微波加熱裝置制造方法
【專利摘要】在微波加熱裝置中，構(gòu)成為以加熱室（101）內(nèi)的加熱空間的中心點（O）不包含在波導部（103）中的與傳送方向（X）平行的中心軸（P）的垂直線上的方式配置波導部，從各微波放射部（104）放射的微波的合成波具有向加熱空間的中心側(cè)放射較多微波的指向性，從而能夠?qū)訜崾覂?nèi)的被加熱物均勻地進行微波加熱。
【專利說明】微波加熱裝置
【技術(shù)領域】
[0001]本發(fā)明涉及微波爐等微波加熱裝置，特別涉及在用于向加熱室內(nèi)部放射微波的構(gòu)造上具有特征的微波加熱裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]作為通過微波對被加熱物進行加熱處理的微波加熱裝置的代表性裝置，存在微波爐。在微波爐中，微波產(chǎn)生單元中產(chǎn)生的微波被放射到金屬制的加熱室的內(nèi)部，通過所放射的微波對加熱室內(nèi)部的被加熱物進行加熱處理。
[0003]作為現(xiàn)有的微波爐中的微波產(chǎn)生單元，使用了磁控管。由磁控管生成的微波經(jīng)由波導管從微波放射部放射到加熱室內(nèi)部。當加熱室內(nèi)部的微波的電磁場分布(微波分布)不均勻時，存在不能均勻地對被加熱物進行微波加熱的問題。
[0004]作為均勻地對加熱室內(nèi)部的被加熱物進行加熱的手段，有使載置被加熱物的工作臺旋轉(zhuǎn)而使被加熱物在加熱室內(nèi)部旋轉(zhuǎn)的構(gòu)造、固定被加熱物而使放射微波的天線旋轉(zhuǎn)的構(gòu)造、或者使用相位器改變來自微波產(chǎn)生單元的微波的相位的構(gòu)造。具備這樣構(gòu)造的微波加熱裝置被普遍利用。
[0005]例如，在現(xiàn)有的微波加熱裝置中，有的微波加熱裝置具有如下構(gòu)造:在波導管內(nèi)部配置有可旋轉(zhuǎn)的天線、天線軸等，一邊通過電機使該天線旋轉(zhuǎn)一邊對磁控管進行驅(qū)動，由此減少加熱室內(nèi)的微波分布的不均勻。
[0006]此外,在日本特開昭62-64093號公報(專利文獻I)中記載有另一結(jié)構(gòu)的微波加熱裝置。在該專利文獻I中提出了如下的微波加熱裝置:該微波加熱裝置在磁控管的上部設置有可旋轉(zhuǎn)的天線，通過使來自送風風扇的風吹到該天線的葉片，利用該送風風扇的風力使天線旋轉(zhuǎn)，使加熱室內(nèi)的微波分布變化。
[0007]作為具有相位器的例子，在美國專利第4301347號說明書(專利文獻2)中記載了如下的微波加熱裝置:該微波加熱裝置減少了進行微波加熱的被加熱物的加熱不均，并且實現(xiàn)了成本削減和供電部的空間節(jié)省。在該專利文獻2中，提出了具有將圓偏振波放射到加熱室內(nèi)部的單一微波放射部的微波加熱裝置。
[0008]在先技術(shù)文獻
[0009]專利文獻
[0010]【專利文獻I】日本特開昭62-64093號公報
[0011]【專利文獻2】美國專利第4301347號說明書

【發(fā)明內(nèi)容】

[0012]發(fā)明所要解決的課題
[0013]在具有上述現(xiàn)有結(jié)構(gòu)的微波加熱裝置中，要求具有盡可能簡單的構(gòu)造，并且要求高效、均勻地對被加熱物進行加熱。但是，在至今為止提出的現(xiàn)有結(jié)構(gòu)中，不能滿足這些要求，在構(gòu)造上、高效化以及均勻化等方面，存在各種問題。[0014]此外，在微波加熱裝置特別是微波爐中，高輸出化的技術(shù)開發(fā)不斷發(fā)展，在國內(nèi)，額定高頻輸出為1000W的產(chǎn)品已經(jīng)商品化。微波爐不是通過熱傳導對食品進行加熱，微波爐作為商品的顯著特征在于能夠使用介質(zhì)加熱直接對食品進行加熱的便利性。但是，在微波爐中，尚未解決不均勻加熱的狀態(tài)下的高輸出化會導致不均勻加熱的問題更加明顯。
[0015]作為現(xiàn)有的微波加熱裝置存在的構(gòu)造上的問題，可以列舉下述3點。
[0016]第一點是，為了減少不均勻加熱而需要使用讓工作臺或天線旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動機構(gòu)，因此必須確保旋轉(zhuǎn)空間、以及用于使工作臺或天線旋轉(zhuǎn)的電機等驅(qū)動源的設置空間，阻礙了微波爐的小型化。
[0017]第二點是，為了使工作臺或天線穩(wěn)定地旋轉(zhuǎn)，需要將該天線設置在加熱室的上部或下部，在構(gòu)造上特定部件的配置受到限制。
[0018]第三點是，由于具有水蒸氣加熱或熱風加熱等各種加熱功能的微波爐的出現(xiàn)，在微波爐的殼體內(nèi)部需要較多的結(jié)構(gòu)部件、并且從殼體內(nèi)部的控制部件等的發(fā)熱量較多，因此為了實現(xiàn)充分的冷卻性能需要確保冷卻風道，從而限制波導管和微波放射部的設置位置，加熱室內(nèi)的微波分布變得不均勻。
[0019]此外，在微波加熱裝置中通向加熱室的、被照射微波的空間(應用器(7:/ U > —夕))內(nèi)，設置有工作臺或天線的旋轉(zhuǎn)機構(gòu)、以及相位器等各種機構(gòu)，這樣的機構(gòu)設置存在可能降低裝置的可靠性的問題。因此，要求實現(xiàn)不需要這些機構(gòu)設置的微波加熱裝置。
[0020]而且，在減少了進行微波加熱的被加熱物的不均勻加熱(加熱不均)并且實現(xiàn)了成本削減和供電部的空間節(jié)省的專利文獻2所記載的微波加熱裝置中，也存在如下問題。對于專利文獻2中公開的、具有將圓偏振波放射到加熱室內(nèi)部的單一微波放射部的微波加熱裝置，雖然擁有不具備旋轉(zhuǎn)機構(gòu)的優(yōu)點，但是存在不能通過微波加熱實現(xiàn)充分的均勻加熱的問題。
[0021]本發(fā)明是為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)中的問題而完成的，其目的在于，提供一種能夠在不使用旋轉(zhuǎn)機構(gòu)的情況下對被加熱物進行均勻的微波加熱的微波加熱裝置。
[0022]用于解決課題的手段
