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      一種鑄造單晶過(guò)程中通過(guò)氣流控制籽晶熔化程度的方法及裝置的制作方法

      文檔序號(hào):8195315閱讀:268來(lái)源:國(guó)知局
      專利名稱:一種鑄造單晶過(guò)程中通過(guò)氣流控制籽晶熔化程度的方法及裝置的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及一種鑄造單晶過(guò)程中控制籽晶熔化程度的氣流控制方法及裝置。
      背景技術(shù)
      目前太陽(yáng)能電池主要采用單晶硅片和多晶硅片來(lái)制造,其中單晶硅片具有晶界少、雜質(zhì)低、少子壽命聞的特點(diǎn),對(duì)光的吸收和轉(zhuǎn)換效率聞;而多晶娃片則由于晶界多,雜質(zhì)高,其制絨面對(duì)光的吸收轉(zhuǎn)換效率要比單晶硅低1%_2%。單晶硅主要采用直拉法(Cz法)生產(chǎn),單次投料量低,控制工藝要求高,產(chǎn)品成本較高;而多晶硅則多是采用定向凝固法,使用 鑄錠爐生產(chǎn)的,控制工藝要求比較低,且一次投料量大,產(chǎn)出多,成本低。因此,采用多晶爐鑄造單晶硅錠是一種結(jié)合多晶硅和單晶硅優(yōu)勢(shì)的生產(chǎn)方法。其所得硅錠既具有單晶硅的晶界少,少子壽命高等性能特點(diǎn),同時(shí)也具有多晶硅的成本低、產(chǎn)量大的優(yōu)勢(shì)。該鑄造單晶方法主要實(shí)施過(guò)程為在石英坩堝底部鋪上籽晶,并通過(guò)溫度控制硅料熔化來(lái)使得熔融硅料的后續(xù)生長(zhǎng)按底部籽晶晶向進(jìn)行,從而生長(zhǎng)出含有類似單晶體的硅錠。在目前的鑄造單晶制備工藝過(guò)程中,大多都是通過(guò)控制溫度變化,使加熱器熱量產(chǎn)生變化來(lái)控制硅料以及籽晶熔化的程度,同時(shí)采用提升隔熱籠高度的方法來(lái)減少底部籽晶的熱量吸收。目前尚未見(jiàn)到通過(guò)氣流控制熱量來(lái)控制籽晶熔化程度的公開(kāi)報(bào)道或?qū)@暾?qǐng)。鑄錠爐底部籽晶高度較低,一般為5mm-50mm之間,在熔化時(shí)需要精確控制吸收熱量,確保不過(guò)度熔化。鑄錠爐加熱器功率一般較大,且鑄錠爐溫度場(chǎng)為大慣性系統(tǒng),溫度變化稍有波動(dòng)會(huì)導(dǎo)致鑄錠爐溫度場(chǎng)內(nèi)熱量變化較大,因此通過(guò)溫度變化來(lái)控制加熱器熱量產(chǎn)生精確變化難度很大,很容易導(dǎo)致熱量過(guò)大將底部籽晶全部熔化,這也是目前單晶硅錠的生產(chǎn)過(guò)程中仍然有籽晶完全熔完的情況發(fā)生的原因之一。若能夠較好地解決鑄造單晶籽晶熔化程度的精確控制問(wèn)題,將有利于鑄錠單晶的推廣和發(fā)展。

      發(fā)明內(nèi)容
      在多晶鑄錠爐制備單晶硅錠的生產(chǎn)過(guò)程中,在硅料熔化階段,為了防止籽晶完全熔化,本發(fā)明旨在提供一種鑄錠爐鑄造單晶硅料熔化過(guò)程中精確控制籽晶熔化程度的方法,通過(guò)控制氣體流量從而控制氣流傳遞熱量,使底部籽晶不完全熔化,能較好解決鑄造單晶過(guò)程中籽晶完全熔化的問(wèn)題。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案是
