專利名稱：熒光定量培養(yǎng)皿的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種培養(yǎng)皿，特別是一種皿底四周設(shè)有垂直刻度標(biāo)尺及皿底底部
設(shè)有以熒光顏料刻劃的刻度標(biāo)尺的培養(yǎng)皿。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的培養(yǎng)皿都是平板透明圓柱形的，皿體上沒有任何定量刻度標(biāo)記，通常進(jìn)行 細(xì)菌培養(yǎng)時(shí)，需向培養(yǎng)皿里傾倒一定量的培養(yǎng)基，當(dāng)樣本量較大時(shí)，對每個培養(yǎng)皿中傾倒培 養(yǎng)基的量的控制，是一件很繁瑣的工作，而僅靠肉眼直接識別，難以達(dá)到準(zhǔn)確定量的效果， 另外，所有樣本培養(yǎng)皿中培養(yǎng)基鋪設(shè)是否均勻一致，沒有一個定量的平衡標(biāo)準(zhǔn)，這勢必導(dǎo)致 培養(yǎng)基定量不準(zhǔn)、營養(yǎng)分布不均，從而產(chǎn)生試驗(yàn)誤差；另外，在細(xì)菌培養(yǎng)試驗(yàn)完成后，普通培 養(yǎng)皿難以實(shí)現(xiàn)對菌落擴(kuò)散區(qū)域大小的直接確定工作，若采用外部手段測定，勢必增加工作

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種皿底四周有垂直刻度標(biāo)尺，皿底底部 有熒光顏料刻劃的同心圓及方孔刻度標(biāo)尺的培養(yǎng)皿，其能準(zhǔn)確定量傾倒入培養(yǎng)皿內(nèi)的培養(yǎng) 基，并作為培養(yǎng)基鋪設(shè)均勻性評價(jià)的參考標(biāo)準(zhǔn)，同時(shí)，通過皿底底部熒光顏料刻劃的刻度標(biāo) 尺可以對菌落擴(kuò)散區(qū)域大小進(jìn)行直接確定。 為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型是按如下的方式來實(shí)現(xiàn)的本實(shí)用新型所述的 熒光定量培養(yǎng)皿，由皿底和皿蓋組成；所述皿底為圓柱形，其四周環(huán)繞平均間隔為90度的 4個垂直刻度標(biāo)尺，皿底底部設(shè)有以熒光顏料刻劃，并參照皿底圓心的擴(kuò)散同心圓及邊長均 等的方孔刻度標(biāo)尺；皿蓋為圓柱形，皿蓋外徑大于皿底內(nèi)徑，培養(yǎng)細(xì)菌時(shí)，皿蓋蓋在皿底上 面。 所述皿蓋和皿底的材料均為醫(yī)用級聚苯乙烯；皿底底部刻劃刻度標(biāo)尺的顏料為稀 土有機(jī)配合物熒光顏料。 本實(shí)用新型的積極效果在于皿底四周環(huán)繞平均間隔為90度的4個垂直刻度標(biāo) 尺，可以此刻度標(biāo)尺測量、控制傾倒入培養(yǎng)皿中培養(yǎng)基的量，并以對稱的任意兩個(或更 多)標(biāo)尺刻度作為培養(yǎng)基鋪設(shè)平衡的判斷依據(jù)，以此考察培養(yǎng)基鋪設(shè)的均勻性；此外，皿底 底部設(shè)有以熒光顏料刻劃，并參照皿底圓心的擴(kuò)散同心圓及邊長均等的方孔刻度標(biāo)尺，在 紫外光照射下，皿底底部的熒光刻度標(biāo)尺可透過培養(yǎng)基，以便試驗(yàn)人員直接以肉眼對菌落 擴(kuò)散區(qū)域進(jìn)行定位及面積估算；本培養(yǎng)皿使用成本低，減少了試驗(yàn)工作量，雖然結(jié)構(gòu)簡單， 但其應(yīng)用普遍，具有一定的經(jīng)濟(jì)效益和社會效益。
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。


圖1是本實(shí)用新型的整體結(jié)構(gòu)示意圖
