. 1-2002《鍍膜玻璃第2部分：低輻射鍍膜玻璃》的標(biāo)準(zhǔn)，可見光透射比允許偏差 最大值小，遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于國家標(biāo)準(zhǔn)的3. 0 %，達到見光透射比允許偏差最大值低于0. 5 %;顏色均 勻性高,小于2. 0CIELAB。
[0080] 4、本發(fā)明制備的綠色遮陽型鍍膜玻璃制成的中空玻璃，可見光透過率大于30%， 室外可見光反射率小于31%，太陽能的透過率低于20%，太陽能反射率高于15%，適于 營造光明舒適的室內(nèi)和室外光環(huán)境；同時，其傳熱系數(shù)冬季低于I. 75W/m2 · K，夏季低于 1. 70W/m2 ·Κ，遮陽系數(shù)（Sc)低于0. 30。太陽能的總透過率低于25%，相對熱增低于195w/ m2,熱工性能良好，能有效阻擋陽光熱量向室內(nèi)輻射，節(jié)能性能好，降低制冷能耗，控光節(jié)能 效果更佳。
[0081] 5、本發(fā)明的綠色遮陽型鍍膜玻璃在制備過程中可以通過改變各鍍膜膜層的厚度 獲得不同光學(xué)和熱學(xué)性能的綠色遮陽型鍍膜玻璃，也可制成不同類型的中空玻璃，以適應(yīng) 市場不同需求。
[0082] 6、本發(fā)明制備的綠色遮陽型鍍膜玻璃的熱穩(wěn)定性高，可以實現(xiàn)異地?zé)崽幚砑庸ぁ?br>[0083] 7、本發(fā)明制備綠色遮陽型鍍膜玻璃的方法是在本體著色的法國綠浮法玻璃上實 現(xiàn)顏色綠色的變化，解決了對鍍膜時靶材的高成本問題，成本較低，方便可靠。
【附圖說明】
[0084] 圖1為本發(fā)明綠色遮陽型鍍膜玻璃的剖面示意圖。
[0085] 附圖標(biāo)記：1、玻璃基片；2、第一娃錯合金膜層；3、第二鎳鉻合金膜層；4、第三金屬 銀膜層；5、第四鎳鉻合金膜層；6、第五硅鋁合金膜層。
【具體實施方式】
[0086] 下面通過實施例對本發(fā)明進行進一步說明，本發(fā)明的優(yōu)點和特點將會隨著描述而 更為清楚。但這些實施例僅是范例性的，并不對本發(fā)明的范圍構(gòu)成任何限制。本領(lǐng)域技術(shù) 人員應(yīng)該理解的是，在不偏離本發(fā)明的精神和范圍下可以對本發(fā)明技術(shù)方案的細(xì)節(jié)和形式 進行修改或替換，但這些修改和替換均落入本發(fā)明的保護范圍內(nèi)。
[0087] 如圖1所示，本發(fā)明的綠色遮陽型鍍膜玻璃依次由綠色浮法玻璃基片1、第一膜層 2、 第二膜層3、第三膜層4、第四膜層5、第五膜層組成。第一膜層2緊密貼合在綠色玻璃基 片1的表面上，第二膜層3緊密貼合在第一膜層2上，第三膜層4緊密貼合在第二膜層3上， 第四膜層5緊密貼合在第三膜層4上，第五膜層6緊密貼合在第四膜層5上。第一膜層為 硅鋁合金膜，第二膜層為鎳鉻合金膜，第三膜層為銀膜，第四鎳鉻合金膜，第五膜層為硅鋁 合金膜。第一娃錯合金膜層的厚度為56-59nm，優(yōu)選為57. 8-58. 3nm ;所述第二鎳鉻合金膜 層的厚度為7. 0-8. Onm，優(yōu)選為7. 3-7. 6nm ;所述第三銀膜層的厚度為12. 0-13. Onm，優(yōu)選為 12. 4-12. 6nm ;所述第四鎳鉻合金膜層的厚度為7. 0-8. Onm，優(yōu)選為7. 6-7. 8nm ;所述第五鎳 鉻合金膜層的厚度為130_138nm，優(yōu)選為133-136nm。