[0023]本發(fā)明的一個方式的微波加熱裝置構(gòu)成為具有:收納被加熱物的加熱室；產(chǎn)生微波的微波產(chǎn)生部；傳送微波的波導部；以及多個微波放射部，它們向所述加熱室內(nèi)放射圓偏振波，所述波導部配置成，在所述波導部中的與傳送方向平行的中心軸的垂直線上，不包含所述加熱室內(nèi)的加熱空間的中心點，從各所述微波放射部放射的微波的合成波具有向所述加熱空間的中心側(cè)放射較多微波的指向性。
[0024]在這樣構(gòu)成的本發(fā)明的一個方式的微波加熱裝置中，能夠在不使用旋轉(zhuǎn)機構(gòu)的情況下對被加熱物進行均勻的微波加熱。
[0025]發(fā)明效果
[0026]根據(jù)本發(fā)明，可以提供一種能夠在不使用旋轉(zhuǎn)機構(gòu)的情況下均勻地對配置在加熱室內(nèi)的被加熱物進行微波加熱的微波加熱裝置。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0027]圖1是示出作為本發(fā)明的實施方式I的微波加熱裝置的微波爐的橫剖視圖。
[0028]圖2是示出本發(fā)明的實施方式I的微波爐中的微波放射部的結(jié)構(gòu)的俯視圖。[0029]圖3是說明本發(fā)明的實施方式2的微波加熱裝置中的微波放射部與駐波之間的關系的圖。
[0030]圖4是說明本發(fā)明的實施方式2的微波加熱裝置中的微波放射部的駐波、電場分布、磁場分布以及電流分布等之間的關系的圖。
[0031]圖5是說明本發(fā)明的實施方式2的微波加熱裝置中在波導部內(nèi)產(chǎn)生的駐波的相位與指向性之間的關系的圖。
[0032]圖6是示出本發(fā)明的實施方式2的微波加熱裝置中的微波放射部的具體的開口形狀的說明圖。
[0033]圖7是示出本發(fā)明的實施方式2的微波加熱裝置中的設置于波導部的微波放射部相對于加熱室的配置結(jié)構(gòu)例的俯視圖。
[0034]圖8是示出本發(fā)明的實施方式2的微波加熱裝置中的產(chǎn)生圓偏振波的微波放射部的其他結(jié)構(gòu)的俯視圖。
[0035]圖9是示出本發(fā)明的實施方式2的微波加熱裝置中的微波放射部的結(jié)構(gòu)的變形例的俯視圖。
【具體實施方式】
[0036]本發(fā)明的第I方式的微波加熱裝置具有:收納被加熱物的加熱室；產(chǎn)生微波的微波產(chǎn)生部；傳送微波的波導部；以及多個微波放射部，它們向所述加熱室內(nèi)放射圓偏振波，所述波導部配置成，在所述波導部中的與傳送方向平行的中心軸的垂直線上，不包含所述加熱室內(nèi)的加熱空間的中心點，從各所述微波放射部放射的微波的合成波具有向所述加熱空間的中心側(cè)放射較多微波的指向性。
[0037]如上述那樣構(gòu)成的本發(fā)明的第I方式的微波加熱裝置能夠調(diào)整微波放射部的數(shù)量、形狀和配置等，改變加熱室內(nèi)的微波分布的控制因素增多，從而成為容易實現(xiàn)加熱空間中的目標微波分布的結(jié)構(gòu)。因此，本發(fā)明的第I方式的微波加熱裝置能夠在不使用旋轉(zhuǎn)機構(gòu)的情況下對被加熱物均勻地進行微波加熱。
[0038]此外，本發(fā)明的第I方式的微波加熱裝置由于具有放射圓偏振波的微波放射部，因此從微波放射部放射出具有擴展度的微波，從而能夠以更大的范圍對被加熱物均勻地放射微波。特別是可期待圓偏振波的對周向的均勻加熱。
[0039]本發(fā)明的第2方式的微波加熱裝置是在所述第I方式中，所述多個微波放射部配置成關于所述波導部中的與傳送方向平行的中心軸不是軸對稱的。這樣構(gòu)成的本發(fā)明的第2方式的微波加熱裝置能夠改變加熱室內(nèi)的微波分布，能夠?qū)⒓訜峥臻g中的微波分布設為期望的狀態(tài)。
[0040]本發(fā)明的第3方式的微波加熱裝置是在所述第I或第2方式中，所述多個微波放射部中的至少I個微波放射部構(gòu)成為相比其他微波放射部朝特定的方向放射較多的微波。這樣構(gòu)成的本發(fā)明的第3方式的微波加熱裝置成為微波放射部具有指向性的結(jié)構(gòu)，能夠改變加熱室內(nèi)的微波分布，能夠在不使用旋轉(zhuǎn)機構(gòu)的情況下對被加熱物均勻地進行微波加熱。
[0041]本發(fā)明的第4方式的微波加熱裝置是在所述第I?第3方式中的任意一個方式中，在所述波導部中的關于所述加熱室的相對面中，以所述波導部中的與傳送方向平行的中心軸為邊界而分別設置于該邊界兩側(cè)的區(qū)域中的微波放射部構(gòu)成為，從所述中心軸到所述微波放射部的中心的距離不同。這樣構(gòu)成的本發(fā)明的第4方式的微波加熱裝置通過多個微波放射部而成為具有指向性的結(jié)構(gòu)，能夠改變加熱室內(nèi)的微波分布。
[0042]本發(fā)明的第5方式的微波加熱裝置是在所述第I?第4方式中的任意一個方式中，在所述波導部中的關于所述加熱室的相對面中，對于以所述波導部中的與傳送方向平行的中心軸為邊界而設置于該邊界兩側(cè)的多個微波放射部，將離所述加熱空間的中心點近的一側(cè)的所述微波放射部的數(shù)量設定得比離所述加熱空間的中心點遠的一側(cè)的微波放射部的數(shù)量多。這樣構(gòu)成的本發(fā)明的第5方式的微波加熱裝置通過多個微波放射部而成為具有指向性的結(jié)構(gòu)，能夠改變加熱室內(nèi)的微波分布。
[0043]本發(fā)明的第6方式的微波加熱裝置是在所述第I?第5方式中的任意一個方式中，在所述波導部中的關于所述加熱室的相對面中，以所述波導部中的與傳送方向平行的中心軸為邊界而設置于該邊界的兩側(cè)的多個微波放射部中的離所述加熱空間的中心點近的一側(cè)的所述微波放射部形成于所述波導部內(nèi)產(chǎn)生的駐波的波腹的位置處。在這樣構(gòu)成的本發(fā)明的第6方式的微波加熱裝置中，能夠從接近加熱空間的中心點一側(cè)的微波放射部朝波導部的寬度方向放射微波，成為能夠改變加熱室內(nèi)的微波分布的結(jié)構(gòu)。
