)結(jié)構(gòu)2、6、7、12或者13中的任意一項(xiàng)所述的光掩模的缺陷修正方法。(結(jié)構(gòu)16)一種光掩模，具有通過對(duì)形成于透明基板上的遮光膜進(jìn)行圖案加工而形成的遮光部和透光部，其特征在于，所述光掩模具有寬度大于通過激光缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度的大寬度透光部；以及線與間隔圖案區(qū)域，其與所述大寬度透光部鄰接，在該圖案區(qū)域中順序地交替排列有寬度小于通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能形成的最小的膜形成寬度的小寬度遮光部；以及寬度小于通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度的小寬度透光部，在與所述大寬度透光部鄰接的作為所述小寬度遮光部的第一遮光部中，利用激光缺陷修正裝置形成有修正膜，所述修正膜的邊緣形成所述第一遮光部與所述大寬度透光部的邊界的一部分，而且是利用所述激光缺陷修正裝置去除所述修正膜而形成的邊緣。(結(jié)構(gòu)17)根據(jù)結(jié)構(gòu)16所述的光掩模，其特征在于，在所述圖案區(qū)域中，在位于與第一遮光部最近的位置的第二遮光部中形成有修正膜，第一遮光部的修正膜與第二遮光部的修正膜之間的距離小于通過激光缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度。(結(jié)構(gòu)18)根據(jù)結(jié)構(gòu)16或者17所述的光掩模，其特征在于，在形成有所述修正膜的遮光部的各個(gè)修正膜中，所述大寬度透光部側(cè)的邊緣包括被去除了所述修正膜的邊緣，所述大寬度透光部的相反側(cè)的邊緣不包括被去除了所述修正膜的邊緣。(結(jié)構(gòu)19)一種圖案轉(zhuǎn)印方法，其特征在于，使用通過結(jié)構(gòu)15所述的制造方法制造的光掩模和曝光裝置，在被轉(zhuǎn)印體上進(jìn)行圖案轉(zhuǎn)印。(結(jié)構(gòu)20)一種圖案轉(zhuǎn)印方法，其特征在于，使用結(jié)構(gòu)18所述的光掩模和曝光裝置，在被轉(zhuǎn)印體上進(jìn)行圖案轉(zhuǎn)印。根據(jù)本發(fā)明，能夠精度良好地修正在光掩模的細(xì)微圖案中產(chǎn)生的缺陷。尤其通過基于激光照射的多余部分的去除和基于激光CVD的修正膜的形成，能夠精度良好地修正在線寬小于激光的最小加工尺寸的圖案(例如Iym以下的細(xì)微圖案)中產(chǎn)生的缺陷。并且，根據(jù)本發(fā)明，也能夠提供采用了本發(fā)明的光掩模缺陷修正方法的光掩模制造方法、采用該缺陷修正方法而制造的光掩模、以及采用該光掩模的圖案轉(zhuǎn)印方法。


圖1的(A)、(B)、(C)都是示出本發(fā)明的光掩模缺陷修正方法的第1實(shí)施方式的平面圖。圖2的(A)、(B)、(C)都是示出本發(fā)明的光掩模缺陷修正方法的第1實(shí)施方式的平面圖。圖3是示出本發(fā)明的光掩模缺陷修正方法的第2實(shí)施方式的平面圖。圖4是示出本發(fā)明的光掩模缺陷修正方法的第2實(shí)施方式的平面圖。圖5是示出本發(fā)明的光掩模缺陷修正方法的第3實(shí)施方式的平面圖。圖6是示出本發(fā)明的光掩模缺陷修正方法的第3實(shí)施方式的平面圖。圖7的㈧ ⑶都是示出能夠?qū)嵤┍景l(fā)明的圖案形狀的平面圖。圖8的(A)、(B)是示出過去的采用激光的圖案修正示例的平面圖。標(biāo)號(hào)說明1、3、6、8 修正膜；2、4、5、7 膜去除區(qū)域；21、23、25、27、29 修正膜；20、22、24、26、28 膜去除區(qū)域；31、33、35、37修正膜；30、32、34、36、38膜去除區(qū)域；40、42、44、46、48修正膜； 41、43、45、47膜去除區(qū)域；10、13、15缺失缺陷；11、12、14多余缺陷；IT 6T透光部；IS 6S遮光部。
具體實(shí)施例方式下面，參照附圖詳細(xì)說明用于實(shí)施本發(fā)明的方式。[第1實(shí)施方式]在本實(shí)施方式中，對(duì)按照本發(fā)明使用缺陷修正裝置來修正下述光掩模中產(chǎn)生的缺陷的光掩模缺陷修正方法進(jìn)行說明，上述光掩模具有對(duì)形成于透明基板上的遮光膜進(jìn)行圖案加工而形成的透光部和遮光部。另外，在本發(fā)明中，遮光部可以是在設(shè)計(jì)上應(yīng)該形成有遮光膜的區(qū)域，例如有時(shí)在由于缺陷的產(chǎn)生而使得該部分的遮光膜缺失的情況下，也將該部分稱為遮光部。并且，透光部可以是在設(shè)計(jì)上露出透明基板的區(qū)域，有時(shí)在由于缺陷的產(chǎn)生而殘留有遮光膜的情況下，也稱為透光部。并且，在本發(fā)明中，除了在光掩模的制造階段中非有意地產(chǎn)生于遮光部的缺失缺陷之外，有時(shí)也包括在執(zhí)行缺陷修正方法的過程中有意地去除遮光部的遮光膜的情況。同樣，除了在光掩模的制造階段中非有意地產(chǎn)生于透光部的多余缺陷之外，有時(shí)在多余缺陷中也包括在執(zhí)行缺陷修正方法的過程中有意地在透光部形成遮光性的修正膜的情況。并且，在本發(fā)明中，將在遮光部中產(chǎn)生的缺失缺陷處形成修正膜的步驟、或者去除透光部中產(chǎn)生的多余缺陷的步驟統(tǒng)稱為修正步驟。圖1是示出本發(fā)明的光掩模缺陷修正方法的第1實(shí)施方式的平面圖，示出了在需要修正的區(qū)域的附近具有如下透光部的圖案的修正步驟，該透光部的寬度大于通過缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小加工尺寸(即通過一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度)。如圖KA)所示，上述光掩模具有如下圖案，該圖案包括線與間隔(line and space)圖案區(qū)域和透光部1T，在該線與間隔圖案區(qū)域中交替地排列有透光部2T、3T和遮光部1S、2S、3S，透光部2T、3T的寬度小于通過例如使用激光的缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度(也適當(dāng)稱為最小加工尺寸)，遮光部1S、2S、3S的寬度小于通過缺陷修正裝置的一次修正操作所能形成的最小膜形成寬度(也適當(dāng)稱為最小加工尺寸)，透光部IT在該圖案區(qū)域的圖案排列的方向上與所述遮光部IS鄰接，而且寬度大于通過缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度。所述遮光部在透明基板上形成有具有遮光性的遮光膜，所述透光部形成為使透明基板露出的狀態(tài)。在本發(fā)明中，通過一次修正操作所能形成的最小膜形成寬度是指修正裝置能夠把修正膜形成為實(shí)質(zhì)上不會(huì)破壞與遮光膜相同的遮光性的膜厚的最小寬度，例如可以設(shè)為 1 μ m以上。通過一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度是指所使用的修正裝置能夠去除膜的最小寬度，例如是Iym以上。