[0088] 實施例1
[0089] I、靶材燒結(jié)
[0090] 在真空磁控濺射鍍膜機（福建省新福興玻璃有限公司，型號：XFXDM-01D)的第一 至第十靶室內(nèi)，將預(yù)壓成型的靶材分別燒結(jié)在第一至第十靶室的相應(yīng)靶位上，其中：燒結(jié) 在第一、二、六-十靶室靶位上的靶材為燒結(jié)純度為> 99. 5%、密度為> 2. lg/cm3、熔點為 580°C的硅鋁合金靶材，其中Al含量為8-12±2wt %，其余為Si ;燒結(jié)在第三、第五靶室靶位 上的靶材為鎳鉻合金選擇燒結(jié)純度為彡99. 7%、密度為彡8. 5g/cm3、熔點為1420°C的鎳鉻 合金，其中Cr含量為20 ± Iwt %，其余為Ni ;燒結(jié)在第四靶室靶位上的靶材為燒結(jié)純度為 彡99. 99%，密度為彡10. 5g/cm3 ;熔點為960°C的銀靶材。
[0091] 其中，硅鋁合金的燒結(jié)時間為90min ;鎳鉻合金的燒結(jié)時間為90min ;銀的燒結(jié)時 間為60min。
[0092] 硅鋁合金符合國家標(biāo)準(zhǔn)JC/T2068-2011中硅鋁靶的成分要求；所述鎳鉻合金符合 國家標(biāo)準(zhǔn)JC/T2068-2011中鎳鉻靶的成分要求；所述銀符合國家標(biāo)準(zhǔn)鎳鉻中銀靶的成分要 求。
[0093] 2、清洗玻璃
[0094] 2A)將厚度為6. Omm的采用浮法工藝制備的法國綠玻璃原片（即法國綠浮法玻 璃）置于玻璃鍍膜清洗機（德國GTA公司生產(chǎn)，型號：GTA01-M)中，采用溫度為37°C、礦物 質(zhì)的含量< 5μ /cm/m2的去離子水進行清洗處理，清洗速度為2. 5m/min ;
[0095] 本發(fā)明中的綠色浮法玻璃原片除了選用厚度為6mm的法國綠浮法玻璃原片之外， 其他厚度的綠色浮法玻璃原片也適用于本發(fā)明。采用去離子水清洗玻璃，不僅能去除玻璃 表面的油污或其他雜質(zhì)，也避免了用自來水清洗引入其他金屬離子的問題。
[0096] 2B)將清洗后的浮法玻璃在50°C下進行干燥處理，其中干燥速度為2. 5m/min，去 除玻璃表面的水滴，制得干玻璃原片。
[0097] 3、排濕、脫氣處理
[0098] 3A)將干玻璃原片用輸送輥道傳送至真空磁控濺射鍍膜機的第一真空室，對干玻 璃原片進行第一次排濕、脫氣處理，其中第一次排濕、脫氣處理的時間為45s，傳動速度為 2. 5m/min ;第一次排濕、脫氣處理的溫度為_140°C，絕對壓力為5. 0 X 10 _ 2mbar ;
[0099] 3B)將經(jīng)過第一次排濕、脫氣處理的干玻璃原片輸送至第二真空室，進行第二次排 濕、脫氣處理，其中第二次排濕、脫氣處理的時間為90s ;傳動速度為2. 5m/min ;第二次排 濕、脫氣處理的溫度為90°C，絕對壓力為3. 5 X 10 3mbar，制得待鍍膜玻璃；
[0100] 本發(fā)明中玻璃傳動速度以2. 5m/min為例進行說明，玻璃傳動速度為2. 3-2. 9m/ min均適用于本發(fā)明。
