專利名稱：一種電磁爐加熱線盤的繞制方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種電磁爐加熱線盤的繞制方法，特別是一種適用于平底鍋和弧形鍋通用的能減少電磁爐炒菜時油煙的電磁爐加熱線盤。
背景技術(shù)：
電磁爐主要利用電磁誘導(dǎo)作用，使電流進(jìn)入以銅線繞鐵片而成的線圈。產(chǎn)生磁力感應(yīng)，再透過承放于爐面上的鍋具產(chǎn)生渦電流而發(fā)熱。由于其是借鍋具所產(chǎn)生的熱來烹調(diào)食物。因此爐面不會熱，同時在熟煮食物時清潔干凈，而被廣泛使用?，F(xiàn)有的電磁爐的加熱線盤的繞制方法是由多股漆包線在線盤支架繞線面上由內(nèi)到外一圈挨一圈緊密繞制形成餅狀線盤，或在中間部位稀疏的繞制幾圈形成緊密繞制的內(nèi)、外兩個餅狀線盤。由于該結(jié)構(gòu)導(dǎo)致整個線盤在工作時所產(chǎn)生的磁場強度由中心位置向外逐漸減弱，使所加熱的鍋具熱力集中在中心部位，而鍋具外圍大部份位置無多少熱量，使鍋具受熱不均勻，導(dǎo)致炒菜時中心部位熱油飛濺，油煙滿廚房，所以現(xiàn)在有電磁爐的家庭大都只用來煮食物，極少有用來炒菜，而使電磁爐的適用范圍受到限制。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種使被加熱鍋具受熱均勻，炒菜時無熱油飛濺，無油煙或少油煙的電磁爐加熱線盤的繞制方法。
為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用了如下技術(shù)方案加熱線盤由加熱線采用稀密相間的方式繞制而成，加熱線的線與線之間留有間隙；加熱線盤的加熱線的線與線之間采用等距間隙或者任意間隙狀態(tài)分布；加熱線盤形狀為平面線盤或弧面線盤。
加熱線盤的中心部位的加熱線的線與線之間留有間隙，加熱線盤的加熱線呈中心稀，外圈密狀態(tài)分布。
加熱線盤的中心部位及外圈部位的加熱線的線與線之間留有間隙，加熱線盤的加熱線呈內(nèi)外稀疏，中間密狀態(tài)分布。
加熱線盤中心部位的加熱線的線與線之間最稀疏，加熱線盤的加熱線呈由內(nèi)到外逐漸加密狀態(tài)分布。
加熱線盤中心部位的加熱線可先密繞2～5圈。
加熱線盤的加熱線采用密繞的內(nèi)、外兩部份狀態(tài)分布，密繞的內(nèi)、外兩部份加熱線之間留有間隙；間隙為加熱線線徑的1～5倍。
加熱線盤中心部位的加熱線起始繞制的線圈的直徑可為40～50毫米。
加熱線盤中心部位的加熱線起始繞制的線圈的直徑可為40～50毫米。
加熱線盤稀疏部位的加熱線的線與線之間的間隙1的尺寸為0.5mm～5mm。
本發(fā)明的突出效果是由于加熱線盤的中心或外圈位置，加熱線的線與線之間留有一定的間隙，通過不同的疏密組合分布來達(dá)到控制磁場強度的均勻度，使承放于爐面上的鍋具產(chǎn)生的熱度更均勻、合理、合適、達(dá)到了炒菜時無熱油飛濺，少油煙甚至無油煙的效果；經(jīng)反復(fù)試驗效果明顯。


圖1為本發(fā)明實施例一加熱線盤繞制示意圖；圖2為本發(fā)明實施例二加熱線盤繞制示意圖；圖3為本發(fā)明實施例三加熱線盤繞制示意圖；
圖4為本發(fā)明實施例四加熱線盤繞制示意圖；圖5為本發(fā)明實施例五加熱線盤繞制示意圖；圖6為本發(fā)明實施例六加熱線盤繞制示意圖；圖7為本發(fā)明實施例七加熱線盤繞制示意圖；圖8為本發(fā)明實施例八加熱線盤繞制示意圖。
圖9為本發(fā)明實施例二弧形加熱線盤繞制剖視圖；圖10為本發(fā)明實施例二平面加熱線盤繞制剖視圖。
具體實施例方式下面結(jié)合附圖對本發(fā)明作進(jìn)一步描述加熱線盤3由加熱線2采用稀密相間的方式繞制而成，加熱線2的線與線之間留有間隙1；加熱線盤3的加熱線2的線與線之間采用等距間隙1或者任意間隙1狀態(tài)分布；加熱線盤3形狀為平面線盤或弧面線盤。
實施例一、如圖1所示，電磁爐加熱線盤3由加熱線2一圈圈繞制構(gòu)成，加熱線盤3的中心部位的加熱線2的線與線之間留有間隙1，其間隙1的尺寸為0.5mm～5mm。加熱線盤3的加熱線2呈中心稀，外圈密狀態(tài)分布。
實施例二、如圖2、圖9、圖10所示，加熱線盤3的中心部位及外圈部位的加熱線2的線與線之間留有間隙1，加熱線盤3的加熱線2呈內(nèi)外稀疏，中間密狀態(tài)分布；加熱線盤3形狀為平面線盤或弧面線盤。。
實施例三、如圖3所示，加熱線2在加熱線盤3中心部位先密繞2～5圈，然后呈稀疏后再密繞的狀態(tài)分布。
實施例四、如圖4所示，加熱線2在加熱線盤3中心部位先密繞2～5圈，然后呈稀疏-密繞-稀疏狀態(tài)分布。
實施例五、如圖5所示，加熱線盤中心部位的加熱線起始繞制的線圈的直徑可為40～50毫米。加熱線2在加熱線盤3中心部位先密繞2～5圈，然后加熱線2呈稀疏-密繞狀態(tài)分布。