在本實(shí)施方式中說明這樣的情況采用通過激光的照射來去除膜、通過激光CVD來形成修正膜的修正裝置，設(shè)通過一次修正操作所能形成的最小膜形成寬度為1 μ m，設(shè)通過一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度為1 μ m。另外，將此處的膜去除和膜形成時(shí)的最小加工尺寸設(shè)為相同尺寸來進(jìn)行說明，這些尺寸可以是相同的數(shù)值也可以是彼此不同的數(shù)值。圖KA)示出了圖案的修正工藝，該圖案在上述的圖案區(qū)域中，在寬度小于通過一次修正操作所能形成的最小加工尺寸的遮光部(下面也稱為“小寬度遮光部”)IS中產(chǎn)生了缺失缺陷10，該圖案具有與該遮光部IS鄰接，且寬度大于通過一次修正操作所能去除的最小加工尺寸的透光部IT (下面也稱為“大寬度透光部”)。首先，在包括如圖1㈧(a)所示的在所述小寬度遮光部IS中產(chǎn)生的所述缺失缺陷 10、和與產(chǎn)生了該缺失缺陷10的遮光部IS鄰接的所述大寬度透光部IT的一部分的區(qū)域中，形成具有與所述遮光膜同等的遮光性的修正膜3(參照?qǐng)DI(A) (b))。另外，此時(shí)優(yōu)選將形成修正膜3的形狀設(shè)為矩形，使該矩形的一邊與所述遮光部IS的透光部2T側(cè)的邊緣位置一致。此處是在形成有修正膜的遮光部IS中修正缺失缺陷，但由于也在透光部IT中形成了修正膜，因而形成新的多余缺陷。并且，也可認(rèn)為是暫且形成于透光部IT中的修正膜。然后，去除在前一步驟中形成于大寬度透光部IT上的修正膜3 (參照?qǐng)D1 (A) (c))。 此時(shí)，優(yōu)選將在透光部IT中去除修正膜3而形成的形狀設(shè)為矩形的膜去除部4，使該矩形的一邊與遮光部IS的透光部IT側(cè)的邊緣位置一致。通過以上步驟，能夠精度良好地修正如圖I(A) (a)所示的小寬度遮光部IS中產(chǎn)生的缺失缺陷10。另外，圖1⑶示出了如下圖案的修正步驟，該圖案在寬度小于通過一次修正操作所能去除的最小加工尺寸的透光部(下面也稱為“小寬度透光部”)2T中產(chǎn)生了多余缺陷 11，與該透光部2Τ鄰接地依次具有上述的小寬度遮光部1S、大寬度透光部1Τ。首先，將如圖1⑶(a)所示的在所述小寬度透光部2T中產(chǎn)生的所述多余缺陷11、 和與產(chǎn)生了該多余缺陷11的透光部2T鄰接的小寬度遮光部IS的遮光膜的一部分同時(shí)去除(參照?qǐng)DI(B) (b))。此時(shí)，優(yōu)選將去除多余缺陷11等的形狀設(shè)為矩形的膜去除部2，使該矩形的一邊與遮光部2S的透光部2T側(cè)的邊緣位置一致。此時(shí)是修正位于透光部2T中的多余缺陷，但遮光部IS的被去除了膜的部分成為缺失缺陷。即，成為在修正步驟中被暫且去除了膜的部分。圖I(B) (b)示出了這樣去除多余缺陷11等后的狀態(tài)，該狀態(tài)僅僅是小寬度遮光部IS中產(chǎn)生的缺失缺陷的形狀、大小不同，實(shí)質(zhì)上是與上述的圖I(A) (a)同樣的狀態(tài)。因此，自此以后的修正可以用與從圖I(A) (a)起的修正作業(yè)同樣的方法進(jìn)行修正。換言之，圖 I(A) (a)所示的修正方法可以單獨(dú)實(shí)施，也可以作為一系列修正作業(yè)的最后步驟來實(shí)施。S卩，在包括如圖1⑶(b)所示的在前述步驟中產(chǎn)生的小寬度遮光部IS的遮光膜被去除了一部分的缺失缺陷、和與該遮光部IS鄰接的所述大寬度透光部IT的一部分的區(qū)域中，形成具有與所述遮光膜同等的遮光性的修正膜3(參照?qǐng)DI(B) (C))。S卩，在被去除了遮光膜的遮光部中的、至少被去除了遮光膜的區(qū)域中進(jìn)行成膜。此時(shí)，優(yōu)選將形成修正膜3的形狀設(shè)為矩形，使該矩形的一邊與所述遮光部IS的透光部2T側(cè)的邊緣位置一致。然后，去除在大寬度透光部IT中形成的修正膜3 (參照?qǐng)DI(B) (d))。此時(shí)，優(yōu)選將在透光部IT中去除修正膜3的形狀設(shè)為矩形的膜去除部4，使該矩形的一邊與遮光部IS 的透光部IT側(cè)的邊緣位置一致。通過以上步驟，能夠精度良好地修正如圖I(B) (a)所示的小寬度透光部2T中產(chǎn)生的多余缺陷11。另外，圖I(C)示出了如下圖案的修正步驟，該圖案在小寬度遮光部2S中產(chǎn)生了缺失缺陷10，與該遮光部2S鄰接地依次具有上述小寬度透光部2T、小寬度遮光部1S、大寬度透光部1T。首先，在包括如圖I(C) (a)所示的在所述小寬度遮光部2S中產(chǎn)生的所述缺失缺陷 10、和與產(chǎn)生了該缺失缺陷10的遮光部2S鄰接的小寬度透光部2T的一部分的區(qū)域中，形成具有與遮光膜同等的遮光性的修正膜1 (參照?qǐng)D1 (C) (b))。此時(shí)，優(yōu)選將形成修正膜1的形狀設(shè)為矩形，使該矩形的一邊與所述遮光部2S的透光部3T側(cè)的邊緣位置一致。另外，由于通過一次修正操作所能形成的最小加工尺寸的原因，在與所述透光部2T鄰接的小寬度遮光部IS上也形成了修正膜1。圖1 (C) (b)示出這樣形成修正膜1后的狀態(tài)，該狀態(tài)僅僅是小寬度透光部2T中產(chǎn)生的多余缺陷的形狀、大小不同，實(shí)質(zhì)上是與上述的圖1 (B) (a)同樣的狀態(tài)。因此，自此以后的修正可以用與從圖I(B) (a)起的修正作業(yè)同樣的方法進(jìn)行修正。S卩，將如圖1 (C) (b)所示的前述步驟中產(chǎn)生的由于小寬度透光部2T的修正膜1而導(dǎo)致的多余缺陷、和與該透光部2T鄰接的小寬度遮光部IS的遮光膜和修正膜1的一部分同時(shí)去除(參照?qǐng)DI(C) (c))。此時(shí)，優(yōu)選將去除多余缺陷等的形狀設(shè)為矩形的膜去除部2， 使該矩形的一邊與遮光部2S的透光部2T側(cè)的邊緣位置一致。然后，在包括如圖1 (C) (C)所示的在前述步驟中產(chǎn)生的小寬度遮光部IS的遮光膜被去除一部分后的缺失缺陷、和與該遮光部IS鄰接的所述大寬度透光部IT的一部分的區(qū)域中，形成具有與遮光膜同等的遮光性的修正膜3(參照?qǐng)DI(C) (d))。然后，去除大寬度透光部IT中形成的修正膜3 (參照?qǐng)D1 (C) (e))。通過以上步驟，能夠精度良好地修正如圖I(C) (a)所示的小寬度遮光部2S中產(chǎn)生的缺失缺陷10。如上所述，在本發(fā)明中，修正膜可以使用通過激光CVD形成的薄膜。作為激光CVD 的激光光源，采用YAG激光器、半導(dǎo)體激光器等能夠使修正膜的原料氣體進(jìn)行分解或者化學(xué)反應(yīng)，并在光掩模上形成膜的激光光源，可以通過光學(xué)系統(tǒng)使期望強(qiáng)度的激光光束會(huì)聚于光掩模上的期望區(qū)域，使所供給的原料氣體進(jìn)行分解或者化學(xué)反應(yīng)等，在光掩模上形成膜。