[0044]本發(fā)明的第7方式的微波加熱裝置是在所述第I?第6方式中的任意一個方式中，構(gòu)成為至少I個微波放射部由兩條以上狹縫的組合構(gòu)成，該微波放射部中的至少I條狹縫的長度方向相對于所述波導部中的傳送方向傾斜，從所有微波放射部放射的微波的合成波具有朝特定的方向放射較多微波的指向性。在這樣構(gòu)成的本發(fā)明的第7方式的微波加熱裝置中，從微波放射部可靠地放射出具有擴展度的圓偏振波的微波，從而能夠以更大的范圍對被加熱物均勻地放射微波。
[0045]此外，本發(fā)明的第7方式的微波加熱裝置是由兩條以上狹縫形成微波放射部而可靠地放射圓偏振波的結(jié)構(gòu)，因此不需要用于降低被加熱物的加熱不均的使工作臺或天線旋轉(zhuǎn)的機構(gòu)，能夠?qū)崿F(xiàn)裝置的可靠性的提高、和供電部的小型化。
[0046]本發(fā)明的第8方式的微波加熱裝置是在所述第7方式中，構(gòu)成為由狹縫構(gòu)成的所述微波放射部的狹縫在長度方向上的長度根據(jù)所述波導部中的與傳送方向以及電場方向垂直的方向上的位置而不同。這樣構(gòu)成的本發(fā)明的第8方式的微波加熱裝置通過多個微波放射部而成為具有指向性的結(jié)構(gòu)，能夠改變加熱室內(nèi)的微波分布，能夠?qū)⒓訜峥臻g中的微波分布設為期望的狀態(tài)。
[0047]本發(fā)明的第9方式的微波加熱裝置是在所述第7方式中，構(gòu)成為由狹縫構(gòu)成的所述微波放射部的狹縫在寬度方向上的長度根據(jù)所述波導部中的與傳送方向以及電場方向垂直的方向上的位置而不同。這樣構(gòu)成的本發(fā)明的第9方式的微波加熱裝置通過多個微波放射部而成為具有指向性的結(jié)構(gòu)，能夠改變加熱室內(nèi)的微波分布，能夠?qū)⒓訜峥臻g中的微波分布設為期望的狀態(tài)。
[0048]本發(fā)明的第10方式的微波加熱裝置是在所述第7方式中，由狹縫構(gòu)成的所述微波放射部的狹縫的交叉部分實施了 R倒角加工或C倒角加工。這樣構(gòu)成的本發(fā)明的第10方式的微波加熱裝置能夠緩和電場的集中并抑制能量損耗，能夠提高裝置的可靠性。
[0049]本發(fā)明的第11方式的微波加熱裝置是在所述第7方式中，由狹縫構(gòu)成的所述微波放射部的狹縫末端部分實施了 R倒角加工或C倒角加工。這樣構(gòu)成的本發(fā)明的第10方式的微波加熱裝置能夠緩和電場的集中并抑制能量損耗，能夠提高裝置的可靠性。
[0050]以下，參照附圖來說明本發(fā)明的微波加熱裝置的優(yōu)選實施方式。另外，雖然在以下實施方式的微波加熱裝置中對微波爐進行說明，但微波爐只是例示，本發(fā)明的微波加熱裝置不限于微波爐，還包含利用了介質(zhì)加熱的加熱裝置、含水垃圾處理機或半導體制造裝置等微波加熱裝置。此外，本發(fā)明包含適當組合在以下敘述的各實施方式中說明的任意結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)，在組合后的結(jié)構(gòu)中起到各自的效果。并且，本發(fā)明不限于在以下實施方式中說明的具體的微波爐的結(jié)構(gòu)，基于同樣的技術(shù)思想的結(jié)構(gòu)也包含在本發(fā)明的范圍內(nèi)。
[0051](實施方式I)
[0052]圖1是示出作為本發(fā)明的實施方式I的微波加熱裝置的微波爐的橫剖視圖。圖2是本發(fā)明的實施方式I的微波爐中的微波放射部的俯視圖，示出了加熱室101、波導部103以及微波放射部104之間的位置關系。
[0053]在圖1中，作為實施方式I的微波加熱裝置的微波爐具有:收納被加熱物107的加熱室101 ;生成微波的微波產(chǎn)生部102 ;用于將從微波產(chǎn)生部102提供的微波傳送到加熱室101的波導部103 ;以及微波放射部104，其設置于波導部103中的與加熱室101相對的管壁面，并向加熱室101內(nèi)放射圓偏振波。
[0054]另外，能夠通過使用作為微波產(chǎn)生部102的磁控管、作為波導部103的矩形波導管以及作為微波放射部104的設置于波導部103的開口，容易地實現(xiàn)實施方式I的微波爐中的結(jié)構(gòu)。
[0055]如圖2所示，波導部103具有向加熱室101內(nèi)放射圓偏振波的多個微波放射部104。波導部103與加熱室101之間的位置關系構(gòu)成為:在從上方觀察加熱室101的狀態(tài)下，波導部103中的與傳送方向(圖2中的朝右方向)平行的中心軸P不包含設置了波導部103的加熱室101的內(nèi)壁面(底面壁)的中心點O。此處，設為加熱室內(nèi)部的加熱空間的中心點O處于波導部103相對的底面壁(加熱室101的壁面)的中心點O的鉛垂線上(垂直線上)。另外，在實施方式I的說明中，將如上述那樣成為了如下位置關系的結(jié)構(gòu)稱作偏心，即波導部103中的與傳送方向平行的中心軸P不包含設置了波導部103的加熱室101的內(nèi)壁面的中心點O。
[0056]以下對如上那樣構(gòu)成的實施方式I的微波爐中的動作、作用進行說明。
[0057]首先說明微波加熱裝置的概略動作。在由使用者將被加熱物107配置到加熱室101內(nèi)、并進行了加熱開始指示的操作時，該微波加熱裝置從作為微波產(chǎn)生部102的磁控管向波導部103內(nèi)提供微波，并經(jīng)由連接加熱室101和波導部103的微波放射部104向加熱室101內(nèi)放射微波。通過這樣向加熱室101內(nèi)放射微波，該微波加熱裝置進行對被加熱物107的加熱處理。
[0058]接著，參照圖1對加熱室101的內(nèi)壁面的形狀引起的、加熱室101內(nèi)的微波分布的不均勻性進行說明。
[0059]加熱室101內(nèi)的形狀(加熱空間形狀)大多情況下是不對稱的，在構(gòu)成加熱室101的壁面上安裝有介電常數(shù)不同的多個部件。作為具體例子，主要可列舉以下的3點。
[0060]第一點是，安裝有用于取出被加熱物107的門108和門玻璃109。第二點是，在上表面或底面安裝有加熱器110，以便對被加熱物107進行輻射加熱。第三點是，在背面里側(cè)安裝有加熱器110和對流風扇111，以便對被加熱物107進行對流加熱，因此背面?zhèn)缺诿娉蔀閺碗s的形狀。
