專利名稱：一種可控還原氣氛泡生爐的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種泡生法晶體生長裝置，具體說，是涉及一種適用于大尺寸、高真空和還原氣氛晶體生長與退火一體化的可控還原氣氛泡生爐。
背景技術(shù)：
藍(lán)寶石晶體是一種具有集優(yōu)良光學(xué)性能、物理性能和化學(xué)性能的獨特結(jié)合體。作為最硬的氧化物晶體，藍(lán)寶石由于其光學(xué)和物理特性而被運用于各種苛刻的領(lǐng)域。它有著很好的熱特性，極好的電氣特性和介電特性，并且防化學(xué)腐蝕。隨著科學(xué)技術(shù)的迅猛發(fā)展， 藍(lán)寶石晶體已經(jīng)成為現(xiàn)代工業(yè)，尤其是微電子及光電子產(chǎn)業(yè)極為重要的基礎(chǔ)材料。所以，生長大尺寸高質(zhì)量藍(lán)寶石成為全球競相研究的熱點。另一方面，鈦寶石是目前應(yīng)用最廣泛的飛秒激光材料及可調(diào)諧固體激光材料，鈦寶石激光晶體在軍事及民用各個領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用，例如激光聚變快點火、超熱物質(zhì)、強(qiáng)輻射源、激光粒子加速、新光源、天體物理、相對論等離子體物理、核物理、材料科學(xué)、生命科學(xué)、太赫茲等前沿科學(xué)領(lǐng)域。大截面的鈦寶石放大器，通光截面更大，通過增加模體積，降低功率密度，可以通過更高能量的光束，實現(xiàn)更大的能量輸出。所以大截面鈦寶石放大器成為高功率短脈沖激光器的核心部件。因此，大尺寸鈦寶石晶體生長設(shè)備也成為現(xiàn)今國內(nèi)外研究的熱點。目前，國內(nèi)外生長藍(lán)寶石晶體的主要方法有熱交換法(Heat Exchange)、泡生法、 溫梯法(TGT)、導(dǎo)模法(Ere)及提拉法(Cz)等。生長鈦寶石晶體的主要方法有熱交換法 (Heat Exchange)、溫梯法(TGT)和提拉法(Cz)等。而能夠滿足特定方向大尺寸藍(lán)寶石和鈦寶石晶體生長的方法只有美國的熱交換法(Heat Exchange)和國內(nèi)的溫梯法(TGT)。其中熱交換法是通過流動的氦氣流來建立和調(diào)節(jié)溫度梯度，并在晶體生長后期有限度的實現(xiàn)晶體原位退火。但是這種生長裝置仍然存在缺點裝置復(fù)雜、成本較高、生長過程中需大量的氦氣流來建立溫場。而國內(nèi)的溫梯法生長的藍(lán)寶石或鈦寶石晶體高度不夠，去除頭部和尾部晶體位錯密度高、雜質(zhì)含量大質(zhì)量差的部分，選取特定方向的大尺寸晶體很難。另外，受雜質(zhì)的影響，晶體內(nèi)部缺陷較大，獲得大尺寸光學(xué)級、大面積光學(xué)均勻性好的晶體不易。以上的兩種方法都是采用的石墨加熱體，所以晶體不可以在還原氣氛下生長，生長的晶體還需要在另外的退火設(shè)備中完成高溫還原氣氛退火；生長過程中還會引入碳雜質(zhì)，對碳雜質(zhì)的排除也是一個很大的難題。導(dǎo)模法(Ere)雖然可以根據(jù)實際需要生長不同形狀的晶體， 但是很難獲得高質(zhì)量的晶體。泡生法采用鎢、鉬材料作為發(fā)熱體和保溫屏，晶體生長過程中不會引入碳雜質(zhì)且晶體生長過程中還能夠?qū)崿F(xiàn)自排雜除鉬，目前主要用來生長大尺寸藍(lán)寶石。生長的藍(lán)寶石晶體無色透明、應(yīng)力低、光學(xué)均勻性好。但是俄羅斯生產(chǎn)的該設(shè)備電控系統(tǒng)真空和充氣互鎖，且沒有能量管理系統(tǒng)將熱流集中在某一固定位置或區(qū)域，因此不能在真空和充氣條件下同時使用，也就是不能實現(xiàn)晶體在氫氣氣氛下生長與退火。原泡生法設(shè)備由真空系統(tǒng)，電控系統(tǒng)，溫場系統(tǒng)，提拉旋轉(zhuǎn)稱重系統(tǒng)組成。