為了定量且穩(wěn)定地進(jìn)行基于激光的原料氣體的分解和反應(yīng)，優(yōu)選激光采用相比進(jìn)行短時(shí)間照射的脈沖激光可以進(jìn)行連續(xù)照射(CW)的方式、或者依據(jù)于連續(xù)照射(即使是脈沖激光，每單位時(shí)間的照射次數(shù)也多，實(shí)質(zhì)上可以用作連續(xù)照射光)的方式。原料氣體可以使用鉻、鉬、硅等的化合物，其中優(yōu)選使用鉻、鉬、硅的有機(jī)化合物作為原料氣體。例如，作為鉻、 鉬、硅的有機(jī)化合物，可以使用六羰基鉻、六羰基鉬、1，1，3，3-四甲基二氫二硅氧烷、乙烯基三乙氧基硅烷、四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷等。通過原料氣體的分解或者化學(xué)反應(yīng)而形成的修正膜由以這些原料氣體的構(gòu)成物質(zhì)為來源的元素構(gòu)成。例如，修正膜可以由鉻、鉬、硅、碳、氧、氫等元素構(gòu)成。并且，在設(shè)激光的聚光區(qū)域的形狀為矩形的情況下，將適合于邊緣包含直線部的圖案的修正，如果使用光圈等變更照射區(qū)域的尺寸，則可以應(yīng)對(duì)多個(gè)尺寸的圖案修正，因而是適合的。關(guān)于修正膜，通過使激光照射區(qū)域內(nèi)的激光強(qiáng)度分布均勻，并提供形成膜所需強(qiáng)度的激光，可以形成在所形成的區(qū)域內(nèi)質(zhì)量均勻的高質(zhì)量的修正膜。根據(jù)本發(fā)明，選擇合適的激光強(qiáng)度、預(yù)定的原料氣體條件(濃度、溫度、混合比等)，成膜表面大致平坦，雖然其膜厚根據(jù)用途和所要求的透過率等而不同，但是可以形成大約0. 05 μ m 3. 0 μ m的修正膜。在考慮到因修正膜的內(nèi)部應(yīng)力而造成的剝離和裂紋的發(fā)生、光掩模的膜的耐藥品性和耐久性等的情況下，更優(yōu)選修正膜的膜厚在0. 1 μ m 1. 0 μ m 的范圍內(nèi)。
另一方面，作為在利用激光來去除遮光部或者透光部的遮光膜或修正膜時(shí)使用的激光光源，可以使用YAG激光器或半導(dǎo)體激光器。并且，為了去除遮光部或者透光部的遮光膜或修正膜，優(yōu)選使用能夠在短時(shí)間內(nèi)振蕩出高強(qiáng)度的激光的脈沖振蕩型的激光器等。在這種情況下，可以選擇波長(zhǎng)、強(qiáng)度使得能夠通過熱或光使遮光膜或修正膜熔融并蒸發(fā)等而去除的激光。并且，在去除遮光膜或修正膜時(shí)使用的激光器中，與激光CVD的情況同樣，通過使激光聚光區(qū)域成為矩形，將適合于邊緣包含直線部的圖案的修正，如果使用光圈等變更照射區(qū)域的尺寸，則可以應(yīng)對(duì)多個(gè)尺寸的圖案修正，因而是適合的。圖2是示出本發(fā)明的光掩模缺陷修正方法的第1實(shí)施方式的平面圖，示出了將圖1 中的遮光部和透光部顛倒得到的圖案。具體地講，示出了在本發(fā)明的需要修正的區(qū)域附近具有如下遮光部的圖案的修正工藝，該遮光部的寬度大于通過缺陷修正裝置的一次修正操作所能形成的最小加工尺寸(即通過一次修正操作所能形成的最小膜形成寬度)。如圖2㈧所示，上述光掩模具有如下圖案，該圖案包括線與間隔圖案區(qū)域和大寬度遮光部1S，在該線與間隔圖案區(qū)域中交替地排列有小寬度透光部1T、2T、3T和小寬度遮光部2S、3S，遮光部IS在該圖案區(qū)域的圖案排列的方向上與所述透光部IT鄰接。圖2(A)示出圖案的修正工藝，該圖案在上述的圖案區(qū)域中，在小寬度透光部IT中產(chǎn)生了多余缺陷11，具有與該透光部IT鄰接的大寬度遮光部1S。首先，將包括如圖2(A) (a)所示的所述小寬度透光部IT中產(chǎn)生的所述多余缺陷 11、和與產(chǎn)生了該多余缺陷11的透光部IT鄰接的所述大寬度遮光部IS的一部分的區(qū)域同時(shí)去除(參照?qǐng)D2(A) (b))。此時(shí)，優(yōu)選將去除的形狀設(shè)為矩形的膜去除部7，使該矩形的一邊與遮光部2S的透光部IT側(cè)的邊緣位置一致。然后，形成包括在前一步驟中大寬度遮光部IS的被去除的區(qū)域在內(nèi)的修正膜 8(參照?qǐng)D2(A) (c))。即，優(yōu)選在被去除了遮光膜的所述遮光部中的至少被去除了遮光膜的區(qū)域中進(jìn)行成膜。此時(shí)，優(yōu)選將形成修正膜8的形狀設(shè)為矩形，使該矩形的一邊與遮光部IS 的透光部IT側(cè)的邊緣位置一致。遮光部IS的寬度大于通過一次修正操作所能形成的最小加工尺寸，因而可以在不使遮光部IS溢出的情況下形成所述修正膜8。通過以上步驟，可以精度良好地修正如圖2(A) (a)所示的小寬度透光部IT中產(chǎn)生的多余缺陷11。另外，圖2(B)示出了在小寬度遮光部2S中產(chǎn)生了缺失缺陷10的圖案的修正工藝。首先，在包括如圖2(B) (a)所示的在所述小寬度遮光部2S中產(chǎn)生的所述缺失缺陷 10、和與遮光部2S鄰接的小寬度透光部IT的一部分的區(qū)域中，形成修正膜6 (參照?qǐng)D2(B) (b))。該圖2(B) (b)所示的狀態(tài)僅僅是小寬度透光部IT中產(chǎn)生的多余缺陷的形狀、大小不同，實(shí)質(zhì)上是與上述的圖2(A) (a)同樣的狀態(tài)。因此，自此以后的修正可以用與從圖2(A) (a)起的修正作業(yè)同樣的方法進(jìn)行修正。換言之，圖2(A) (a)所示的修正方法可以單獨(dú)實(shí)施，也可以作為一系列修正作業(yè)的最后步驟來實(shí)施。S卩，將包括如圖2(B) (b)所示的所述小寬度透光部IT中形成的修正膜6所導(dǎo)致的多余缺陷、和與產(chǎn)生了該多余缺陷的透光部IT鄰接的所述大寬度遮光部IS的一部分的區(qū)域同時(shí)去除(參照?qǐng)D2(B) (C))。然后，形成包括在前一步驟中大寬度遮光部IS的被去除的區(qū)域在內(nèi)的修正膜 8(參照?qǐng)D2(B) (d))。遮光部IS的寬度大于通過一次修正操作所能形成的最小加工尺寸，因而可以在不使遮光部IS溢出的情況下形成所述修正膜8。通過以上步驟，可以精度良好地修正如圖2(B) (a)所示的小寬度遮光部2S中產(chǎn)生的缺失缺陷10。另外，圖2(C)示出了在小寬度透光部2T中產(chǎn)生了多余缺陷11的圖案的修正工藝。首先，將包括如圖2(C) (a)所示的小寬度透光部2T中產(chǎn)生的所述多余缺陷11、和與產(chǎn)生了該多余缺陷11的透光部2T鄰接的小寬度遮光部2S的一部分的區(qū)域同時(shí)去除(參照?qǐng)D2(C) (b))。此時(shí)，優(yōu)選將去除的形狀設(shè)為矩形的膜去除部5，使該矩形的一邊與所述遮光部3S的透光部2T側(cè)的邊緣位置一致。圖2(C) (b)示出這樣去除了多余缺陷11等后的狀態(tài)，該狀態(tài)僅僅是小寬度遮光部2S中產(chǎn)生的缺失缺陷的形狀、大小不同，實(shí)質(zhì)上是與上述的圖2(B) (a)同樣的狀態(tài)。因此，自此以后的修正可以用與從圖2(B) (a)起的修正作業(yè)同樣的方法進(jìn)行修正。S卩，在包括如圖2(C) (b)所示的由于所述小寬度遮光部2S的遮光膜的去除而產(chǎn)生的缺失缺陷、和與遮光部2S鄰接的小寬度透光部IT的一部分的區(qū)域中，形成修正膜6 (參照?qǐng)D 2(C) (c))。