[0061]如上所述，由于加熱室101內(nèi)的加熱空間形狀是不對稱的，和/或在加熱室101的壁面安裝有介電常數(shù)不同的部件，因此微波在加熱室101的內(nèi)壁面進行反射，由于其反射波，對被加熱物107的加熱變得不均勻。另外，在實施方式I的說明中，將從微波放射部104放射并直接照射被加熱物107的微波稱作直接波，將在加熱室101內(nèi)的壁面等進行反射后照射被加熱物107的微波設為反射波。
[0062]接著，對波導部103與加熱室101的位置關系引起的、加熱室101內(nèi)的微波分布的不均勻性進行說明。
[0063]近年來，出現(xiàn)了不僅具有微波加熱功能、還具有其他加熱方式(水蒸氣加熱、輻射加熱、熱風加熱等)的微波加熱裝置。因此，為了確保其他加熱功能的性能，波導部大多為相對于加熱室偏心的結(jié)構(gòu)。
[0064]因此，即使以波導部中的管軸方向的中心軸(參照圖2的中心軸P)為對稱軸對稱地配置微波放射部，也難以將加熱室內(nèi)設為均勻的微波分布。
[0065]以下，參照圖1所示的結(jié)構(gòu)說明波導部相對于加熱室偏心的結(jié)構(gòu)的具體例子。作為偏心的結(jié)構(gòu)的例子，主要可列舉以下兩點。第一點是具有水蒸氣加熱功能的微波加熱裝置的情況，為了實現(xiàn)水蒸氣加熱功能，需要在加熱室101的內(nèi)外設置水箱112、泵113、加熱器110、和向加熱室101內(nèi)噴出水蒸氣的噴出口 114等，波導部103成為相對于加熱室101偏心的結(jié)構(gòu)。
[0066]第二點是具有輻射加熱功能的微波加熱裝置的情況，需要在加熱室101的上表面?zhèn)然虻酌鎮(zhèn)仍O置加熱器110，因此波導部103成為相對于加熱室101偏心的結(jié)構(gòu)。在圖1所示的微波加熱裝置中，示出了在加熱室101的上表面?zhèn)仍O置有加熱器110的例子。
[0067]此外，在微波加熱裝置中，在其殼體內(nèi)設置有逆變器、磁控管、控制基板等發(fā)熱量較多的部件等。這種逆變器、磁控管、控制基板等發(fā)熱部件必須充分冷卻，針對這些發(fā)熱部件，需要在殼體內(nèi)確保冷卻風道(冷卻空間)115 (參照圖1)。如果對這些發(fā)熱部件的冷卻不充分，則產(chǎn)生部件不能正常工作或發(fā)生燒損而大幅損壞裝置的可靠性的問題。因此，為了確保足夠的冷卻性能，大多情況下不得不采取波導部處于相對于加熱室偏心的位置處的結(jié)構(gòu)。
[0068]考慮到以上方面，在從微波放射部放射的微波中，如果不構(gòu)成為與加熱室內(nèi)的加熱空間對應地具有期望的指向性，則難以對加熱室內(nèi)的被加熱物均勻地進行微波加熱。
[0069]接著，說明具有多個微波放射部的微波加熱裝置的優(yōu)點。
[0070]在具有I個微波放射部的微波加熱裝置中，用于調(diào)整微波的指向性的因子數(shù)較少，因此難以得到相對于作為目標的加熱室內(nèi)的加熱區(qū)域的微波分布的均勻性。
[0071]此外，在這樣的微波加熱裝置中，由于從I點向加熱室內(nèi)放射微波，因此無法期待微波具有足夠的擴展度，直接波和反射波的加熱區(qū)域集中于特定的區(qū)域，從而大多對被加熱物進行不均勻的微波加熱。
[0072]尤其是，在從加熱室的底面放射微波的情況下，大多將被加熱物放置于距離微波放射部較近的位置處，微波沒有充分擴展而集中到被加熱物附近，被加熱物的加熱不均的程度加深。
[0073]因此，能夠通過設為在波導部中設置多個微波放射部而向加熱室放射微波的結(jié)構(gòu)，不僅增加微波放射部的形狀，還增加數(shù)量、配置等用于調(diào)整指向性的因子數(shù)。如此，通過設置多個微波放射部，與I個微波放射部的情況相比，能夠大幅增加調(diào)整因子數(shù)。因此，能夠使加熱空間內(nèi)的微波分布變得均勻，容易得到作為目標的對被加熱物的微波加熱的均勻化。
[0074]接著，說明圓偏振波的特征和使用了圓偏振波的微波加熱的優(yōu)點。
[0075]圓偏振波是在移動通信和衛(wèi)星通信的領域中廣泛應用的技術(shù)。作為身邊的使用例，可舉出ETC (Electronic Toll Collection System) “不停車自動收費系統(tǒng)”等。圓偏振波是電場的偏振面根據(jù)時間變化相對于電波的行進方向旋轉(zhuǎn)的微波，且具有如下特征:當形成圓偏振波時，電場的方向根據(jù)時間持續(xù)變化，因此放射到加熱室內(nèi)的微波的放射角度也持續(xù)變化，而電場強度的大小不隨時間變化。
[0076]利用上述圓偏振波的特征，放射圓偏振波的微波放射部與在以往的微波加熱裝置中使用的利用線偏振波的微波加熱相比，在大范圍內(nèi)分散放射微波，從而能夠?qū)Ρ患訜嵛锔鶆虻剡M行加熱。特別是圓偏振波對周向進行均勻加熱的傾向較強。另外，圓偏振波根據(jù)旋轉(zhuǎn)方向被分類為右旋偏振波(CW:clockwise,順時針)和左旋偏振波(CCW:counterclockwise,逆時針)這兩種，但兩者的加熱性能沒有差異。
[0077]因此，認為能夠利用圓偏振波放射來緩和在使用了線偏振波的以往的微波加熱裝置的微波加熱中成問題的、由于直接波和其反射波的干涉而產(chǎn)生的加熱室內(nèi)的駐波，能夠?qū)崿F(xiàn)更均勻的微波加熱。
[0078]在波導管內(nèi)傳送的微波是電場和磁場的振動方向為固定方向的線偏振波。如前所述，在將線偏振波放射到加熱室內(nèi)的以往的微波加熱裝置中，為了降低微波分布的不均勻性，不得不設置使載置被加熱物的工作臺旋轉(zhuǎn)的構(gòu)造、使從波導部向加熱室放射微波的天線旋轉(zhuǎn)的構(gòu)造等、或者在波導部內(nèi)設置相位器來變更微波的相位的構(gòu)造。
[0079]但是，即使配置使工作臺或天線旋轉(zhuǎn)的機構(gòu)、或者在波導部內(nèi)設置相位器的機構(gòu)，也難以在加熱室內(nèi)對被加熱物實現(xiàn)足夠均勻的微波加熱。并且，如上述那樣在微波加熱裝置中設置旋轉(zhuǎn)機構(gòu)、或配置相位器那樣的結(jié)構(gòu)會導致構(gòu)造的復雜化，具有產(chǎn)生構(gòu)造上的限制，而且裝置的可靠性降低的問題。