[0101] 在對綠色浮法玻璃原片進行的多次排濕、脫氣處理的過程中，處理溫度逐漸升高， 相對壓力依次降低，尤其是在第二排濕、脫氣處理階段相應(yīng)延長處理時間，排除了沉積在玻 璃表面的水氣和氣體，使得待鍍膜浮法玻璃的表面潔凈，增加了玻璃表面和鍍膜層間的附 著力，使所鍍膜層不易脫落；同時，2次排濕、脫氣處理，使浮法玻璃原片處在與磁控濺射時 相同的環(huán)境條件下，便于后續(xù)操作的進行，縮短了玻璃鍍膜時間，提供了玻璃鍍膜的效率。
[0102] 4、鍍膜處理
[0103] 4A)開啟真空磁控濺射鍍膜機的濺射室的電源，加熱，使濺射室（包括第一至第十 靶室）內(nèi)的溫度達到80-KKTC，絕對壓力降低為2· 0-4. O X 10 3mbar (本發(fā)明實施例中絕對 壓力以3. OX 10 3Hibar為例進行說明），待鍍膜玻璃從第一至第十靶室依次進行磁控濺射鍍 膜處理；
[0104] 4B)將經(jīng)過2次排濕、脫氣處理制得的待鍍膜玻璃以2. 5m/min的傳送速度依次送 入鍍膜濺射室的第一至第十靶室內(nèi)，進行鍍膜處理，制得鍍膜玻璃，工藝參數(shù)如表1所示， 其中：
[0105] 待鍍膜法國綠浮法玻璃原片在第一靶室內(nèi)進行第一次鍍膜處理，即進行第一硅鋁 合金膜的第一次鍍覆處理，第一靶室內(nèi)通入氮氣和氬氣，氮氣的流量為90〇 SC/cm，氬氣的流 量為55〇SC/cm，第一次鍍覆處理過程中真空磁控濺射電壓為479. 0V，電流為76. 4A，功率為 29. OKw ;第一革巴室內(nèi)的絕對壓力為2. 0-4. OX 10 3mbar之內(nèi)（選擇3. OX 10 3mbar);第一革巴 室靶位上燒結(jié)的硅鋁合金靶材的金屬原子從靶材的表面濺射出，沉積在浮法玻璃玻璃原片 的表面，第一娃錯合金膜層的第一鍛覆厚度為29. Onm,制得第一鍛膜玻璃；
[0106] 第一鍍膜玻璃在第二靶室內(nèi)進行第二次鍍覆處理，即進行第一硅鋁合金膜的第二 次鍍覆處理，第二靶室內(nèi)通入氮氣和氬氣，氮氣的流量為900s C/cm，氬氣的流量為550sc/ cm，第二次鍍覆處理過程中真空磁控濺射電壓為481. 0V，電流為76. 6A，功率為29. IKw ;第 二革巴室內(nèi)的絕對壓力為2. 0-4. OX 103mbar之內(nèi)（選擇3. OX 103mbar);第二革巴室革巴位上燒 結(jié)的硅鋁合金靶材的金屬原子從靶材的表面濺射出，沉積在第一鍍膜玻璃的表面，第一硅 鋁合金膜層的第二次鍍覆厚度為29. Onm，形成總厚度為58. Onm的第一硅鋁合金膜層，制得 第二鍍膜玻璃；
[0107] 第二鍍膜玻璃在第三靶室內(nèi)進行第三次鍍膜處理，即進行第二鎳鉻合金膜層 的鍍覆處理，第三靶室內(nèi)通入氬氣，氬氣的流量為1200sc/cm，磁控濺射電壓為343.0V， 電流為7. 4A，功率為2. 5Kw，控制第三靶室內(nèi)的絕對壓力為2. 0-4. OX 10 3mbar (選擇 3. OX 10 3mbar)之內(nèi)；第三靶室靶位上燒結(jié)的鎳鉻合金靶材的金屬原子從靶材的表面濺射 出，沉積在第二鍍膜玻璃的表面，控制第三鎳鉻合金膜層的鍍覆厚度為7. 4nm，制得第三鍍 膜玻璃；
[0108] 第三鍍膜玻璃在第四