然后，將包括由于所述小寬度透光部IT中形成的修正膜6而導(dǎo)致的多余缺陷、和與產(chǎn)生了該多余缺陷的透光部IT鄰接的所述大寬度遮光部IS的一部分的區(qū)域同時(shí)去除 (參照?qǐng)D2(c)⑷)。然后，形成包括在前一步驟中大寬度遮光部IS的被去除區(qū)域在內(nèi)的修正膜8(參照?qǐng)D2(C) (d))。遮光部IS的寬度大于通過一次修正操作所能形成的最小加工尺寸，因而可以在不使遮光部IS溢出的情況下形成所述修正膜8。通過以上步驟，可以精度良好地修正如圖2(C) (a)所示的小寬度透光部2T中產(chǎn)生的多余缺陷11。[第2實(shí)施方式]本發(fā)明不僅可以修正如在上述的第1實(shí)施方式中說明的單獨(dú)存在于透光部或者遮光部中的缺陷，而且也可以修正遍及多個(gè)透光部或者遮光部而產(chǎn)生的較大的缺陷。圖3示出在如圖3(a)所示的圖案中遍及例如三個(gè)透光部1T、2T、3T而形成的多余缺陷12的修正工藝，該圖案包括線與間隔圖案區(qū)域和大寬度透光部1Τ，在該線與間隔圖案區(qū)域中交替地排列有小寬度透光部2Τ、3Τ和小寬度遮光部1S、2S、3S，該透光部IT在該圖案區(qū)域的圖案排列的方向上與所述遮光部IS鄰接。首先，通過矩形的膜去除部20，將包括所述多余缺陷12中的、形成在透光部3T 中的多余缺陷和與該透光部3T鄰接的遮光部2S的一部分在內(nèi)的區(qū)域同時(shí)去除(參照?qǐng)D 3(b))，其中從所述大寬度透光部IT起交替地按順序計(jì)數(shù)交替排列的小寬度遮光部和透光部時(shí)，透光部3T的位次最大。然后，在包括通過上述步驟將遮光膜的一部分去除后的遮光部2S的缺失部分的區(qū)域中，形成矩形的修正膜21 (參照?qǐng)D3 (c))。然后，通過矩形的膜去除部22，將包括與所述遮光部2S鄰接的透光部2T中形成的修正膜21 (所導(dǎo)致的多余缺陷) 的區(qū)域去除(參照?qǐng)D3(d))。然后，在包括上述步驟中去除了遮光膜的一部分后的遮光部IS的缺失部分在內(nèi)的區(qū)域中，形成矩形的修正膜23(參照?qǐng)D3(e))。最后，通過矩形的膜去除部M，將包括與所述遮光部IS鄰接的透光部IT中形成的修正膜23 (所導(dǎo)致的多余缺陷)在內(nèi)的區(qū)域去除 (參照?qǐng)D3(f))。所述透光部IT的寬度大于通過一次修正操作所能去除的最小加工尺寸，因而不會(huì)產(chǎn)生將鄰接的遮光部的區(qū)域去除的問題。另外，優(yōu)選上述的矩形的膜去除部20、 22,24以及矩形的修正膜21、23都使矩形的一邊與鄰接的透光部或者遮光部的邊緣位置一致。通過以上步驟，可以精度良好地修正如圖3(a)所示的遍及多個(gè)小寬度透光部而產(chǎn)生的多余缺陷12。圖4示出將圖3所示的遮光部和透光部顛倒得到的圖案的情況。S卩，圖4示出在如圖4(a)所示的圖案中遍及例如三個(gè)遮光部1S、2S、3S而形成的缺失缺陷13的修正工藝，該圖案包括線與間隔圖案區(qū)域和大寬度遮光部1S，在該線與間隔圖案區(qū)域中交替地排列有小寬度透光部1T、2T、3T和小寬度遮光部2S、3S，該遮光部IS在該圖案區(qū)域的圖案排列的方向上與所述透光部IT鄰接。首先，在包括所述缺失缺陷13中的、形成于遮光部3S中的缺失缺陷和與該遮光部 3S鄰接的透光部2T的一部分在內(nèi)的區(qū)域中，形成矩形的修正膜25(參照?qǐng)D4(b))，其中從所述大寬度遮光部IS起交替地按順序計(jì)數(shù)交替排列的小寬度的遮光部和透光部時(shí)，遮光部3S的位次最大。然后，通過矩形的膜去除部沈，將包括上述步驟中在與所述遮光部3S鄰接的透光部2T中形成的修正膜25(所導(dǎo)致的多余缺陷)在內(nèi)的區(qū)域去除(參照?qǐng)D4(c))。 然后，在包括通過上述步驟去除了遮光膜的一部分后的遮光部2S的缺失部分在內(nèi)的區(qū)域中，形成矩形的修正膜27 (參照?qǐng)D4 (d))。然后，通過矩形的膜去除部觀，將包括在與所述遮光部2S鄰接的透光部IT中形成的修正膜27(所導(dǎo)致的多余缺陷)在內(nèi)的區(qū)域去除(參照?qǐng)D4(e))。最后，在包括通過所述膜去除部觀去除了遮光膜的一部分后的遮光部IS的缺失部分在內(nèi)的區(qū)域中，形成矩形的修正膜四(參照?qǐng)D4(f))。所述遮光部IS的寬度大于通過一次修正操作所能形成的最小加工尺寸，因而可以在不溢出到鄰接的透光部IT的區(qū)域中的情況下形成修正膜四。另外，優(yōu)選上述的矩形的膜去除部沈、28以及矩形的修正膜25、27、四都使矩形的一邊與鄰接的透光部或者遮光部的邊緣位置對(duì)準(zhǔn)而一致。通過以上步驟，可以精度良好地修正如圖4(a)所示的遍及多個(gè)小寬度遮光部而產(chǎn)生的缺失缺陷13。[第3實(shí)施方式]本發(fā)明也可以修正遍及多個(gè)透光部或者遮光部而產(chǎn)生的較大的缺陷、即在遠(yuǎn)離大寬度的透光部或者遮光部的位置處產(chǎn)生的缺陷。圖5示出在如圖5(a)所示的圖案中遍及例如兩個(gè)透光部4T、5T而形成的多余缺陷14的修正工藝，該圖案包括線與間隔圖案區(qū)域和大寬度透光部1Τ，在該線與間隔圖案區(qū)域中交替地排列有小寬度透光部2Τ 6Τ和小寬度遮光部IS 6S，該透光部IT在該圖案區(qū)域的圖案排列的方向上與所述遮光部IS鄰接。首先，從所述大寬度透光部IT起交替地按順序計(jì)數(shù)交替排列的小寬度遮光部和透光部，并確定出具有缺陷而且位次最大的透光部5Τ，通過矩形狀的膜去除部30，將包括所述多余缺陷14中的、形成在該透光部5Τ中的多余缺陷和與該透光部5Τ的大寬度透光部側(cè)鄰接的遮光部4S的一部分在內(nèi)的區(qū)域一次性去除(參照?qǐng)D5(b))。然后，確定出在上述步驟中暫且去除了遮光膜的一部分的遮光部4S，在包括該遮光部4S的缺失部分和在該遮光部4S的大寬度透光部側(cè)鄰接的透光部4Τ在內(nèi)的區(qū)域中，形成矩形的修正膜31 (參照?qǐng)D 5(c))。然后，確定出暫且形成了修正膜的透光部4Τ，通過矩形的膜去除部32，將包括透光部4T中形成的修正膜31 (所導(dǎo)致的多余缺陷)和在透光部4T的大寬度透光部側(cè)鄰接的遮光部3S在內(nèi)的區(qū)域去除(參照?qǐng)D5(d))。然后，確定出在上述步驟中暫且去除了遮光膜的一部分的遮光部3S，在包括遮光部3S的缺失部分和在遮光部3S的大寬度透光部側(cè)鄰接的透光部3T在內(nèi)的區(qū)域中，形成矩形的修正膜33(參照?qǐng)D5(e))。然后，確定出暫且形成了修正膜的透光部3T，通過矩形的膜去除部34，將包括透光部3T中形成的修正膜33 (所導(dǎo)致的多余缺陷)和在透光部3T的大寬度透光部側(cè)鄰接的遮光部2S在內(nèi)的區(qū)域去除(參照?qǐng)D5(f))。然后，確定出在上述步驟中暫且去除了遮光膜的一部分的遮光部2S，在包括遮光部2S的缺失部分和在遮光部2S的大寬度透光部側(cè)鄰接的透光部2T在內(nèi)的區(qū)域中，形成矩形的修正膜35(參照?qǐng)D5(g))。