真空系統(tǒng)主要作用是形成高真空，并在真空條件下生長晶體；電控系統(tǒng)為晶體生長提供能源動力，控制電力輸出，保持溫場系統(tǒng)穩(wěn)定可控，為晶體生長提供保障，同時控制提拉速度、旋轉(zhuǎn)速度、顯示晶體重量，并在斷水、真空度降低條件下報警；在溫場系統(tǒng)是在該空間內(nèi)形成適合晶體生長的溫度梯度；提拉旋轉(zhuǎn)稱重系統(tǒng)是為晶體生長提供可控的提拉速度、旋轉(zhuǎn)速度，稱量晶體的實時重量。真空系統(tǒng)包括爐膛、大爐蓋、小爐蓋、機(jī)械泵、擴(kuò)散泵；電控系統(tǒng)主要包括電源、溫控、真空顯示、提拉控制、旋轉(zhuǎn)控制、稱重顯示、報警系統(tǒng)；溫場系統(tǒng)由加熱器、 上保溫屏、下保溫屏、側(cè)保溫屏構(gòu)成；提拉旋轉(zhuǎn)稱重系統(tǒng)水冷桿、變速箱、稱重頭、旋轉(zhuǎn)電機(jī)組成，水冷電極位于爐膛內(nèi)，與電源和加熱器相連，起能量傳遞作用，但存在設(shè)備真空和還原氣氛轉(zhuǎn)換控制等問題。

發(fā)明內(nèi)容
針對現(xiàn)有技術(shù)存在的上述問題和不足，本發(fā)明的目的是提供一種可控還原氣氛泡生爐，對現(xiàn)有傳統(tǒng)泡生爐真空系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、溫場系統(tǒng)、保護(hù)系統(tǒng)重新整合，解決真空和還原氣氛轉(zhuǎn)換控制問題，以實現(xiàn)大尺寸、高真空和還原氣氛晶體生長與退火一體化處理。為實現(xiàn)上述發(fā)明目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案如下一種可控還原氣氛泡生爐，包括軟件控制系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、提拉系統(tǒng)、壓力平衡系統(tǒng)、斷電保護(hù)系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、旋轉(zhuǎn)稱重系統(tǒng)、真空充氣爐室和溫場系統(tǒng)，軟件控制系統(tǒng)連接稱重旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)、電控系統(tǒng)和提拉系統(tǒng)，電控系統(tǒng)連接稱重旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)、真空充氣爐室、提拉系統(tǒng)、壓力平衡系統(tǒng)和斷電保護(hù)系統(tǒng)，冷卻系統(tǒng)連接稱重旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)、真空充氣爐室、溫場系統(tǒng)、 提拉系統(tǒng)、壓力平衡系統(tǒng)和斷電保護(hù)系統(tǒng)，溫場系統(tǒng)連接真空充氣爐室；所述溫場系統(tǒng)包括加熱器、上保溫屏、下保溫屏和側(cè)保溫屏；所述真空充氣爐室內(nèi)設(shè)有坩堝，上保溫屏、下保溫屏和側(cè)保溫屏設(shè)置于坩堝的上、下、側(cè)三面，加熱器設(shè)置于坩堝的外側(cè)，側(cè)保溫屏上方設(shè)有水冷銅電極弧板；所述真空充氣爐室外還設(shè)有水冷銅電極，真空充氣爐室還連接有真空機(jī)組，上方設(shè)有提拉機(jī)構(gòu)；所述真空機(jī)組上方設(shè)有電控柜；所述可控還原氣氛泡生爐還包括一套低真空壓力平衡系統(tǒng)，所述低真空壓力平衡系統(tǒng)包括進(jìn)氣口、出氣口、壓力傳感器、壓力信號轉(zhuǎn)換器、閥門位置控制儀表及可控制閥門；所述進(jìn)氣口連接進(jìn)氣流量控制器，進(jìn)氣流量控制器連接真空充氣爐室；所述出氣口連接可控制閥門，可控制閥門連接閥門控制儀表， 閥門控制儀表連接壓力信號轉(zhuǎn)換器，壓力信號轉(zhuǎn)換器連接真空充氣爐室，壓力信號轉(zhuǎn)換器還連接設(shè)置于真空充氣爐室外側(cè)的壓力傳感器。