3[0009] 圖2是本實(shí)用新型的俯瞰示意圖 圖3是本實(shí)用新型的剖面示意圖 圖中l(wèi)皿底 2皿蓋 3垂直刻度標(biāo)尺 4熒光刻度標(biāo)尺具體實(shí)施方式如
圖1、圖2、圖3所示，本實(shí)用新型所述的熒光定量培養(yǎng)皿由皿底1和皿蓋2組
成；所述皿底1為圓柱形，其四周環(huán)繞平均間隔為90度的4個垂直刻度標(biāo)尺3，皿底1底部
設(shè)有以熒光顏料刻劃，并參照皿底圓心的擴(kuò)散同心圓及邊長均等的方孔刻度標(biāo)尺4 ;皿蓋2
為圓柱形，皿蓋2外徑大于皿底1內(nèi)徑，培養(yǎng)細(xì)菌時(shí)，皿蓋2蓋在皿底1上面。 所述皿底1和皿蓋2的材料均為醫(yī)用級聚苯乙烯；皿底1底部刻劃刻度標(biāo)尺4的
顏料為稀土有機(jī)配合物熒光顏料。 本實(shí)用新型的使用方法是在皿底內(nèi)倒入培養(yǎng)基時(shí)，以四周任意互相對稱的2個
垂直刻度標(biāo)示為參照，確定注入培養(yǎng)基的量，在倒入一定量的培養(yǎng)基后，對培養(yǎng)皿稍事抖
動，對比不同位置的刻度標(biāo)尺，以確定培養(yǎng)基是否鋪設(shè)均勻。菌落培養(yǎng)完成后，將培養(yǎng)皿置
于紫外光下照射，底部熒光刻度標(biāo)示即可呈現(xiàn)出來，試驗(yàn)人員直接以肉眼按照熒光同心圓
及其角度標(biāo)示對菌落擴(kuò)散區(qū)域進(jìn)行定位，并按照熒光方孔數(shù)目對其面積進(jìn)行估算。 本實(shí)用新型的皿底和皿蓋的形狀不限于圓柱形，所有刻度標(biāo)示方式不限于同心
圓、方孔、垂直標(biāo)尺，不論出現(xiàn)形狀各異、大小各異、高低各異、標(biāo)尺方式各異的培養(yǎng)皿，均在
本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求一種熒光定量培養(yǎng)皿，由皿底和皿蓋組成，其特征在于所述皿底為圓柱形，其四周環(huán)繞平均間隔為90度的4個垂直刻度標(biāo)尺，皿底底部設(shè)有以熒光顏料刻劃，并參照皿底圓心的擴(kuò)散同心圓及邊長均等的方孔刻度標(biāo)尺；皿蓋為圓柱形，皿蓋外徑大于皿底內(nèi)徑，培養(yǎng)細(xì)菌時(shí)，皿蓋蓋在皿底上面。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的熒光定量培養(yǎng)皿，其特征在于皿底底部及四周設(shè)有刻度標(biāo)尺。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的皿底底部刻度標(biāo)尺，其特征在于所述皿底底部刻度標(biāo)尺為 熒光顏料刻劃。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種培養(yǎng)皿，特別是一種皿底四周和底部設(shè)有刻度標(biāo)尺的培養(yǎng)皿，其由皿底和皿蓋組成，所述皿底為圓柱形，其四周環(huán)繞平均間隔為90度的4個垂直刻度標(biāo)尺，皿底底部設(shè)有以熒光顏料刻劃，并參照皿底圓心的擴(kuò)散同心圓及邊長均等的方孔刻度標(biāo)尺；皿蓋為圓柱形，皿蓋外徑大于皿底內(nèi)徑，培養(yǎng)細(xì)菌時(shí)，皿蓋蓋在皿底上面。本培養(yǎng)皿使用成本低，減少了試驗(yàn)工作量，雖然結(jié)構(gòu)簡單，但其應(yīng)用普遍，具有一定的經(jīng)濟(jì)效益和社會效益。
文檔編號C12M1/22GK201501871SQ20092024248
公開日2010年6月9日 申請日期2009年10月8日 優(yōu)先權(quán)日2009年10月8日
發(fā)明者劉江, 陳興福 申請人:劉江;陳興福