然后，確定出暫且形成了修正膜的透光部2T，通過矩形的膜去除部36，將包括透光部2T中形成的修正膜35 (所導(dǎo)致的多余缺陷)和在透光部2T的大寬度透光部側(cè)鄰接的遮光部IS在內(nèi)的區(qū)域去除(參照?qǐng)D5(h))。然后，確定出在上述步驟中暫且去除了遮光膜的一部分的遮光部1S，在包括遮光部is的缺失部分在內(nèi)的區(qū)域和大寬度透光部IT中，形成矩形的修正膜37(參照?qǐng)D5(i))。 最后，通過矩形的膜去除部38，將包括在與所述遮光部IS鄰接的透光部IT中暫且形成的修正膜37(所導(dǎo)致的多余缺陷)在內(nèi)的區(qū)域去除(參照?qǐng)D5(j))。所述透光部IT的寬度大于通過一次修正操作所能去除的最小加工尺寸，因而在去除上述修正膜37時(shí)不會(huì)產(chǎn)生將鄰接的遮光部IS的區(qū)域去除的問題。另外，優(yōu)選上述的矩形的膜去除部30、32、34、36、 38以及矩形的修正膜31、33、35、37都使矩形的一邊與鄰接的透光部或者遮光部的邊緣位置對(duì)準(zhǔn)而一致。通過以上步驟，可以精度良好地修正如圖5(a)所示的遍及多個(gè)小寬度透光部而產(chǎn)生的多余缺陷14。圖6示出將圖5所示的遮光部和透光部顛倒而得到的圖案的情況。S卩，圖6示出在如圖6 (a)所示的圖案中遍及例如兩個(gè)遮光部4S、5S而形成的缺失缺陷15的修正工藝，該圖案包括線與間隔圖案區(qū)域和大寬度遮光部1S，在該線與間隔圖案區(qū)域中交替地排列有小寬度透光部IT 6T和小寬度遮光部2S 6S，該遮光部IS在該圖案區(qū)域的圖案排列的方向上與所述透光部IT鄰接。首先，從所述大寬度遮光部IS起交替地按順序計(jì)數(shù)交替排列的小寬度遮光部和透光部，并確定出具有缺陷而且位次最大的遮光部5S，在包括所述缺失缺陷15中的、形成于該遮光部5S中的缺失缺陷和與該遮光部5S的大寬度遮光部側(cè)鄰接的透光部4T的一部分在內(nèi)的區(qū)域中，形成矩形的修正膜40 (參照?qǐng)D6 (b))。然后，確定出在上述步驟中暫且形成了修正膜40的透光部4T，通過矩形的膜去除部41，將包括該透光部4T中形成的修正膜 40 (所導(dǎo)致的多余缺陷)和在該透光部4T的大寬度遮光部側(cè)鄰接的遮光部4S在內(nèi)的區(qū)域去除(參照?qǐng)D6(c))。然后，確定出在上述步驟中暫且去除了遮光膜的一部分的遮光部4S， 在包括該遮光部4S的缺失部分和在該遮光部4S的大寬度遮光部側(cè)鄰接的透光部3T在內(nèi)的區(qū)域中，形成矩形的修正膜42 (參照?qǐng)D6 (d))。然后，確定出在上述步驟中暫且形成了修正膜42的透光部3T，通過矩形的膜去除部43，將包括該透光部3T中形成的修正膜42 (所導(dǎo)致的多余缺陷)和在該透光部3T的大寬度遮光部側(cè)鄰接的遮光部3S在內(nèi)的區(qū)域去除(參照?qǐng)D6(e))。然后，確定出在上述步驟中暫且去除了遮光膜的一部分的遮光部3S，在包括遮光部3S的缺失部分和在該遮光部3S 的大寬度遮光部側(cè)鄰接的透光部2T在內(nèi)的區(qū)域中，形成矩形的修正膜44 (參照?qǐng)D6(f))。然后，確定出在上述步驟中暫且形成了修正膜44的透光部2T，通過矩形的膜去除部45，將包括該透光部2T中形成的修正膜44 (所導(dǎo)致的多余缺陷)和在該透光部2T的大寬度遮光部側(cè)鄰接的遮光部2S在內(nèi)的區(qū)域去除(參照?qǐng)D6(g))。然后，確定出在上述步驟中暫且去除了遮光膜的一部分的遮光部2S，在包括該遮光部2S的缺失部分和在遮光部2S 的大寬度遮光部側(cè)鄰接的透光部IT在內(nèi)的區(qū)域中，形成矩形的修正膜46 (參照?qǐng)D6(h))。然后，確定出暫且形成了修正膜46的透光部1T，通過矩形的膜去除部47，將包括該透光部IT中形成的修正膜46 (所導(dǎo)致的多余缺陷)和大寬度遮光部IS在內(nèi)的區(qū)域去除 (參照?qǐng)D6(i))。最后，在包括通過上述膜去除部47暫且去除了遮光膜的一部分的遮光部 IS的缺失部分在內(nèi)的區(qū)域中，形成矩形的修正膜48(參照?qǐng)D6(j))。所述遮光部IS的寬度大于通過一次修正操作所能形成的最小加工尺寸，因而可以在不溢出到鄰接的透光部IT 的區(qū)域中的情況下形成修正膜48。另外，優(yōu)選上述的矩形的膜去除部41、43、45、47以及矩形的修正膜40、42、44、46、48都使矩形的一邊與鄰接的透光部或者遮光部的邊緣位置對(duì)準(zhǔn)而一致。通過以上步驟，可以精度良好地修正如圖6(a)所示的遍及多個(gè)小寬度遮光部而產(chǎn)生的缺失缺陷15。如第1、第2、第3實(shí)施方式所示，在本發(fā)明的缺陷修正方法中，通過使矩形的膜去除部的一邊和與要去除膜的透光部鄰接的遮光部的邊緣一致、或者使矩形的修正膜的一邊和與要形成膜的遮光部鄰接的透光部的邊緣一致，可以利用矩形的一邊所具有的直線的精度，實(shí)現(xiàn)高精度的修正。尤其適合于對(duì)修正工藝中形成于透光部中的修正膜進(jìn)行去除修正時(shí)，或者適合于在修正工藝中去除了一部分遮光部的部分中形成修正膜時(shí)。另外，除上述情況之外，也適合于在透光部中產(chǎn)生的多余缺陷與遮光部連續(xù)的情況下去除多余缺陷的時(shí)候。并且，還適用于在遮光部中產(chǎn)生的缺失缺陷與透光部連續(xù)的情況下在缺失缺陷部分中形成修正膜的時(shí)候。并且，也適合作為圖案的邊緣包含直線部分的線與間隔圖案的缺陷修正方法。關(guān)于這些方式，例如根據(jù)第1實(shí)施方式，在圖1 (A) (C)中的透光部IT與遮光部IS的邊界示出了去除膜的示例，同樣在圖1 (B) (d)、圖1 (C) (e)、圖2 (A) (b)、圖2 (B) (c)、圖2 (C) (b)、圖2(C)(d)等中示出了去除膜的示例。并且，根據(jù)第2實(shí)施方式，在圖3(b)中的遮光部3S與透光部3T的邊界有所例示，同樣例示了圖3(d)、圖3(f)等。并且，根據(jù)第3實(shí)施方式，在圖5 (b)中的遮光部5S與透光部5T的邊界有所例示，圖5 (d)、圖5 (f)、圖5 (h)、圖 5(j)等也同樣。并且，圖l(A)(b)中的透光部2T與遮光部IS的邊界示出了形成修正膜的情況，同樣在圖I(B) (C)、圖I(C) (b)、圖I(C) (d)等中也示出形成修正膜的情況。根據(jù)本發(fā)明的缺陷修正方法，在對(duì)與寬度大于通過激光缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度的透光部鄰接的、小于通過激光缺陷修正裝置的一次修正操作所能形成的最小膜形成寬度的遮光部的缺失缺陷進(jìn)行修正的情況下，關(guān)于通過所述修正作業(yè)而形成的修正膜，需要在缺失缺陷部分和所述大寬度透光部中暫且形成修正膜后， 去除在所述大寬度透光部中形成的修正膜。因此，在這種情況下，形成于第1遮光部中的修正膜在與所述大寬度透光部的邊界處具有通過去除修正膜而形成的基于激光修整(laser zapping)的邊緣(圖ΚΑ) (c)中的遮光部IS與透光部IT的邊界，同樣在圖3 (f)、圖5 (j)等中示出)。