作為進(jìn)一步優(yōu)選方案，所述的上保溫屏、下保溫屏和側(cè)保溫屏均采用鎢、鉬或鎢鉬合金材料加工制成。作為進(jìn)一步優(yōu)選方案，所述的可控還原氣氛泡生爐采用靜密封，設(shè)備真空度高于 5 X KT4Pa。 作為進(jìn)一步優(yōu)選方案，所述的加熱器為籠體狀鎢網(wǎng)。作為進(jìn)一步優(yōu)選方案，所述的坩堝為鉬鎢坩堝。作為進(jìn)一步優(yōu)選方案，所述的真空充氣爐室和真空機(jī)組的連接處設(shè)有水冷擋板。作為進(jìn)一步優(yōu)選方案，所述的真空充氣爐室的上部還設(shè)有觀察窗。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明通過引入低真空壓力平衡系統(tǒng)，對傳統(tǒng)泡生法設(shè)備的真空系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、溫場系統(tǒng)和保護(hù)系統(tǒng)重新整合，可以實現(xiàn)晶體生長與退火一次完成，可有效解決熱交換法和溫梯法存在的碳元素和鉬元素的污染問題，而且可避免在晶體生長過程中由外界帶來的碳污染問題；利用本發(fā)明提供的可控還原氣氛泡生爐，可生長尺寸達(dá) Φ (120 170) X (150 180)mm的光學(xué)級藍(lán)寶石或鈦寶石晶體，以滿足國內(nèi)外高功率激光器在軍事及民用方面的需求。


圖1是本發(fā)明提供的可控還原氣氛泡生爐的結(jié)構(gòu)框圖；圖2是本發(fā)明提供的可控還原氣氛泡生爐的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖。圖中1.真空充氣爐室；2.壓力信號轉(zhuǎn)換器；3.進(jìn)氣流量控制器；4.可控制閥門； 5.進(jìn)氣口 ；6.出氣口 ；7閥門位置控制儀表；8.壓力傳感器；9.下保溫屏；10.側(cè)保溫屏； 11.加熱器；12.坩堝；13.水冷銅電極弧板；14.提拉機(jī)構(gòu)；15.觀察窗；16.水冷銅電極； 17.水冷擋板；18.電控柜；19.真空機(jī)組；20.上保溫屏。
具體實施例方式下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。如圖1和圖2所示，本發(fā)明提供的一種可控還原氣氛泡生爐，包括軟件控制系統(tǒng)、 電控系統(tǒng)、提拉系統(tǒng)、壓力平衡系統(tǒng)、斷電保護(hù)系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、旋轉(zhuǎn)稱重系統(tǒng)、真空充氣爐室和溫場系統(tǒng)，軟件控制系統(tǒng)連接稱重旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)、電控系統(tǒng)和提拉系統(tǒng)，電控系統(tǒng)連接稱重旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)、真空充氣爐室、提拉系統(tǒng)、壓力平衡系統(tǒng)和斷電保護(hù)系統(tǒng)，冷卻系統(tǒng)連接稱重旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)、真空充氣爐室、溫場系統(tǒng)、提拉系統(tǒng)、壓力平衡系統(tǒng)和斷電保護(hù)系統(tǒng)，溫場系統(tǒng)連接真空充氣爐室；所述溫場系統(tǒng)包括加熱器11、上保溫屏20、下保溫屏9和側(cè)保溫屏10，真空充氣爐室1內(nèi)設(shè)有坩堝12，上保溫屏20、下保溫屏9和側(cè)保溫屏10設(shè)置于坩堝12的上、下、 