      一種鑄造單晶過(guò)程中通過(guò)氣流控制籽晶熔化程度的方法,在多晶鑄錠爐內(nèi)設(shè)有隔熱籠,該隔熱籠內(nèi)設(shè)有控溫?zé)崤迹龆嗑цT錠爐底部設(shè)有定向凝固塊底部熱偶,包括如下步驟1)、在多晶鑄錠 爐內(nèi)的坩堝底部鋪設(shè)籽晶層,籽晶層上放置多晶硅料,對(duì)爐體內(nèi)抽真空至爐內(nèi)壓力為0. Olmbar-O. 05mbar,然后加熱爐體,使多晶娃料受熱開(kāi)始熔化,當(dāng)控溫?zé)崤紲囟葹?450°C-1550°C時(shí),向爐體內(nèi)部通入保護(hù)性氣體,使?fàn)t內(nèi)壓力達(dá)到500mbar-7OOmbar,同時(shí)提升隔熱籠3_10cm,穩(wěn)定時(shí)間為30min-500min ;
      2)、當(dāng)定向凝固塊底部熱偶溫度達(dá)到1150°C-1350 °C時(shí),保持控溫?zé)崤嫉臏囟燃案魺峄\的高度不變,向爐體內(nèi)部通入保護(hù)性氣體,流量為20-35L/min,穩(wěn)定時(shí)間為30min_300min ;
      3)、保持控溫?zé)崤紲囟燃案魺峄\高度不變,當(dāng)定向凝固塊底部熱偶溫度達(dá)到1250 0C -1400 °C時(shí),控制爐體內(nèi)部通入保護(hù)性氣體的流量為15-25L/min,穩(wěn)定時(shí)間為30min_300min ;
      4)保持控溫?zé)崤紲囟燃案魺峄\高度不變,當(dāng)定向凝固塊底部熱偶溫度在12500C -1400°C范圍內(nèi),且溫度變化量小于1°C /IOmin時(shí),控制爐體內(nèi)部通入保護(hù)性氣體流量為 10-20L/min,穩(wěn)定時(shí)間為 30min_300min ;
      5)、當(dāng)控溫?zé)崤紲囟冉抵?410°C-1450°C時(shí),進(jìn)入籽晶長(zhǎng)晶階段。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例,所述向爐體內(nèi)部通入保護(hù)性氣體是通過(guò)設(shè)置在隔熱籠頂部的石墨導(dǎo)氣管通入的。進(jìn)一步地,本發(fā)明提供了一種鑄造單晶過(guò)程中通過(guò)氣流控制籽晶熔化程度的裝置,包括多晶鑄錠爐,所述多晶鑄錠爐內(nèi)設(shè)有隔熱籠,所述隔熱籠上設(shè)有向爐體內(nèi)通保護(hù)氣體的石墨導(dǎo)氣管,所述隔熱籠內(nèi)設(shè)有控溫?zé)崤?,所述多晶鑄錠爐底部設(shè)有定向凝固塊底部熱偶。由此,控溫?zé)崤加糜跈z測(cè)隔熱籠內(nèi)的溫度,定向凝固塊底部熱偶用于檢測(cè)籽晶的受熱溫度。所述石墨導(dǎo)氣管優(yōu)選設(shè)在多晶鑄錠爐的頂部。鑄錠爐鑄造單晶硅錠的工藝,一般是在爐體內(nèi)坩堝底部鋪設(shè)籽晶層,上面放置硅料,通過(guò)升溫加熱,使硅料逐漸熔化,但在熔化到底部籽晶層時(shí),不能使底部籽晶完全熔化,在后續(xù)的長(zhǎng)晶階段,使熔化的硅料隨著籽晶晶向生長(zhǎng),從而達(dá)到鑄造單晶硅錠的目的。本發(fā)明根據(jù)鑄錠爐鑄造單晶的工藝要求,在鑄錠爐內(nèi)硅料加熱熔化過(guò)程中,熔化至底部籽晶高度時(shí),保持溫度及隔熱籠高度不變,使?fàn)t內(nèi)加熱器產(chǎn)生的熱量趨于穩(wěn)定,減小加熱器產(chǎn)生熱量的波動(dòng)。同時(shí)通過(guò)控制爐體內(nèi)保護(hù)性氣體的流動(dòng)微調(diào)熱量的傳遞,使?fàn)t體底部籽晶熔化程度主要受氣流傳遞熱量控制而不是加熱器產(chǎn)生的熱量控制,從而使籽晶熔化過(guò)程由于受熱量較小而減緩,可精確控制籽晶熔化程度。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的有益效果是通過(guò)本方法的運(yùn)用,可以通過(guò)控制氣流傳遞熱量簡(jiǎn)單、有效的調(diào)整鑄造單晶生產(chǎn)過(guò)程中爐體底部籽晶的熔化程度,使籽晶熔化速度減緩并可精確控制,進(jìn)一步提聞鑄造單晶娃淀生廣的成功率。


