有機(jī)發(fā)光二極管的基底及其制作方法、有機(jī)發(fā)光二極管的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于光電技術(shù)領(lǐng)域，具體地講，涉及一種有機(jī)發(fā)光二極管的基底及其制作方法、有機(jī)發(fā)光二極管。
【背景技術(shù)】
[0002]有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)顯示技術(shù)與傳統(tǒng)的LCD顯示技術(shù)不同，其無需背光燈，且具有自發(fā)光的特性，采用非常薄的有機(jī)材料涂層和玻璃基板，當(dāng)有電流通過時(shí)，這些有機(jī)材料就會(huì)發(fā)光。而且屏可以做得更輕更薄，可視角度更大，并且能夠顯著節(jié)省電能。
[0003]目前，制備柔性O(shè)LED器件的襯底主要是聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(PET)或者聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)。然而這些塑料襯底具有的水氧阻擋性較差，并且這些塑料襯底不耐高溫，表面粗糙度大，故利用這些塑料襯底制備的柔性O(shè)LED器件的性能較差。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問題，本發(fā)明的目的在于提供一種有機(jī)發(fā)光二極管的基底，其包括:柔性襯底;金屬層，形成在所述柔性襯底的第一表面上;第一鈍化層，形成在所述金屬層的背向所述第一表面的表面上;第二鈍化層，形成在所述柔性襯底的第二表面上;其中，所述第二表面與所述第一表面相對(duì)。
[0005]進(jìn)一步地，所述金屬層通過濺射或者蒸鍍的方法形成。
[0006]進(jìn)一步地，所述第一鈍化層和/或所述第二鈍化層通過化學(xué)氣相沉淀或原子層沉積的方法形成。
[0007]本發(fā)明的另一目的還在于提供一種有機(jī)發(fā)光二極管的基底的制作方法，其包括:提供一柔性襯底;在所述柔性襯底的第一表面上形成金屬層;在所述金屬層的背向所述第一表面的表面上形成第一鈍化層;在所述柔性襯底的第二表面上形成第二鈍化層;其中，所述第二表面與所述第一表面相對(duì)。
[0008]進(jìn)一步地，利用濺射或者蒸鍍的方法在所述柔性襯底的第一表面上形成金屬層。
[0009]進(jìn)一步地，利用化學(xué)氣相沉淀或原子層沉積的方法在所述金屬層的背向所述第一表面的表面上形成第一鈍化層。
[0010]進(jìn)一步地，利用化學(xué)氣相沉淀或原子層沉積的方法在所述柔性襯底的第二表面上形成第一鈍化層。
[0011 ]本發(fā)明的又一目的又在于提供一種有機(jī)發(fā)光二極管，其包括:柔性襯底;在所述柔性襯底的第一表面上的金屬層；在所述金屬層的背向所述第一表面的表面上的第一鈍化層;在所述柔性襯底的第二表面上的第二鈍化層;依次在所述第二鈍化層的背向所述第二表面的表面上的陽(yáng)極層、空穴注入層、空穴傳輸層、有機(jī)發(fā)光層、電子傳輸層、電子注入層及陰極層;其中，所述第二表面與所述第一表面相對(duì)。
[0012]本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明的有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)的基底及其制作方法，與現(xiàn)有技術(shù)的OLED的基底相比，能夠提高柔性襯底的水氧阻擋能力，且還能降低柔性襯底的上表面的粗糙度，同時(shí)又能提高柔性襯底的散熱性。
【附圖說明】
[0013]通過結(jié)合附圖進(jìn)行的以下描述，本發(fā)明的實(shí)施例的上述和其它方面、特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)將變得更加清楚，附圖中:
[0014]圖1是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的用于有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)的基底的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0015]圖2是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的用于有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)的基底的制作方法的流程圖；
[0016]圖3是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光二極管的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0017]以下，將參照附圖來詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例。然而，可以以許多不同的形式來實(shí)施本發(fā)明，并且本發(fā)明不應(yīng)該被解釋為限制于這里闡述的具體實(shí)施例。相反，提供這些實(shí)施例是為了解釋本發(fā)明的原理及其實(shí)際應(yīng)用，從而使本領(lǐng)域的其他技術(shù)人員能夠理解本發(fā)明的各種實(shí)施例和適合于特定預(yù)期應(yīng)用的各種修改。
[0018]在附圖中，為了清楚元器件，夸大了層和區(qū)域的厚度。相同的標(biāo)號(hào)在附圖中始終表示相同的元件。
[0019]將理解的是，盡管在這里可使用術(shù)語(yǔ)“第一”、“第二”等來描述各種元件，但是這些元件不應(yīng)受這些術(shù)語(yǔ)的限制。這些術(shù)語(yǔ)僅用于將一個(gè)元件與另一個(gè)元件區(qū)分開來。
[0020]也將理解的是，在一層或元件被稱為在或形成在另一層或基板“之上”或“之下”時(shí)，它可以直接在或形成在該另一層或基板上或下，或者也可以存在中間層或中間元件。
[0021]圖1是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的用于有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)的基底的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的用于有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)的基底的制作方法的流程圖。
[0022]參照?qǐng)D1和圖2，在步驟210中，提供一柔性襯底10。這里，柔性襯底10可采用適當(dāng)?shù)娜嵝圆牧现瞥桑缇蹖?duì)苯二甲酸乙二酯(PET)或者聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)，但本發(fā)明并不限制于此。
[0023]在步驟220中，在柔性襯底10的第一表面上形成金屬層20。這里，柔性襯底10的第一表面指的是柔性襯底10的下表面，但本發(fā)明并不限制于此。金屬層20的設(shè)置，能夠提高柔性襯底10的水氧阻擋能力，同時(shí)提高柔性襯底10的散熱性。
[0024]進(jìn)一步地，利用濺射或者蒸鍍的方法在柔性襯底10的下表面上形成金屬層20。在本實(shí)施例中，金屬層20可以由金屬單質(zhì)(例如鋁、鉻等)、不銹鋼、金屬合金等材料制成，但本發(fā)明并不限制于此。需要說明的是，金屬層20的厚度可以在15nm?40nm之間。
[0025]在步驟230中，在金屬層20的背向柔性襯底10的第一表面的表面上形成第一鈍化層30。這里，金屬層20的背向柔性襯底10的第一表面的表面指的是金屬層20的下表面。第一鈍化層30的設(shè)置，能夠提高柔性襯底10的水氧阻擋能力，同時(shí)能夠保護(hù)金屬層20，防止金屬層20被氧化或損傷。
[0026]進(jìn)一步地，利用化學(xué)氣相沉淀或原子層沉積的方法在金屬層20的下面上形成第一鈍化層30。在本實(shí)施例中，第一鈍化層30可以由氮化硅、二氧化硅或者氧化鋁等材料制成，但本發(fā)明并不限制于此。需要說明的是，第一鈍化層30的厚度可以在200nm?500nm之間。
[0027]在步驟2