側(cè)三面，加熱器11設(shè)置于坩堝12的外側(cè)，側(cè)保溫屏10上方設(shè)有水冷銅電極弧板13，真空充氣爐室1外還設(shè)有水冷銅電極16，真空充氣爐室1還連接有真空機(jī)組19，上方設(shè)有提拉機(jī)構(gòu)14，真空機(jī)組19上方設(shè)有電控柜18 ；所述可控還原氣氛泡生爐還包括一套低真空壓力平衡系統(tǒng)，低真空壓力平衡系統(tǒng)包括進(jìn)氣口 5、出氣口 6、壓力傳感器8、壓力信號轉(zhuǎn)換器2、閥門位置控制儀表7及可控制閥門4，進(jìn)氣口 5連接進(jìn)氣流量控制器3，進(jìn)氣流量控制器3連接真空充氣爐室1，出氣口 6連接可控制閥門4，可控制閥門4連接閥門控制儀表7，閥門控制儀表7連接壓力信號轉(zhuǎn)換器2，壓力信號轉(zhuǎn)換器2連接真空充氣爐室1，壓力信號轉(zhuǎn)換器2 還連接設(shè)置于真空充氣爐室1外側(cè)的壓力傳感器8。所述上保溫屏20、下保溫屏9和側(cè)保溫屏10均采用鎢、鉬或鎢鉬合金材料加工制成。所述可控還原氣氛泡生爐采用靜密封，設(shè)備真空度高于5X10_4Pa。所述加熱器11為籠體狀鎢網(wǎng)，所述坩堝12為鉬鎢坩堝。真空充氣爐室1和真空機(jī)組19的連接處設(shè)有水冷擋板17，真空充氣爐室1的上部還設(shè)有觀察窗 15。本發(fā)明在傳統(tǒng)泡生爐設(shè)備的基礎(chǔ)上引入低真空壓力平衡系統(tǒng)，使得設(shè)備可在真空、充氣條件下使用。對傳統(tǒng)泡生爐電控設(shè)備重新設(shè)計，解除真空和充氣的連鎖，采用分開的報警和預(yù)警方式。所述報警系統(tǒng)指真空報警系統(tǒng)和充氣報警系統(tǒng)。開機(jī)時先啟動真空報警系統(tǒng)，檢測達(dá)到10-4 量級后，高真空報警狀態(tài)切換到充氣報警狀態(tài)。低真空報警范圍壓力高于 Ipa,低于 0. 05pa。
本發(fā)明的工作原理為在充氣時，由壓力傳感器測量真空容器中的壓力數(shù)值，并傳送至壓力信號轉(zhuǎn)換器；壓力信號轉(zhuǎn)換器接收信號后，對壓力信號進(jìn)行處理，將壓力信號轉(zhuǎn)化為可控制的電信號后送至信號放大器，經(jīng)信號放大器將放大后的標(biāo)準(zhǔn)信號送至閥門位置控制裝置；信號至閥門位置控制裝置后，此裝置對信號進(jìn)行識別處理，并將標(biāo)準(zhǔn)的電信號再轉(zhuǎn)換為閥門可識別的位置信號，然后傳送至可控制調(diào)節(jié)閥門，通過對閥門開啟位置的控制，控制氣體流入量與機(jī)械泵抽速平衡，達(dá)到進(jìn)氣出氣準(zhǔn)平衡，實現(xiàn)真空容器中壓力的平衡。此系統(tǒng)的控壓范圍為0. 1 10X IO5Pa,控壓精度高于2%。可見，本發(fā)明在充氣時，可利用壓力控制系統(tǒng)使?fàn)t內(nèi)壓力緩慢增加，平緩冷氣流對高溫工作環(huán)境元器件的沖擊，實現(xiàn)真空和充氣狀態(tài)轉(zhuǎn)換。另外，本發(fā)明通過改進(jìn)電極水冷設(shè)計，增加水冷量；同時上保溫屏采用鉬反射鏈等能量管理方式，增加反射，減少對電極的輻射；可解決高溫充氣條件下電極溫度過高問題。本發(fā)明采用籠狀鎢網(wǎng)作為發(fā)熱體，通過熱輻射來加熱鉬鎢坩堝。上、下、側(cè)面保溫屏均采用具有高反射率的鎢鉬制品，通過調(diào)節(jié)不同位置的反射方式和反射率，實現(xiàn)熱流管理，使能量集中于爐腔中心部位的加熱區(qū)，形成穩(wěn)定溫場，實現(xiàn)鈦寶石平界面生長，提高鈦寶石晶體質(zhì)量。同時這種熱管理方式還可以減小對真空連接處的熱損傷。