      圖I是本發(fā)明一種實(shí)施例的原理示意圖,
      在圖中
      I-石墨導(dǎo)氣管; 2-隔熱籠;3-籽晶層;4-控溫?zé)崤迹?-定向凝固塊底部熱偶。
      具體實(shí)施例方式為使本發(fā)明更易于理解,目的、特征和優(yōu)點(diǎn)更加突出,下面結(jié)合實(shí)例及附圖I進(jìn)行進(jìn)一步說(shuō)明。一種鑄造單晶過(guò)程中通過(guò)氣流控制籽晶熔化程度的裝置,如圖I所示,包括多晶鑄錠爐,所述多晶鑄錠爐內(nèi)設(shè)有隔熱籠2,所述隔熱籠頂部設(shè)有向爐內(nèi)通保護(hù)氣體的石墨導(dǎo)氣管1,所述隔熱籠2內(nèi)設(shè)有控溫?zé)崤?,所述多晶鑄錠爐底部設(shè)有定向凝固塊底部熱偶5
      在爐體內(nèi)坩堝底部鋪設(shè)籽晶層3,上面放置多晶硅料,爐體通過(guò)抽真空方式保證爐內(nèi)壓力為0. 01-0. 05mbar,通過(guò)升溫加熱,使硅料逐漸受熱開(kāi)始熔化,當(dāng)控溫?zé)崤?溫度為14500C _1550°C時(shí),通入保護(hù)性氣體,逐步使?fàn)t內(nèi)壓力達(dá)到500-700mbar,同時(shí)將隔熱籠2提升5cm,穩(wěn)定時(shí)間為50min ;
      第一步完成后,當(dāng)定向凝固塊底部熱偶5溫度達(dá)到1150°C _1350°C時(shí),穩(wěn)定控溫?zé)崤?溫度及隔熱籠2高度不變,通過(guò)隔熱籠2頂部石墨導(dǎo)氣管I向爐體內(nèi)部通入保護(hù)性氣體,流量為30L/min,穩(wěn)定時(shí)間為60min ;
      第二步完成后,保持控溫?zé)崤?溫度及隔熱籠2高度不變,當(dāng)定向凝固塊底部熱偶5溫度達(dá)到1250°C -1400°C時(shí),控制爐體內(nèi)部通入保護(hù)性氣體流量為20L/min,穩(wěn)定時(shí)間為IOOmin ;
      第三步完成后,保持控溫?zé)崤?溫度及隔熱籠2高度不變,當(dāng)定向凝固塊底部熱偶5溫度在1250°C -1400°C范圍內(nèi),同時(shí)變化量到<1°C /IOmin時(shí),控制爐體內(nèi)部通入保護(hù)性氣體流量為15L/min,穩(wěn)定時(shí)間為70min ;
      然后控溫?zé)崤?溫度降至1410°C _1450°C,進(jìn)入籽晶長(zhǎng)晶階段。利用上述方法,在鑄造單晶硅錠過(guò)程中的籽晶熔化階段,通過(guò)控制保護(hù)氣體流量變化,利用氣流所帶熱量而不是加熱器熱量實(shí)現(xiàn)籽晶緩慢熔化,從而精確控制籽晶熔化程度,確保底部籽晶不完全熔化,正常生產(chǎn)出單晶硅錠。以上發(fā)明書中描述的只是本發(fā)明的具體實(shí)施方法,舉例說(shuō)明不對(duì)本發(fā)明的實(shí)質(zhì)性內(nèi)容構(gòu)成限制,所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在閱讀了說(shuō)明書以后可以對(duì)以前所敘述的具體實(shí)施方式
      做修改或者變形,而不背離發(fā)明的實(shí)質(zhì)和范圍。
      權(quán)利要求