[0080]如上所述，在加熱室內(nèi)的加熱空間形狀是非對稱性的且波導部相對于加熱室偏心的結(jié)構(gòu)中，為了實現(xiàn)對被加熱物的均勻加熱，需要調(diào)整通過多個微波放射部放射的微波的合成波的指向性。并且，需要通過設置放射圓偏振波的微波放射部，提高加熱空間內(nèi)的微波分布的均勻性。
[0081]因此，本發(fā)明人提出了解決上述課題的本申請發(fā)明的實施方式I的微波加熱裝置的結(jié)構(gòu)作為一個方式。
[0082]使用具體例子，對通過在本發(fā)明的實施方式I的微波加熱裝置中所構(gòu)成的多個微波放射部104放射的微波的合成波的指向性的調(diào)整方法進行說明。
[0083]如圖2所示，波導部103中設置有多個微波放射部104，波導部103構(gòu)成為處于相對于加熱室101偏心的位置處。在圖2所示的實施方式I中，波導部103配置成在從上方觀察加熱室101的狀態(tài)下，相比加熱室101的加熱空間的中心點O處于背面?zhèn)?圖2中的上側(cè))。
[0084]假設在以與波導部的傳送方向平行的中心軸(P)為對稱軸對稱地配置了多個微波放射部的情況下，隨著離微波產(chǎn)生部的距離越遠，基本上微波放射量減少。在這樣的結(jié)構(gòu)中，難以對配置于加熱室內(nèi)中央的被加熱物進行均勻加熱。
[0085]而如圖2所示，將多個微波放射部104配置成不關于波導部103的與傳送方向X平行的中心軸P軸對稱(非軸對稱配置)。在圖2所示的結(jié)構(gòu)中，在相比波導部103的中心軸P位于背面?zhèn)鹊膮^(qū)域中設置了兩個波導部103，在相比波導部103的中心軸P位于前面?zhèn)鹊膮^(qū)域中設置了 3個波導部103。在這樣構(gòu)成的情況下，以中心軸P為邊界，微波放射部104的數(shù)量較多的區(qū)域(前面?zhèn)葏^(qū)域)中的微波放射部104的開口面積的合計比相反側(cè)的區(qū)域(背面?zhèn)葏^(qū)域)的開口面積的合計大，兩側(cè)區(qū)域的微波放射總量產(chǎn)生失衡。
[0086]其結(jié)果，在圖2所示的實施方式I的結(jié)構(gòu)中，分別從各個前面?zhèn)鹊奈⒉ǚ派洳?04向加熱室101的前面?zhèn)确派涞奈⒉ū确謩e從各個背面?zhèn)鹊奈⒉ǚ派洳?04向加熱室101的背面?zhèn)确派涞奈⒉ǘ?。結(jié)果來自波導部103的合成波成為對微波放射部104的開口數(shù)較多一側(cè)(前面?zhèn)?具有指向性的結(jié)構(gòu)。
[0087]因此，在波導部103相對于加熱室101偏心的情況下，通過在波導部103的與加熱室101相對的面中，在加熱室101的加熱空間的接近中心點O—側(cè)的區(qū)域(例如前面?zhèn)葏^(qū)域或背面?zhèn)葏^(qū)域)中增多微波放射部104的開口數(shù)，成為能夠進一步實現(xiàn)對被加熱物107的均勻加熱的結(jié)構(gòu)。
[0088]此外，在實施方式I的結(jié)構(gòu)中，也可以構(gòu)成為以波導管103的與傳送方向平行的中心軸P為邊界，將從該中心軸P到微波放射部104的中心的距離調(diào)整為不同。例如，在圖2中，如最接近波導部103的末端201的微波放射部104所示，將從中心軸P到前面?zhèn)鹊奈⒉ǚ派洳?04的中心的距離LI設定得比從中心軸P到背面?zhèn)鹊奈⒉ǚ派洳?04的距離L2長(LI > L2)。即，通過進一步接近加熱室101的加熱空間的中心點O來設置各個微波放射部104，而成為如下結(jié)構(gòu):在來自設置于波導部103的微波放射部104的微波放射中，向加熱室101的中央側(cè)的方向更多地放射微波，在該微波的合成波(總量)的放射方向上具有指向性。
[0089]如上所述，在實施方式I的結(jié)構(gòu)中，通過調(diào)整和傳送方向以及電場方向垂直的方向Y (波導部103的寬度方向)上的微波放射部104的位置，能夠向加熱室101的中央側(cè)更多地放射微波，成為具有指向性的結(jié)構(gòu)。
[0090]另外，如上所述，關于作為變更在傳送方向X上排列的微波放射部的數(shù)量的結(jié)構(gòu)、和/或變更相對于中心軸P的距離的結(jié)構(gòu)的具體結(jié)構(gòu)，不僅在波導部103相對于加熱室101偏心配置的情況下能夠應用，而且在加熱室101的加熱空間形狀是不對稱時產(chǎn)生的微波分布的失衡成問題的情況下也能夠應用。
[0091]此外，關于上述兩個具體結(jié)構(gòu)，能夠通過組合這些結(jié)構(gòu)成為能夠?qū)崿F(xiàn)對被加熱物更均勻地加熱的結(jié)構(gòu)。
[0092](實施方式2)
[0093]以下，對本發(fā)明的實施方式2的微波加熱裝置進行說明。在實施方式2的微波加熱裝置中，與上述實施方式I的微波加熱裝置的不同點為利用微波放射部與波導管內(nèi)的駐波之間的關系確定微波放射部的指向性，其他結(jié)構(gòu)相同。
[0094]在以下的實施方式2的微波加熱裝置的說明中，對具有與實施方式I的微波加熱裝置中的結(jié)構(gòu)要素相同功能、相同結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)要素標注相同標號，其詳細說明適用實施方式I的說明。此外，實施方式2中的基本動作與上述實施方式I中的動作相同，因此在以下的說明中，對與實施方式I中的動作不同的動作、作用等進行說明。
[0095]圖3是說明本發(fā)明的實施方式2的微波加熱裝置中的微波放射部104與駐波301之間的關系的圖。圖3中說明了在波導部103內(nèi)產(chǎn)生的駐波301與微波放射部104之間的
位置關系。
[0096]首先說明成為如下結(jié)構(gòu)的情況:波導部103將至少I個微波放射部104設置到特定的位置，從該微波放射部104放射的微波具有指向性。