并且，例如根據(jù)圖5，在對(duì)寬度小于通過激光缺陷修正裝置的一次修正操作所能形成的最小膜形成寬度的遮光部的缺失缺陷進(jìn)行修正后，在該遮光部中，寬度大于通過激光缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度的透光部所在的一側(cè)的邊緣一定是通過去除修正膜而形成的。在圖5 (d)中的遮光部4S與透光部4T的邊界，以及圖5 (f)、 圖5 (h)、圖5 (j)等中示出了該狀況。另一方面，同樣在該遮光部中，寬度大于通過激光缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度的透光部所在的一側(cè)的相反側(cè)的邊緣，不是通過去除膜而形成的，而是具有通過形成修正膜而形成的邊緣。在圖5(c)中的透光部5T與遮光部4S的邊界，同樣在圖5 (e)、圖5 (g)、圖5 (i)等中示出了該狀況。通過實(shí)施本發(fā)明的光掩模修正方法而產(chǎn)生的這種特征，在第1實(shí)施方式、第2實(shí)施方式、第3實(shí)施方式所示的情況中都會(huì)產(chǎn)生。將多個(gè)寬度小于通過激光缺陷修正裝置的一次修正操作所能形成的最小膜形成寬度的遮光部排列配置，利用本發(fā)明的缺陷修正方法來修正這些遮光部時(shí)，作為所述被修正的遮光部之一的第1遮光部，與寬度大于通過激光缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度的透光部鄰接。此外，位于與所述第1遮光部最近的位置的第2遮光部的修正膜與所述第1遮光部的修正膜的距離，小于通過激光缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度。下面，以圖I(C)為例對(duì)其理由進(jìn)行說明。在對(duì)如圖1 (C) (a)所示的產(chǎn)生于小寬度遮光部2S中的缺失缺陷10進(jìn)行修正的情況下，首先按照?qǐng)D1(c) (b)所示，在包括所述缺失缺陷10、和與產(chǎn)生了該缺失缺陷10的遮光部2S鄰接的小寬度透光部2T的一部分在內(nèi)的區(qū)域中，形成修正膜1 (所述透光部2T是在具有所述缺失缺陷10的遮光部2S的、寬度大于通過激光缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度的透光部側(cè)鄰接的透光部)。然后，按照?qǐng)DI(C) (c)所示，去除包括由修正膜1形成在透光部2T中的修正膜和與透光部2T鄰接的遮光部IS的一部分在內(nèi)的區(qū)域。然后，按照?qǐng)DI(C) (d)所示，在包括遮光部IS的被去除的區(qū)域和透光部IT的一部分在內(nèi)的區(qū)域中形成修正膜。最后，按照?qǐng)DI(C) (e)所示，去除形成于透光部IT中的修正膜并完成修正。這樣，本發(fā)明的缺陷修正方法的特征在于，在修正產(chǎn)生了缺陷的遮光部(或者透光部)時(shí)，針對(duì)該缺陷，對(duì)在寬度大于通過激光缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度的透光部側(cè)鄰接的部位的透光部(或者遮光部)暫且進(jìn)行修正，在下一個(gè)步驟中將暫且修正的部位視為缺陷，并依次反復(fù)進(jìn)行修正。這示出了如下情況在使寬度大于通過激光缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度的區(qū)域的矩形的一邊與圖案的邊緣一致來進(jìn)行修正的情況下，被修正的部位形成于從已開始修正的位置起的如下方向上，例如在線與間隔圖案等中，被修正的部位形成于與具有其直線部的邊緣垂直、而且是在寬度大于通過激光缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度的透光部的方向上。因此，在利用本發(fā)明的缺陷修正方法修正后的部位形成的修正膜在與圖案邊緣垂直的方向上并列地排列，因而相鄰的各個(gè)修正膜之間的距離與位于修正膜和修正膜之間的透光部的寬度(小于通過激光缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度的寬度)相等。即，相鄰的修正膜之間的距離可以是小于通過激光缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度的距離。例如，基于修正膜的遮光部可以形成線寬為1 μ m以下的遮光部，可以形成使基于修正膜的遮光部隔著1 μ m以下的間隔與其它遮光部相鄰的轉(zhuǎn)印用圖案。在本發(fā)明中使用的遮光膜至少對(duì)曝光光的一部分光進(jìn)行遮光，例如，在設(shè)透光部的光的透過率為100%時(shí)，可以使曝光光衰減為以下。例如，可以使用光學(xué)濃度為2以上的膜?；蛘?，本發(fā)明的遮光膜也包括具有3% 80%、優(yōu)選3% 60%的透過率的膜。例如，也可以將具有大約3% 20%的透過率的膜用作本發(fā)明的“遮光膜”。在本發(fā)明中所說的“同等的遮光性”是指“同等的透過率”，“同等”是指以要修正缺陷的遮光膜的透過率為基準(zhǔn)，其差值(設(shè)要修正缺陷的遮光膜的透過率為100%時(shí))在20%以內(nèi)。更優(yōu)選差值在5% 以內(nèi)。另外，在本發(fā)明中，“遮光部”是指在透明基板上應(yīng)該形成有上述“遮光膜”的部分。因此，在遮光膜可以透過一部分曝光光的情況下，“遮光部”也可以具有預(yù)定的透過率。在上述遮光膜為含有鉻(Cr)的材料時(shí)，例如有氮化鉻(CrN)、氧化鉻(CrO)、氮氧化鉻(CrON)、氟化鉻(CrF)等。另外，在上述遮光膜為含有鉬(Mo)等金屬和硅(Si)的材料時(shí)，例如有MoSi、 MoSi2、MoSiN、M0SiON、M0SiCON等。另外，遮光膜也包括這些材料的遮光膜層疊而成的結(jié)構(gòu)。采用本發(fā)明的缺陷修正方法的光掩模的用途沒有特別限定。例如，在電視機(jī)和監(jiān)視器等圖像顯示裝置的領(lǐng)域中，可以舉出在制造TFT或?yàn)V色器等時(shí)使用的光掩模。尤其適合于一邊的尺寸超過IOOOmm的光掩模。另外，在通過采用激光的修正裝置來修正這種大型的光掩模時(shí)也比較有效。例如，將曝光設(shè)備的曝光光解像極限以下的遮光部和透光部所形成的細(xì)微圖案用作透過率控制部，對(duì)形成于被轉(zhuǎn)印體上的抗蝕劑膜進(jìn)行曝光、顯影，由此形成具有抗蝕劑膜厚因位置而異的部分的抗蝕劑圖案，在將本發(fā)明應(yīng)用于這種用途的多灰度光掩模時(shí)，適合于對(duì)在所述曝光光解像極限以下的細(xì)微圖案中產(chǎn)生的缺陷進(jìn)行修正。這種多灰度光掩模具有預(yù)定面積的(具有超過曝光設(shè)備的解像極限的線寬的)遮光部、透光部、和包括解像極限以下的細(xì)微圖案的透過率控制部。該透過率控制部可以具有例如3 μ m以下、甚至更精密的1 μ m以下寬度的線圖案及/或間隔圖案的重復(fù)圖案。在這種情況下，設(shè)計(jì)線圖案的寬度和間隔圖案的寬度，形成作為區(qū)域而具有期望的透過率的光透過率控制部，以便使形成于被轉(zhuǎn)印體上的抗蝕劑圖案的膜厚達(dá)到期望值。