      1.一種鑄造單晶過(guò)程中通過(guò)氣流控制籽晶熔化程度的方法,在多晶鑄錠爐內(nèi)設(shè)有隔熱籠(2),該隔熱籠(2)內(nèi)設(shè)有控溫?zé)崤?4),所述多晶鑄錠爐底部設(shè)有定向凝固塊底部熱偶(5),其特征是,包括如下步驟 1)、在多晶鑄錠爐內(nèi)的坩堝底部鋪設(shè)籽晶層(3),籽晶層(3)上放置多晶硅料,對(duì)爐體內(nèi)抽真空至爐內(nèi)壓力為0. Olmbar-O. 05mbar,然后加熱爐體,使多晶硅料受熱開(kāi)始熔化,當(dāng)控溫?zé)崤?4)溫度為1450°C -1550°C時(shí),向爐體內(nèi)部通入保護(hù)性氣體,使?fàn)t內(nèi)壓力達(dá)到500mbar-7OOmbar,同時(shí)提升隔熱籠(2) 3_10cm,穩(wěn)定時(shí)間為 30min-500min ; 2)、當(dāng)定向凝固塊底部熱偶(5)溫度達(dá)到1150°C-1350°C時(shí),保持控溫?zé)崤?4)的溫度及隔熱籠(2)的高度不變,向爐體內(nèi)部通入保護(hù)性氣體,流量為20-35L/min,穩(wěn)定時(shí)間為30min-300min ; 3)、保持控溫?zé)崤?4)溫度及隔熱籠(2)高度不變,當(dāng)定向凝固塊底部熱偶(5)溫度達(dá)到1250°C -1400°C時(shí),控制爐體內(nèi)部通入保護(hù)性氣體的流量為15-25L/min,穩(wěn)定時(shí)間為30min_300min ; 4)保持控溫?zé)崤?4)溫度及隔熱籠(2)高度不變,當(dāng)定向凝固塊底部熱偶(5)溫度在12500C -1400°C范圍內(nèi),且溫度變化量小于1°C /IOmin時(shí),控制爐體內(nèi)部通入保護(hù)性氣體流量為 10-20L/min,穩(wěn)定時(shí)間為 30min_300min ; 5)、當(dāng)控溫?zé)崤?4)溫度降至1410°C-1450°C時(shí),進(jìn)入籽晶長(zhǎng)晶階段。
      2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的鑄造單晶過(guò)程中通過(guò)氣流控制籽晶熔化程度的方法,其特征是,所述向爐體內(nèi)部通入保護(hù)性氣體是通過(guò)設(shè)置在隔熱籠(2)頂部的石墨導(dǎo)氣管(I)通入的。
      3.—種鑄造單晶過(guò)程中通過(guò)氣流控制籽晶熔化程度的裝置,包括多晶鑄錠爐,所述多晶鑄錠爐內(nèi)設(shè)有隔熱籠(2),其特征是,所述隔熱籠(2)上設(shè)有向爐體內(nèi)通保護(hù)氣體的石墨導(dǎo)氣管(1),所述隔熱籠(2)內(nèi)設(shè)有控溫?zé)崤?4),所述多晶鑄錠爐底部設(shè)有定向凝固塊底部熱偶(5)。
      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的鑄造單晶過(guò)程中通過(guò)氣流控制籽晶熔化程度的裝置,其特征是,所述石墨導(dǎo)氣管(I)設(shè)在隔熱籠的頂部。
      全文摘要
      本發(fā)明公開(kāi)了一種鑄造單晶過(guò)程中通過(guò)氣流控制籽晶熔化程度的方法及裝置。為了防止籽晶完全熔化,利用所述方法,在鑄造單晶硅錠過(guò)程中的籽晶熔化階段,通過(guò)控制保護(hù)氣體流量變化,利用氣流所帶熱量而不是加熱器熱量實(shí)現(xiàn)籽晶緩慢熔化,從而精確控制籽晶熔化程度,確保底部籽晶不完全熔化,正常生產(chǎn)出單晶硅錠。
      文檔編號(hào)C30B11/00GK102703968SQ20121018191
      公開(kāi)日2012年10月3日 申請(qǐng)日期2012年6月5日 優(yōu)先權(quán)日2012年6月5日
      發(fā)明者李佳, 楊曉生, 段金剛, 瞿海斌, 賈京英, 陳國(guó)紅 申請(qǐng)人:湖南紅太陽(yáng)光電科技有限公司
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