[0097]如圖3所示，在使用了矩形波導管作為波導部103的情況下，在微波產(chǎn)生部102(參照圖1)中產(chǎn)生并提供給波導部103的行波、與在波導部103的末端201處進行反射后的反射波相互干涉，從而在波導部103的內(nèi)部產(chǎn)生駐波301。本發(fā)明人通過實驗確認到:由于處于微波放射部104的正下方的駐波301的相位的不同，從微波放射部104放射的微波的指向性發(fā)生變化。以下對從微波放射部104放射的微波的指向性根據(jù)駐波301的相位發(fā)生變化的原理進行說明。
[0098]使用圖4，對基于駐波301的波導部103中的電場、磁場以及電流之間的關系進行說明。圖4是說明實施方式2的微波加熱裝置中的關于微波放射部104的電場、磁場以及電流之間的關系的圖。在圖4中，示出了指向性根據(jù)微波放射部104的設置位置而發(fā)生變化的原理，說明了產(chǎn)生駐波301的波導部103中的電場、磁場以及電流之間的關系。在圖4中，標號402表電場分布的曲線，標號403是表磁場分布的曲線，標號404不出了電流的流動。
[0099]在行波中，電場與磁場的方向垂直(90° )，相位相同。與此相對，駐波301的電場與磁場的方向垂直(90° )，相位錯開π/2。因此，作為產(chǎn)生了駐波301的波導部103的矩形波導管內(nèi)的電場與磁場之間的關系成為圖4所示的關系。其主要原因是，在駐波301的情況下，行波在波導部103的末端處進行反射時，電場的相位偏離180°。另外，電流在波導部103的表面沿與磁場垂直的方向流過。
[0100]以下，在與電場方向Z (參照圖3)垂直的面設置了微波放射部104的波導部(矩形波導管)103中，對在其內(nèi)部產(chǎn)生了駐波301時放射的微波的指向性的原理進行說明。
[0101]如圖4所示，說明在波導部103內(nèi)的駐波301中的“波腹”的位置、和“波節(jié)”的位置處配置了微波放射部104的情況。在微波放射部104中，在考慮到電流的傳送方向X的成分(X方向成分)、和與傳送方向以及電場方向垂直的寬度方向Y的成分(Y方向成分)的情況下，在配置于駐波的“波腹”的位置處的微波放射部104的電流中，與傳送方向以及電場方向垂直的寬度方向Y上的Y方向成分電流較多。
[0102]電流的流動方向與電場擴展的方向相同，因此被放射的微波在與傳送方向以及電場方向垂直的Y方向(波導部103的寬度方向)上具有指向性。
[0103]另一方面，在配置于駐波的“波節(jié)”的位置處的微波放射部104的電流中，傳送方向X的成分(X方向成分)較多。因此，所放射的微波在波導部103的傳送方向X即X方向上具有指向性。
[0104]接著，使用圖5對處于微波放射部104正下方的駐波的相位、與所放射的微波的指向性之間的關系進行說明。圖5是說明實施方式2的微波加熱裝置中的在波導部103內(nèi)產(chǎn)生的駐波301的相位與指向性之間的關系的圖。在圖5中，說明了在微波放射部104所處的波導部103內(nèi)產(chǎn)生的駐波301的相位、與被放射到加熱室101內(nèi)的微波的指向性之間的關系。圖5所示的結(jié)果是通過解析求出的。
[0105]圖5的(a)是通過變更從波導部103的末端201 (參照圖4)到微波放射部104的中心的距離，而改變微波放射部104正下方的波導部103內(nèi)的駐波的相位的圖。另外，在假定為用相同厚度的板材來構(gòu)成開口形狀的情況下，微波放射部104的中心表示該板材的重心位置。
[0106]在圖5的(a)所示的解析中，將駐波的“波腹”的位置設為相位0°、“波節(jié)”的位置設為相位180°，從相位大約0°至大約180°每隔相位大約45°，通過解析求出從微波放射部104放射的微波分布。
[0107]另外，如圖5的(a)所示，在該解析中，通過改變從波導部(矩形波導管)103的末端201到微波放射部104的中心的距離，而改變處于微波放射部104正下方的波導部103內(nèi)的駐波的相位。另外，在波導部103內(nèi)的傳送空間中，將作為微波產(chǎn)生部102的磁控管的微波輸出位置作為起始端部，波導部103的末端201是指微波的傳送方向的末端位置即波導部103的封閉部分的內(nèi)壁面。
[0108]在微波放射部104正下方的相位為大約180° (駐波中的大致“波節(jié)”的位置)的情況下，與上述原理說明同樣，該微波放射部104在傳送方向X上具有微波放射的指向性。并且，如圖5的(b)所示，通過將相位錯開大約45°，微波的指向性沿逆時針方向推移，在相位為大約0° (駐波的大致“波腹”的位置)時，具有與傳送方向以及電場方向垂直的寬度方向(Y方向)上的指向性。即，在微波放射部104正下方的相位為大約0° (駐波中的大致“波腹”的位置)的情況下，該微波放射部104在與傳送方向以及電場方向垂直的寬度方向(Y方向)上具有微波放射的指向性。該結(jié)果也與上述原理說明一致。
[0109]能夠通過應用與上述所說明的駐波的相位與微波放射部104的指向性之間的關系相關的技術(shù)，設置在目標方向上具有指向性的微波放射部104，能夠改善加熱室101內(nèi)的不均勻的微波分布。
[0110]接著，說明圖5示出的解析結(jié)果的解析條件。
[0111]在本解析中，假定了傳送H波(TE波；橫電波傳送Transverse Electric Wave)的TElO模式這一傳送模式的微波的情況，TElO模式是如下的傳送模式，使用矩形波導管作為波導部103來傳送從作為微波產(chǎn)生部的磁控管產(chǎn)生的微波，在該矩形波導管的傳送方向(參照圖4中的箭頭X)上，僅存在磁場成分，而不存在電場成分。
[0112]另外，基本不將TElO模式以外的傳送模式應用于微波加熱裝置的波導部103。另夕卜，矩形波導管的與傳送方向以及電場方向垂直的方向(參照圖4中的箭頭Y)的尺寸的上限和下限通過微波的頻率、和該矩形波導管的電場方向(參照圖3中的箭頭Z)的尺寸確定。
[0113]此外，為了將放射方向改變90°所需的微波放射部104的移動距離為管內(nèi)駐波的大約半波長的量。
[0114]圖6是實施方式2的微波加熱裝置中的微波放射部104的具體開口形狀的說明圖。圖6所示的微波放射部104以兩條直線狀的開口即狹縫(開口)交叉的方式構(gòu)成，至少I條狹縫的長度方向(圖6中是示出長度L的方向)是相對于波導部103中的傳送方向X傾斜的形狀。另外，在圖6中，將構(gòu)成微波放射部104的狹縫的長度方向的長度設為L、該狹縫的寬度長設為了 S。