這種多灰度光掩模的線圖案和間隔圖案的寬度例如都是1 μ m以下，即有時(shí)小于修正裝置的最小加工尺寸， 也可以利用線寬和間距不同的多個(gè)細(xì)微圖案來形成多個(gè)灰度。通過將本發(fā)明應(yīng)用于這種光掩模，可以實(shí)現(xiàn)精細(xì)的缺陷修正，而不會(huì)改變透過率控制部的透過率。本發(fā)明適合于其它細(xì)微圖案的修正。例如，適合于具有3μπι以下的線寬的、具有細(xì)微的線與間隔圖案的ITO導(dǎo)電膜的圖案加工用的光掩模的修正，或者適合于具有薄膜晶體管的細(xì)微溝道圖案的光掩模等的修正。并且，可以實(shí)施本發(fā)明的圖案形狀不限于線與間隔圖案，也適合于由曲線或彎折線構(gòu)成的遮光部和透光部順序排列、而且其寬度很小的情況。例如，可以將本發(fā)明應(yīng)用于諸如圖7示出的㈧ ⑶那樣的各種圖案、或者與這些圖案類似的圖案。本發(fā)明對(duì)上述的尺寸較大的大型光掩模的修正特別有效。尤其是與有時(shí)作為半導(dǎo)體裝置制造用而采用的使用聚焦離子束的缺陷修正裝置相比，不需要在真空下進(jìn)行缺陷修正，因而對(duì)上述的大尺寸光掩模的修正非常有效。這是因?yàn)槌搜b置的投資成本之外，從伴隨有大型真空容器的減壓而導(dǎo)致的生產(chǎn)效率下降的角度出發(fā)，也需要考慮對(duì)批量生產(chǎn)的影響。
權(quán)利要求
1.一種光掩模的缺陷修正方法，使用缺陷修正裝置來修正光掩模中產(chǎn)生的多余缺陷， 該光掩模是對(duì)形成于透明基板上的遮光膜進(jìn)行圖案加工而形成的，具有透光部和遮光部， 該缺陷修正方法的特征在于，包括膜去除步驟，將位于透光部的所述多余缺陷、和與具有所述多余缺陷的透光部鄰接的遮光部的遮光膜的一部分同時(shí)去除；以及膜形成步驟，在通過所述膜去除步驟去除了遮光膜的一部分的所述遮光部中形成修正膜，在所述膜形成步驟中進(jìn)行的膜形成是針對(duì)如下的遮光部進(jìn)行的，該遮光部的寬度大于通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能形成的最小膜形成寬度。
2.一種光掩模的缺陷修正方法，使用缺陷修正裝置來修正光掩模中產(chǎn)生的多余缺陷， 該光掩模是對(duì)形成于透明基板上的遮光膜進(jìn)行圖案加工而形成的，具有透光部和遮光部， 該缺陷修正方法的特征在于，包括第1膜去除步驟，將位于透光部的所述多余缺陷、和與具有所述多余缺陷的透光部鄰接的遮光部的遮光膜的一部分同時(shí)去除；膜形成步驟，在所述第1膜去除步驟中去除了遮光膜的一部分的所述遮光部、和與該遮光部鄰接的第2透光部中形成修正膜；以及第2膜去除步驟，去除所述第2透光部中形成的所述修正膜，在所述第2膜去除步驟中進(jìn)行的膜去除是針對(duì)如下的透光部進(jìn)行的，該透光部的寬度大于通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光掩模的缺陷修正方法，其特征在于，具有所述多余缺陷的透光部的寬度小于通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光掩模的缺陷修正方法，其特征在于，使在所述膜形成步驟中形成的修正膜的邊緣與所述鄰接的遮光部的邊緣一致。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光掩模的缺陷修正方法，其特征在于，所述多余缺陷包含所述修正膜。
6.一種光掩模的缺陷修正方法，使用缺陷修正裝置來修正光掩模中產(chǎn)生的缺失缺陷， 該光掩模是對(duì)形成于透明基板上的遮光膜進(jìn)行圖案加工而形成的，具有透光部和遮光部， 該缺陷修正方法的特征在于，包括膜形成步驟，在包括位于遮光部中的所述缺失缺陷、和與具有所述缺失缺陷的遮光部鄰接的透光部的一部分在內(nèi)的區(qū)域中形成修正膜；以及膜去除步驟，去除在所述膜形成步驟中形成的所述透光部的修正膜，在所述膜去除步驟中進(jìn)行的膜去除是針對(duì)如下的透光部進(jìn)行的，該透光部的寬度大于通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度。
7.一種光掩模的缺陷修正方法，使用缺陷修正裝置來修正光掩模中產(chǎn)生的缺失缺陷， 該光掩模是對(duì)形成于透明基板上的遮光膜進(jìn)行圖案加工而形成的，具有透光部和遮光部， 該缺陷修正方法的特征在于，包括第1膜形成步驟，在包括位于遮光部中的所述缺失缺陷、和與具有所述缺失缺陷的遮光部鄰接的透光部的一部分在內(nèi)的區(qū)域中形成修正膜；膜去除步驟，將在所述第1膜形成步驟中形成于所述透光部中的所述修正膜、和與該透光部鄰接的第2遮光部的遮光膜的一部分同時(shí)去除；以及第2膜形成步驟，在所述膜去除步驟中去除了遮光膜的一部分的所述第2遮光部中形成修正膜，在所述第2膜形成步驟中進(jìn)行的膜形成是針對(duì)如下的遮光部進(jìn)行的，該遮光部的寬度大于通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能形成的最小膜形成寬度。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的光掩模的缺陷修正方法，其特征在于，具有所述缺失缺陷的遮光部的寬度小于通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能形成的最小膜形成寬度。
9.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的光掩模的缺陷修正方法，其特征在于，使在所述膜去除步驟中去除的修正膜的邊緣與所述透光部的邊緣一致。
10.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的光掩模的缺陷修正方法，其特征在于，所述缺失缺陷包含通過所述缺陷修正方法去除了遮光膜的區(qū)域。
11.根據(jù)權(quán)利要求1、2、6和7中的任意一項(xiàng)所述的光掩模的缺陷修正方法，其特征在于，具有所述多余缺陷的透光部或者具有所述缺失缺陷的遮光部的線寬為1 μ m以下。
12.一種光掩模的缺陷修正方法，使用激光缺陷修正裝置來修正光掩模中產(chǎn)生的缺陷， 該光掩模是對(duì)形成于透明基板上的遮光膜進(jìn)行圖案加工而形成的，具有透光部和遮光部， 該缺陷修正方法的特征在于，所述光掩模具有透光部和遮光部交替排列的圖案區(qū)域，該圖案區(qū)域具有小寬度透光部，其寬度小于通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度；小寬度遮光部，其寬度小于通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能形成的最小膜形成寬度；以及大寬度透光部，其寬度大于通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度，所述缺陷修正方法包括步驟(A)，從所述大寬度透光部起交替地按順序計(jì)數(shù)構(gòu)成所述圖案區(qū)域的所述小寬度遮光部和所述小寬度透光部，確定具有缺陷而且位次最大的遮光部或者透光部；步驟(B-I)，在通過所述步驟(A)確定出遮光部時(shí)，在所述確定出的遮光部的缺失缺陷處形成修正膜進(jìn)行修正，并且同時(shí)在與所述遮光部的所述大寬度透光部側(cè)鄰接的透光部 (a)中暫且形成修正膜，或者步驟(B-2)，在通過所述步驟(A)確定出透光部時(shí)，去除所述確定出的透光部的多余缺陷進(jìn)行修正，并且同時(shí)將與所述透光部的所述大寬度透光部側(cè)鄰接的遮光部的一部分暫且去除；以及步驟(C)，將所述暫且形成或者暫且去除的部分作為所述圖案區(qū)域中產(chǎn)生的多余缺陷或者缺失缺陷，反復(fù)進(jìn)行所述步驟(A)和所述步驟(B-I)或者所述步驟(B-2)中的任意一個(gè)步驟，當(dāng)在所述步驟(B-I)中所述透光部(a)與所述大寬度透光部一致時(shí)，去除所述大寬度透光部中形成的多余缺陷。