利用本發(fā)明提供的可控還原氣氛泡生爐生長晶體的工藝流程如下<1>將按一定配比的TW2和Al2O3粉料在混料機(jī)中機(jī)械混合；<2>將原料用壓料機(jī)壓成塊狀，然后在真空或還原氣氛中燒結(jié)后，裝入坩堝中，置入所述的泡生爐中；<3>將定向的籽晶置入坩堝上方可旋轉(zhuǎn)和升降的提拉桿的籽晶夾中；<4>將坩堝加熱到2050°C以上，降低提拉桿，使籽晶插入熔體中；<5>控制熔體的溫度，使液面溫度略高于熔點，熔去少量的籽晶使得晶體在潔凈的籽晶表面上生長；<6>調(diào)節(jié)加熱功率和通入還原氣體的壓強(qiáng)，使鈦寶石晶體在適當(dāng)?shù)臈l件下生長；<7>結(jié)晶結(jié)束后，以適當(dāng)?shù)乃俾世^續(xù)降低功率對晶體進(jìn)行降溫。經(jīng)試用，利用本發(fā)明提供的可控還原氣氛泡生爐按上述晶體生長工藝流程可生長尺寸達(dá)Φ (120 170) X (150 180)mm的光學(xué)級鈦寶石晶體。綜上所述，本發(fā)明采用特殊的熱管理方式，并改進(jìn)水冷設(shè)施實現(xiàn)設(shè)備在充氣條件下使用，并在傳統(tǒng)泡生爐基礎(chǔ)上引入一套低真空壓力平衡系統(tǒng)，通過氫氣的循環(huán)流動實現(xiàn)晶體的原位退火，使?fàn)t體內(nèi)部的熱傳導(dǎo)方式發(fā)生改變，由原來主要的輻射傳導(dǎo)轉(zhuǎn)變?yōu)闅怏w對流傳導(dǎo)和熱輻射傳導(dǎo)兩種方式。有效解決了在充氣狀態(tài)下，由于氣體的循環(huán)導(dǎo)致熱量散失增大能量供給壓力的問題，及由于會同時使?fàn)t外殼溫度升高，產(chǎn)生真空連接處熱侵蝕增大的問題可；可以實現(xiàn)晶體生長與退火一次完成，可有效解決熱交換法和溫梯法存在的碳元素和鉬元素的污染問題，而且可避免在晶體生長過程中由外界帶來的碳污染問題；利用本發(fā)明提供的可控還原氣氛泡生爐，可生長尺寸達(dá)Φ (120 170) X (150 180)mm的光學(xué)級藍(lán)寶石或鈦寶石晶體，以滿足國內(nèi)外高功率激光器在軍事及民用方面的需求。最后有必要在此指出的是以上內(nèi)容只用于對本發(fā)明的技術(shù)方案作進(jìn)一步詳細(xì)的說明，不能理解為對本發(fā)明保護(hù)范圍的限制，本領(lǐng)域的技術(shù)人員根據(jù)本發(fā)明的上述內(nèi)容作出的一些非本質(zhì)的改進(jìn)和調(diào)整均屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種可控還原氣氛泡生爐，包括軟件控制系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、提拉系統(tǒng)、壓力平衡系統(tǒng)、斷電保護(hù)系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、旋轉(zhuǎn)稱重系統(tǒng)、真空充氣爐室和溫場系統(tǒng)，軟件控制系統(tǒng)連接稱重旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)、電控系統(tǒng)和提拉系統(tǒng)，電控系統(tǒng)連接稱重旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)、真空充氣爐室、提拉系統(tǒng)、壓力平衡系統(tǒng)和斷電保護(hù)系統(tǒng)，冷卻系統(tǒng)連接稱重旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)、真空充氣爐室、溫場系統(tǒng)、 