[0115]如圖6所示，作為上述解析結(jié)果的解析條件，微波放射部104的開口形狀使兩條狹縫在各狹縫的中央以垂直的方式交叉，成為了使狹縫的長度方向相對于傳送方向X傾斜45°的結(jié)構(gòu)。
[0116]另外，微波放射部104的數(shù)量是I個，各狹縫的長度L是55mm，矩形波導管的厚度(高度)是30_，指向性的顯示數(shù)據(jù)是有效放射功率。
[0117]圖7是示出基于上述解析結(jié)果而構(gòu)成的本發(fā)明的實施方式2的微波加熱裝置中的設置于波導部103的微波放射部104相對于加熱室101的配置結(jié)構(gòu)例的俯視圖。如圖7所示，波導部103具有向加熱室101內(nèi)放射圓偏振波的多個微波放射部104。波導部103與加熱室101之間的位置關系構(gòu)成為:在從上方觀察加熱室101的狀態(tài)下，波導部103的與傳送方向(圖7中的朝右方向)平行的中心軸P的垂直線上(鉛垂線上)不包含設置了波導部103的加熱室101的加熱空間的中心點O的偏心狀態(tài)。在上述結(jié)構(gòu)中，在波導部103中的以與傳送方向平行的中心軸P為邊界的兩側(cè)區(qū)域中，即在與加熱室101相對的管壁面的以所述中心軸P為邊界的背面?zhèn)葏^(qū)域和前面?zhèn)葏^(qū)域中，分別設置有多個微波放射部104。在背面?zhèn)葏^(qū)域中，在波導部103內(nèi)的駐波的“波節(jié)”位置處配置有兩個微波放射部104，在前面?zhèn)葏^(qū)域中，在波導部103內(nèi)的駐波的“波腹”位置處配置有3個微波放射部104。
[0118]通過如上述那樣配置多個微波放射部104，波導部103中的背面?zhèn)葏^(qū)域的微波放射部104分別進行在管軸方向(圖7中的左右方向)上具有指向性的微波放射。另一方面，波導部103中的前面?zhèn)葏^(qū)域的微波放射部104分別進行在與管軸方向垂直的方向(圖7中的上下方向)上具有指向性的微波放射。此外，來自前面?zhèn)葏^(qū)域的微波放射部104的微波放射量的總量比來自背面?zhèn)葏^(qū)域的微波放射部104的微波放射量的總量多，因此成為在前面?zhèn)葟奈⒉ǚ派洳?04向該加熱室101進行較多的微波放射的結(jié)構(gòu)。其結(jié)果，在如上述那樣構(gòu)成的實施方式2的微波加熱裝置中成為能夠?qū)崿F(xiàn)對被加熱物的均勻加熱的結(jié)構(gòu)。
[0119]另外，作為圖6所示的由兩條直線狀的狹縫構(gòu)成的放射圓偏振波的微波放射部104的最佳形狀的條件，可列舉以下3點。
[0120]第一點是，各狹縫的長度方向的長度L為在波導部103內(nèi)傳送的微波的管內(nèi)波長(λ g)的1/4以上。
[0121]第二點是，兩條狹縫相互在中心處垂直、以及各狹縫的長度方向相對于傳送方向X傾斜了 45。。
[0122]第三點是，將與波導部103的傳送方向X平行且通過微波放射部104中心的直線作為對稱軸，波導部103中的電場分布不是軸對稱的。例如，在如專利文獻2所示那樣以TElO模式傳送微波的情況下，電場以波導部中的與傳送方向平行的中心軸(管軸)為對稱軸在波導部內(nèi)進行了分布。因此，條件是，微波放射部104的開口形狀以不關于波導部103中的傳送方向X的中心軸P (管軸)軸對稱的方式進行配置(不對稱配置)。
[0123]接著，說明產(chǎn)生圓偏振波的微波放射部104的其他形狀。這里特別說明由至少兩條以上的狹縫構(gòu)成的微波放射部104的結(jié)構(gòu)。
[0124]圖8是示出本發(fā)明的實施方式2的微波加熱裝置中的產(chǎn)生圓偏振波的微波放射部104的其他結(jié)構(gòu)的圖，是示出在波導部103中的與加熱室101相對的管壁面形成的狀態(tài)的俯視圖。在圖8中，作為微波放射部104的其他結(jié)構(gòu)，示出了由兩條以上的直線狀的狹縫(開口)構(gòu)成、且放射圓偏振波的微波放射部104的不同的形狀例。
[0125]如圖8的(a)?(f)所示，微波放射部104由兩條以上的呈直線狀開口的狹縫構(gòu)成，只要是其中的至少I條狹縫呈長度方向相對于微波的傳送方向X傾斜的形狀即可。因此，可以如圖8的(e)和(f)所示那樣是狹縫不交叉的形狀、或者如圖8的(d)所示那樣是由3條狹縫構(gòu)成的形狀。
[0126]接著，對在由兩條以上的狹縫構(gòu)成的微波放射部104中，通過增減狹縫的開口面積，調(diào)整從波導部103經(jīng)由微波放射部104放射到加熱室101的微波放射量的方法進行說明。
[0127]在縮短了狹縫的長度方向的長度(圖6中的長度L)的情況、或者縮短了狹縫的寬度方向的長度(圖6中的長度S)的情況下，從微波放射部104放射的微波的放射量減少。反之，在增長了各個長度的情況下，從微波放射部104放射的微波的放射量增加。
[0128]因此，在如上述那樣波導部103相對于加熱室101偏心的情況、或者加熱室101內(nèi)的由內(nèi)壁面構(gòu)成的加熱空間的形狀是不對稱的情況下，為了實現(xiàn)被加熱物的均勻加熱，需要與各個結(jié)構(gòu)對應，調(diào)整從波導部103中的所有微波放射部104放射的微波的合成波的指向性。如上所述，能夠通過增減微波放射部104的各個開口的面積，變更從微波放射部104放射的微波的總量。因此，能夠調(diào)整從波導部103中的所有微波放射部104放射的微波的合成波的指向性。
[0129]例如，考慮如下情況:在波導部103的與傳送方向X平行的中心軸P的兩側(cè)區(qū)域(前面?zhèn)葏^(qū)域和前面?zhèn)葏^(qū)域)中對稱地配置兩個微波放射部104，波導部103相對于加熱室101的加熱空間的中心點O配置于偏心的位置處。
[0130]該情況下，當以關于波導部103中的與傳送方向X平行的中心軸P對稱的方式配置相同數(shù)量的開口面積相等的微波放射部104時，隨著與微波產(chǎn)生部(例如磁控管)的距離變遠，基本上微波的強度減弱，因此難以對放置于加熱室101內(nèi)的中央的被加熱物進行均勻加熱。