13.一種光掩模的缺陷修正方法，使用激光缺陷修正裝置來修正光掩模中產(chǎn)生的缺陷， 該光掩模是對(duì)形成于透明基板上的遮光膜進(jìn)行圖案加工而形成的，具有透光部和遮光部， 該缺陷修正方法的特征在于，所述光掩模具有透光部和遮光部交替排列的圖案區(qū)域，該圖案區(qū)域具有小寬度透光部，其寬度小于通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度；小寬度遮光部，其寬度小于通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能形成的最小膜形成寬度；以及大寬度遮光部，其寬度大于通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能形成的最小膜形成寬度， 所述缺陷修正方法包括步驟(A)，從所述大寬度遮光部起交替地按順序計(jì)數(shù)構(gòu)成所述圖案區(qū)域的所述小寬度透光部和所述小寬度遮光部，并確定具有缺陷而且位次最大的遮光部或者透光部；步驟(B-I)，在通過所述步驟(A)確定出遮光部時(shí)，在所述確定出的遮光部的缺失缺陷處形成修正膜進(jìn)行修正，而且同時(shí)在與所述遮光部的所述大寬度遮光部側(cè)鄰接的透光部 (a)中暫且形成修正膜，或者步驟(B-2)，在通過所述步驟(A)確定出透光部時(shí)，去除所述確定出的透光部的多余缺陷進(jìn)行修正，而且同時(shí)將與所述透光部的所述大寬度遮光部側(cè)鄰接的遮光部(a)的一部分暫且去除；以及步驟(C)，將所述暫且形成或者暫且去除的部分作為所述圖案區(qū)域中產(chǎn)生的多余缺陷或者缺失缺陷，反復(fù)進(jìn)行所述步驟(A)和、所述步驟(B-I)或者所述步驟(B-幻中的任意一個(gè)步驟，當(dāng)在所述步驟(B-幻中所述遮光部(a)與所述大寬度遮光部一致時(shí)，修正所述大寬度遮光部中形成的缺失缺陷。
14.根據(jù)權(quán)利要求1、2、6、7、12和13中的任意一項(xiàng)所述的光掩模的缺陷修正方法，其特征在于，所述缺陷修正裝置的所述膜形成是通過激光CVD進(jìn)行的，所述膜去除是通過激光照射而進(jìn)行的，通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能形成的最小膜形成寬度、以及通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度為Ιμπι以上。
15.一種光掩模的制造方法，該光掩模具有通過對(duì)形成于透明基板上的遮光膜進(jìn)行圖案加工而形成的遮光部和透光部，該制造方法的特征在于，包括準(zhǔn)備步驟，準(zhǔn)備在所述透明基板上形成有遮光膜的光掩模坯料； 圖案加工步驟，利用光刻法對(duì)所述遮光膜進(jìn)行圖案加工，形成至少具有遮光部和透光部的轉(zhuǎn)印圖案；以及修正步驟，修正在所形成的所述轉(zhuǎn)印圖案中產(chǎn)生的缺陷，在所述修正步驟中采用根據(jù)權(quán)利要求1、2、6、7、12和13中的任意一項(xiàng)所述的光掩模的缺陷修正方法。
16.一種光掩模，其具有通過對(duì)形成于透明基板上的遮光膜進(jìn)行圖案加工而形成的遮光部和透光部，其特征在于，所述光掩模具有大寬度透光部，其寬度大于通過激光缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度；以及線與間隔圖案區(qū)域，其與所述大寬度透光部鄰接，順序地交替排列有寬度小于通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能形成的最小膜形成寬度的小寬度遮光部，以及寬度小于通過所述缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度的小寬度透光部，在與所述大寬度透光部鄰接的、作為所述小寬度遮光部的第一遮光部中，利用激光缺陷修正裝置形成有修正膜，所述修正膜的邊緣形成所述第一遮光部與所述大寬度透光部的邊界的一部分，而且是利用所述激光缺陷修正裝置去除所述修正膜而形成的邊緣。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的光掩模，其特征在于，在所述圖案區(qū)域中，在位于與第一遮光部最近的位置的第二遮光部中形成有修正膜， 第一遮光部的修正膜與第二遮光部的修正膜之間的距離小于通過激光缺陷修正裝置的一次修正操作所能去除的最小膜去除寬度。
18.根據(jù)權(quán)利要求16或17所述的光掩模，其特征在于，在形成有所述修正膜的遮光部各自的修正膜中，所述大寬度透光部側(cè)的邊緣包括被去除了所述修正膜的邊緣，所述大寬度透光部的相反側(cè)的邊緣不包括被去除了所述修正膜的邊緣。
19.一種圖案轉(zhuǎn)印方法，其特征在于，使用由權(quán)利要求15所述的制造方法制成的光掩模和曝光裝置，在被轉(zhuǎn)印體上進(jìn)行圖案轉(zhuǎn)印。
20.一種圖案轉(zhuǎn)印方法，其特征在于，使用權(quán)利要求18所述的光掩模和曝光裝置，在被轉(zhuǎn)印體上進(jìn)行圖案轉(zhuǎn)印。
全文摘要
光掩模缺陷修正方法、圖案轉(zhuǎn)印方法、光掩模及其制造方法。在光掩模的缺陷修正方法中，使用缺陷修正裝置來修正光掩模中產(chǎn)生的多余缺陷，該光掩模是對(duì)形成于透明基板上的遮光膜進(jìn)行圖案加工而形成的，具有透光部和遮光部。該缺陷修正方法包括膜去除步驟，將位于所述透光部的多余缺陷、和與具有該多余缺陷的透光部鄰接的遮光部的遮光膜的一部分同時(shí)去除；以及膜形成步驟，在通過該膜去除步驟去除了遮光膜的一部分的遮光部中形成修正膜，在該膜形成步驟中進(jìn)行的膜形成是針對(duì)如下的遮光部而進(jìn)行的，該遮光部的寬度大于通過缺陷修正裝置的一次修正操作所能形成的最小膜形成寬度。
文檔編號(hào)G03F1/00GK102445833SQ20111029808
公開日2012年5月9日 申請(qǐng)日期2011年9月29日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月30日
發(fā)明者坂本有司 申請(qǐng)人:Hoya株式會(huì)社