本實(shí)用新型涉及UV膜技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種超薄UV轉(zhuǎn)印紋路膜。
背景技術(shù):
UV膜是將特殊配方涂料涂布于PET、P0、PVC、EVA薄膜基材表面,以達(dá)到阻隔紫外光及短波長(zhǎng)可見(jiàn)光之效果,適用于光學(xué)蝕刻制程或制程中需隔絕UV的產(chǎn)業(yè)如半導(dǎo)體業(yè),電子業(yè)等,避免不當(dāng)光線泄漏造成產(chǎn)品品質(zhì)不良。
隨著科技的發(fā)展,超薄UV轉(zhuǎn)印紋路膜已廣泛的運(yùn)用與工業(yè)生產(chǎn)過(guò)程中,而目前市場(chǎng)上現(xiàn)有的超薄UV轉(zhuǎn)印紋路膜,在轉(zhuǎn)印的過(guò)程中,由于缺乏轉(zhuǎn)印裝置,從而導(dǎo)致超薄UV轉(zhuǎn)印紋路膜,在對(duì)UV膜表面紋路轉(zhuǎn)印的過(guò)程中,出現(xiàn)無(wú)法轉(zhuǎn)印的問(wèn)題,從而不能使超薄UV轉(zhuǎn)印紋路膜進(jìn)行有效轉(zhuǎn)印。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本實(shí)用新型的目的在于提供一種超薄UV轉(zhuǎn)印紋路膜,具備對(duì)超薄UV轉(zhuǎn)印紋路膜進(jìn)行有效轉(zhuǎn)印的優(yōu)點(diǎn),解決了超薄UV轉(zhuǎn)印紋路膜,在對(duì)UV膜表面紋路轉(zhuǎn)印的過(guò)程中,出現(xiàn)無(wú)法轉(zhuǎn)印的問(wèn)題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:一種超薄UV轉(zhuǎn)印紋路膜,包括PET板、透明光油層、UV膜、電鍍層、油墨保護(hù)層和轉(zhuǎn)印膜層,所述PET板的頂部設(shè)置有透明光油層,所述透明光油層的頂部設(shè)置有UV膜,所述UV膜頂部的表面設(shè)置有紋路,所述UV膜的頂部設(shè)置有電鍍層,所述電鍍層的頂部設(shè)置有油墨保護(hù)層,所述油墨保護(hù)層的頂部設(shè)置有轉(zhuǎn)印膜層,所述轉(zhuǎn)印膜層包括基底層,所述基底層的頂部設(shè)置有離型層,所述離型層的頂部設(shè)置有印刷層,所述印刷層的頂部設(shè)置有膠粘層,所述膠粘層的頂部設(shè)置有熱熔膠粉層。
優(yōu)選的,所述油墨保護(hù)層可對(duì)電鍍層進(jìn)行有效保護(hù)。
優(yōu)選的,所述基底層的頂部通過(guò)離型層與印刷層固定連接。
優(yōu)選的,所述印刷層的頂部通過(guò)膠粘層與熱熔膠粉層固定連接。
優(yōu)選的,所述PET板、透明光油層、UV膜、電鍍層、油墨保護(hù)層、轉(zhuǎn)印膜層、基底層、離型層、印刷層、膠粘層和熱熔膠粉層的長(zhǎng)度與寬度均一致。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的有益效果如下:
1、本實(shí)用新型通過(guò)設(shè)置基底層、離型層、印刷層、膠粘層和熱熔膠粉層的配合使用,可對(duì)UV膜表面的紋路進(jìn)行有效的轉(zhuǎn)印,這樣超薄UV轉(zhuǎn)印紋路膜的使用效果更好,避免了超薄UV轉(zhuǎn)印紋路膜在轉(zhuǎn)印的過(guò)程中,因缺乏轉(zhuǎn)印裝置,從而導(dǎo)致超薄UV轉(zhuǎn)印紋路膜,在對(duì)UV膜表面紋路轉(zhuǎn)印的過(guò)程中,出現(xiàn)無(wú)法轉(zhuǎn)印的問(wèn)題,從而方便了超薄UV轉(zhuǎn)印紋路膜的轉(zhuǎn)印,適合推廣使用。
2、本實(shí)用新型通過(guò)電鍍層,可對(duì)UV膜表面的紋路進(jìn)行反射,這樣使UV膜表面的紋路呈現(xiàn)立體感,同時(shí)對(duì)UV膜起到了保護(hù)的作用,避免了因UV膜表面缺乏電鍍層,從而導(dǎo)致超薄UV轉(zhuǎn)印紋路膜,出現(xiàn)觀賞性較差的問(wèn)題出現(xiàn),通過(guò)油墨保護(hù)層,可對(duì)電鍍層起到保護(hù)的作用,這樣電鍍層的使用時(shí)間更長(zhǎng),避免了超薄UV轉(zhuǎn)印紋路膜在長(zhǎng)時(shí)間使用的過(guò)程中,電鍍層出現(xiàn)損壞的問(wèn)題。
附圖說(shuō)明
圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本實(shí)用新型轉(zhuǎn)印膜層結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)俯視圖。
圖中:1 PET板、2透明光油層、3 UV膜、4電鍍層、5油墨保護(hù)層、6轉(zhuǎn)印膜層、61基底層、62離型層、63印刷層、64膠粘層、65熱熔膠粉層、7紋路。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖,對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
請(qǐng)參閱圖1-3,一種超薄UV轉(zhuǎn)印紋路膜,包括PET板1、透明光油層2、UV膜3、電鍍層4、油墨保護(hù)層5和轉(zhuǎn)印膜層6,PET板1的頂部設(shè)置有透明光油層2,透明光油層2的頂部設(shè)置有UV膜3,UV膜3頂部的表面設(shè)置有紋路7,UV膜3的頂部設(shè)置有電鍍層4,通過(guò)電鍍層4,可對(duì)UV膜3表面的紋路7進(jìn)行反射,這樣使UV膜3表面的紋路7呈現(xiàn)立體感,同時(shí)對(duì)UV膜3起到了保護(hù)的作用,避免了因UV膜3表面缺乏電鍍層4,從而導(dǎo)致超薄UV轉(zhuǎn)印紋路膜,出現(xiàn)觀賞性較差的問(wèn)題出現(xiàn),電鍍層4的頂部設(shè)置有油墨保護(hù)層5,油墨保護(hù)層5可對(duì)電鍍層4進(jìn)行有效保護(hù),通過(guò)油墨保護(hù)層5,可對(duì)電鍍層4起到保護(hù)的作用,這樣電鍍層4的使用時(shí)間更長(zhǎng),避免了超薄UV轉(zhuǎn)印紋路膜在長(zhǎng)時(shí)間使用的過(guò)程中,電鍍層4出現(xiàn)損壞的問(wèn)題,油墨保護(hù)層5的頂部設(shè)置有轉(zhuǎn)印膜層6,轉(zhuǎn)印膜層6包括基底層61,基底層61的頂部設(shè)置有離型層62,離型層62的頂部設(shè)置有印刷層63,基底層61的頂部通過(guò)離型層62與印刷層63固定連接,印刷層63的頂部設(shè)置有膠粘層64,膠粘層64的頂部設(shè)置有熱熔膠粉層65,印刷層63的頂部通過(guò)膠粘層64與熱熔膠粉層65固定連接,通過(guò)設(shè)置基底層61、離型層62、印刷層63、膠粘層64和熱熔膠粉層65的配合使用,可對(duì)UV膜3表面的紋路7進(jìn)行有效的轉(zhuǎn)印,這樣超薄UV轉(zhuǎn)印紋路膜的使用效果更好,避免了超薄UV轉(zhuǎn)印紋路膜在轉(zhuǎn)印的過(guò)程中,因缺乏轉(zhuǎn)印裝置,從而導(dǎo)致超薄UV轉(zhuǎn)印紋路膜,在對(duì)UV膜3表面紋路7轉(zhuǎn)印的過(guò)程中,出現(xiàn)無(wú)法轉(zhuǎn)印的問(wèn)題,從而方便了超薄UV轉(zhuǎn)印紋路膜的轉(zhuǎn)印,適合推廣使用,PET板1、透明光油層2、UV膜3、電鍍層4、油墨保護(hù)層5、轉(zhuǎn)印膜層6、基底層61、離型層62、印刷層63、膠粘層64和熱熔膠粉層65的長(zhǎng)度與寬度均一致。
使用時(shí),通過(guò)設(shè)置基底層61、離型層62、印刷層63、膠粘層64和熱熔膠粉層65的配合使用,可對(duì)UV膜3表面的紋路7進(jìn)行有效的轉(zhuǎn)印,這樣超薄UV轉(zhuǎn)印紋路膜的使用效果更好,避免了超薄UV轉(zhuǎn)印紋路膜在轉(zhuǎn)印的過(guò)程中,因缺乏轉(zhuǎn)印裝置,從而超薄UV轉(zhuǎn)印紋路膜,在對(duì)UV膜3表面紋路7轉(zhuǎn)印的過(guò)程中,出現(xiàn)無(wú)法轉(zhuǎn)印的問(wèn)題,從而方便了超薄UV轉(zhuǎn)印紋路膜的轉(zhuǎn)印。
綜上所述:該超薄UV轉(zhuǎn)印紋路膜,通過(guò)設(shè)置基底層61、離型層62、印刷層63、膠粘層64和熱熔膠粉層65的配合使用,解決了超薄UV轉(zhuǎn)印紋路膜,在對(duì)UV膜3表面紋路7轉(zhuǎn)印的過(guò)程中,出現(xiàn)無(wú)法轉(zhuǎn)印的問(wèn)題。
盡管已經(jīng)示出和描述了本實(shí)用新型的實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言,可以理解在不脫離本實(shí)用新型的原理和精神的情況下可以對(duì)這些實(shí)施例進(jìn)行多種變化、修改、替換和變型,本實(shí)用新型的范圍由所附權(quán)利要求及其等同物限定。