實施例六、如圖6所示，加熱線盤中心部位的加熱線起始繞制的線圈的直徑可為40～50毫米。加熱線2在加熱線盤3中心部位先密繞2～5圈，然后加熱線2呈稀疏-密繞-稀疏狀態(tài)分布。
實施例七、如圖7所示，加熱線盤3的加熱線2的線與線之間留有等距間隙1；或者也可以是加熱線2的線與線之間，其間隙1的尺寸由加熱線盤中心向外圈逐漸由大變小或者由小變大。
實施例八、如圖8所示，加熱線盤3的加熱線2采用密繞的內(nèi)、外兩部份狀態(tài)分布，密繞的內(nèi)、外兩部份加熱線2之間留有間隙；間隙為加熱線2線徑的1～5倍。
此外加熱線盤3中心部位的加熱線2的線與線之間最稀疏，加熱線盤3的加熱線呈由內(nèi)到外逐漸加密狀態(tài)分布。也包括在其保護(hù)范圍之內(nèi)。
加熱線盤3稀疏部位的加熱線2的線與線之間的間隙1的尺寸為0.5mm～5mm。
權(quán)利要求
1.一種電磁爐加熱線盤的繞制方法，電磁爐加熱線盤由加熱線(2)繞制構(gòu)成，其特征在于加熱線盤(3)由加熱線(2)采用稀密相間的方式繞制而成，加熱線(2)的線與線之間留有間隙(1)；加熱線盤(3)的加熱線(2)的線與線之間采用等距間隙(1)或者任意間隙(1)狀態(tài)分布；加熱線盤(3)形狀為平面線盤或弧面線盤。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電磁爐加熱線盤的繞制方法，其特征在于加熱線盤(3)的中心部位的加熱線(2)的線與線之間留有間隙(1)，加熱線盤(3)的加熱線(2)呈中心稀，外圈密狀態(tài)分布。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電磁爐加熱線盤的繞制方法，其特征在于加熱線盤(3)的中心部位及外圈部位的加熱線(2)的線與線之間留有間隙(1)，加熱線盤(3)的加熱線(2)呈內(nèi)外稀疏，中間密狀態(tài)分布。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電磁爐加熱線盤的繞制方法，其特征在于加熱線盤(3)中心部位的加熱線(2)的線與線之間最稀疏，加熱線盤(3)的加熱線呈由內(nèi)到外逐漸加密狀態(tài)分布。
5.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3或4所述的一種電磁爐加熱線盤的繞制方法，其特征在于加熱線盤(3)中心部位的加熱線(2)可先密繞2～5圈。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電磁爐加熱線盤的繞制方法，其特征在于加熱線盤(3)的加熱線(2)采用密繞的內(nèi)、外兩部份狀態(tài)分布，密繞的內(nèi)、外兩部份加熱線(2)之間留有間隙；間隙為加熱線(2)線徑的1～5倍。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種電磁爐加熱線盤的繞制方法，其特征在于加熱線盤(3)中心部位的加熱線(2)起始繞制的線圈的直徑可為40～50毫米。
8.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3或4所述的一種電磁爐加熱線盤的繞制方法，其特征在于加熱線盤(3)中心部位的加熱線(2)起始繞制的線圈的直徑可為40～50毫米。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電磁爐加熱線盤的繞制方法，其特征在于加熱線盤(3)稀疏部位的加熱線(2)的線與線之間的間隙(1)的尺寸為0.5mm～5mm。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種電磁爐加熱線盤的繞制方法，特別是一種適用于平底鍋和弧形鍋通用的能減少電磁爐炒菜時油煙的電磁爐加熱線盤，其特征在于加熱線盤由加熱線采用稀密相間的方式繞制而成，加熱線的線與線之間留有間隙；加熱線盤的加熱線的線與線之間采用等距間隙或者任意間隙狀態(tài)分布；加熱線盤形狀為平面線盤或弧面線盤；加熱線的線與線的間隙的尺寸可為0.5mm～5mm；本發(fā)明通過用加熱線的疏密組合分布來達(dá)到控制磁場強度的均勻度，使整個線盤的磁場強度在不同直徑位置更均勻，使被加熱鍋具受熱明顯均勻，克服了現(xiàn)有電磁爐炒菜時油煙太大的現(xiàn)象，是目前較為理想的電磁爐加熱線盤結(jié)構(gòu)。
文檔編號H05B6/12GK101083856SQ20061009204
公開日2007年12月5日 申請日期2006年6月4日 優(yōu)先權(quán)日2006年6月4日
發(fā)明者吳勇 申請人:吳勇