提拉系統(tǒng)、壓力平衡系統(tǒng)和斷電保護(hù)系統(tǒng)，溫場系統(tǒng)連接真空充氣爐室；所述溫場系統(tǒng)包括加熱器、上保溫屏、下保溫屏和側(cè)保溫屏；所述真空充氣爐室內(nèi)設(shè)有坩堝，上保溫屏、下保溫屏和側(cè)保溫屏設(shè)置于坩堝的上下側(cè)三面，加熱器設(shè)置于坩堝的外側(cè)，側(cè)保溫屏上方設(shè)有水冷銅電極弧板；所述真空充氣爐室外還設(shè)有水冷銅電極，真空充氣爐室還連接有真空機(jī)組，上方設(shè)有提拉機(jī)構(gòu)；所述真空機(jī)組上方設(shè)有電控柜；其特征在于所述可控還原氣氛泡生爐還包括一套低真空壓力平衡系統(tǒng)，低真空壓力平衡系統(tǒng)包括進(jìn)氣口、出氣口、壓力傳感器、壓力信號轉(zhuǎn)換器、閥門位置控制儀表及可控制閥門；所述進(jìn)氣口連接進(jìn)氣流量控制器，進(jìn)氣流量控制器連接真空充氣爐室；所述出氣口連接可控制閥門， 可控制閥門連接閥門控制儀表，閥門控制儀表連接壓力信號轉(zhuǎn)換器，壓力信號轉(zhuǎn)換器連接真空充氣爐室，壓力信號轉(zhuǎn)換器還連接設(shè)置于真空充氣爐室外側(cè)的壓力傳感器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可控還原氣氛泡生爐，其特征在于所述上保溫屏、下保溫屏和側(cè)保溫屏均采用鎢、鉬或鎢鉬合金材料加工制成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可控還原氣氛泡生爐，其特征在于所述可控還原氣氛泡生爐采用靜密封，設(shè)備真空度高于5 X 10_4Pa。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可控還原氣氛泡生爐，其特征在于所述加熱器為籠體狀鎢網(wǎng)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可控還原氣氛泡生爐，其特征在于所述坩堝為鉬鎢坩堝。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可控還原氣氛泡生爐，其特征在于所述真空充氣爐室和真空機(jī)組的連接處設(shè)有水冷擋板。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可控還原氣氛泡生爐，其特征在于所述真空充氣爐室的上部還設(shè)有觀察窗。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種可控還原氣氛泡生爐，所述泡生爐包括軟件控制系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、提拉系統(tǒng)、壓力平衡系統(tǒng)、斷電保護(hù)系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、旋轉(zhuǎn)稱重系統(tǒng)、真空充氣爐室和溫場系統(tǒng)，其特征在于還包括一套低真空壓力平衡系統(tǒng)。本發(fā)明通過引入低真空壓力平衡系統(tǒng)，對傳統(tǒng)泡生法設(shè)備的真空系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、溫場系統(tǒng)和保護(hù)系統(tǒng)重新整合，可以實現(xiàn)晶體生長與退火一次完成，可有效解決熱交換法和溫梯法存在的碳元素和鉬元素的污染問題，而且可避免在晶體生長過程中由外界帶來的碳污染問題；利用本發(fā)明提供的可控還原氣氛泡生爐，可生長大尺寸的光學(xué)級藍(lán)寶石或鈦寶石晶體，以滿足國內(nèi)外高功率激光器在軍事及民用方面的需求。
文檔編號C30B29/20GK102560637SQ20111044956
公開日2012年7月11日 申請日期2011年12月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月29日
發(fā)明者唐慧麗, 姜大鵬, 徐軍, 徐曉東, 李紅軍, 蘇良碧, 鄒宇琦, 鄭麗和, 錢小波 申請人:中國科學(xué)院上海硅酸鹽研究所