[0131]因此，在將波導部103中的與傳送方向X平行的中心軸P認作邊界的情況下，能夠通過將配置于加熱室101的前面?zhèn)?加熱空間的中心側(cè))的微波放射部104的狹縫的長度方向的長度L和/或狹縫的寬度方向的長度S設為比位于相反側(cè)即背面?zhèn)鹊奈⒉ǚ派洳?04長，使加熱室101的前面?zhèn)?中心側(cè))的微波放射量增加。
[0132]圖9是示出變更實施方式2的微波加熱裝置中的微波放射部104的結(jié)構(gòu)后的例子的俯視圖。在圖9所示的結(jié)構(gòu)中，在加熱室101內(nèi)，放射圓偏振波的多個微波放射部104形成于波導部103，波導部103相對于加熱室101是偏心的。在圖9中如左側(cè)的微波放射部104所示，例如能夠通過將配置于加熱室101的前面?zhèn)?中心側(cè))的微波放射部104的狹縫的長度方向的長度L設為比背面?zhèn)鹊奈⒉ǚ派洳?04長(粗)，由此相比背面?zhèn)鹊奈⒉ǚ派洳?04增加加熱室101的前面?zhèn)?中心側(cè))的微波放射量。
[0133]此外，在圖9中如右側(cè)的微波放射部104所示，能夠通過將配置于加熱室101的前面?zhèn)?中心側(cè))的微波放射部104的狹縫在寬度方向上的長度S設為比背面?zhèn)鹊奈⒉ǚ派洳?04長(粗)，由此相比背面?zhèn)鹊奈⒉ǚ派洳?04增加加熱室101的前面?zhèn)?中心側(cè))的微波
放射量。
[0134]如上所述，通過如圖9所示的結(jié)構(gòu)那樣將微波放射部104的開口形狀選擇為期望的形狀，成為能夠改善加熱室101內(nèi)的不均勻的微波分布的結(jié)構(gòu)。
[0135]另外，微波放射部104放射的微波的放射量能夠根據(jù)用求出十字定向耦合器的耦合度C的下述(數(shù)I)所示的式子確定，其中，該微波放射部104具有上述圖6和圖9所示的使兩條狹縫在各自的中央處垂直、并使狹縫的長度方向相對于波導部103中的傳送方向X傾斜45°的形狀。其中，十字定向耦合器的耦合度C是指從波導部103經(jīng)過微波放射部104向加熱室101放射的微波的放射率。
[0136]【數(shù)式I】
[0137]
【權(quán)利要求】
1.一種微波加熱裝置，該微波加熱裝置構(gòu)成為具有: 收納被加熱物的加熱室； 產(chǎn)生微波的微波產(chǎn)生部； 傳送微波的波導部；以及 多個微波放射部，它們向所述加熱室內(nèi)放射圓偏振波， 所述波導部配置成，在所述波導部中的與傳送方向平行的中心軸的垂直線上，不包含所述加熱室內(nèi)的加熱空間的中心點， 從各所述微波放射部放射的微波的合成波具有向所述加熱空間的中心側(cè)放射微波多的指向性。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微波加熱裝置，其中， 所述多個微波放射部配置成，關于所述波導部中的與傳送方向平行的中心軸不是軸對稱的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的微波加熱裝置，其中， 所述多個微波放射部中的至少I個微波放射部構(gòu)成為，相比其他微波放射部，朝特定方向放射更多微波。
4.根據(jù)權(quán)利要求1~3中的任意一項所述的微波加熱裝置，其中， 在所述波導部中的關于所述加熱室的相對面中，以所述波導部中的與傳送方向平行的中心軸為邊界而分別設置于該邊界兩側(cè)的區(qū)域中的微波放射部構(gòu)成為，從所述中心軸到所述微波放射部的中心的距離不同。
5.根據(jù)權(quán)利要求1~4中的任意一項所述的微波加熱裝置，其中， 在所述波導部中的關于所述加熱室的相對面中，對于以所述波導部中的與傳送方向平行的中心軸為邊界而設置于該邊界兩側(cè)的多個微波放射部，將離所述加熱空間的中心點近的一側(cè)的所述微波放射部的數(shù)量設定得比離所述加熱空間的中心點遠的一側(cè)的微波放射部的數(shù)量多。
6.根據(jù)權(quán)利要求1~5中的任意一項所述的微波加熱裝置，其中， 在所述波導部中的關于所述加熱室的相對面中，以所述波導部中的與傳送方向平行的中心軸為邊界而設置于該邊界兩側(cè)的多個微波放射部中的離所述加熱空間的中心點近的一側(cè)的所述微波放射部形成于所述波導部內(nèi)產(chǎn)生的駐波的波腹的位置處。
7.根據(jù)權(quán)利要求1~6中的任意一項所述的微波加熱裝置，其中， 該微波加熱裝置構(gòu)成為，至少I個微波放射部由兩條以上狹縫的組合構(gòu)成，該微波放射部中的至少I條狹縫的長度方向相對于所述波導部中的傳送方向傾斜，從所有微波放射部放射的微波的合成波具有朝特定方向放射微波多的指向性。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的微波加熱裝置，其中， 該微波加熱裝置構(gòu)成為，由狹縫構(gòu)成的所述微波放射部的狹縫在長度方向上的長度根據(jù)所述波導部中的與傳送方向以及電場方向垂直的方向上的位置而不同。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的微波加熱裝置，其中， 該微波加熱裝置構(gòu)成為，由狹縫構(gòu)成的所述微波放射部的狹縫在寬度方向上的長度根據(jù)所述波導部中的與傳送方向以及電場方向垂直的方向上的位置而不同。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的微波加熱裝置，其中，由狹縫構(gòu)成的所述微波放射部的狹縫的交叉部分實施了 R倒角加工或C倒角加工。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的微波加熱裝置，其中， 由狹縫構(gòu)成的所述微波放射部的狹縫的末端部分實施了 R倒角加工或C倒角加工。
【文檔編號】H05B6/72GK103650637SQ201280032970
【公開日】2014年3月19日 申請日期:2012年7月3日 優(yōu)先權(quán)日:2011年7月4日
【發(fā)明者】細川大介, 吉野浩二, 貞平匡史, 信江等隆, 大森義治 申請人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社