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      X射線防散射光柵及其制造方法

      文檔序號(hào):916490閱讀:305來(lái)源:國(guó)知局
      專(zhuān)利名稱:X射線防散射光柵及其制造方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及一種用堆疊的板條制造防散射光柵的方法以及所屬的X射線防散射光柵。
      背景技術(shù)
      在X射線成像技術(shù)中,對(duì)于X射線照片的圖像質(zhì)量具有高要求。為進(jìn)行例如特別地在醫(yī)療X射線診斷中所執(zhí)行的此類(lèi)拍攝,待檢查對(duì)象被近似于點(diǎn)狀的X射線源的X射線輻射透射。在該對(duì)象的與X射線源對(duì)置的一側(cè)上的X射線輻射的衰減分布被二維地檢測(cè)。也可以例如在計(jì)算機(jī)斷層成像設(shè)備中逐行地檢測(cè)被該對(duì)象衰減的X射線輻射。作為X射線檢測(cè)器,除X射線膠片和氣體檢測(cè)器之外,日益使用了固體檢測(cè)器,所述固體檢測(cè)器通常具有矩陣形布置的光電半導(dǎo)體部件作為光電接收器。X射線照片的每個(gè)圖像點(diǎn)應(yīng)在理想情況下對(duì)應(yīng)于X射線輻射在從點(diǎn)狀X射線源到檢測(cè)器面的對(duì)應(yīng)于圖像點(diǎn)的位置的直線軸線上由 于該對(duì)象導(dǎo)致的衰減。從點(diǎn)狀X射線源在此軸線上直線地到達(dá)X射線檢測(cè)器的X射線射線被稱為初級(jí)射線。但是,由X射線源發(fā)出的X射線輻射在該對(duì)象內(nèi)由于不可避免的相互作用而被散射,使得在檢測(cè)器上除初級(jí)射線之外也出現(xiàn)了散射射線,即所謂的次級(jí)射線。此散射射線取決于該對(duì)象的特征在診斷圖像中可能導(dǎo)致X射線檢測(cè)器的總信號(hào)調(diào)制(Aussteuerung)的超過(guò)90%,因而是噪聲源且降低了對(duì)于精細(xì)對(duì)比度差異的可識(shí)別性。為降低在檢測(cè)器上出現(xiàn)的散射輻射分量,因此在該對(duì)象和檢測(cè)器之間插入了所謂的防散射光柵。防散射光柵包括規(guī)則地布置的、吸收X射線輻射的結(jié)構(gòu),其間形成了使初級(jí)輻射盡可能未被衰減地通過(guò)的通過(guò)通道或通過(guò)縫隙。在聚焦的防散射光柵的情況中,此通過(guò)通道或通過(guò)縫隙根據(jù)距點(diǎn)狀X射線源的距離,即根據(jù)距X射線管的焦點(diǎn)的距離對(duì)準(zhǔn)焦點(diǎn)。在非聚焦防散射光柵的情況中,通過(guò)通道或通過(guò)縫隙在防散射光柵的整個(gè)面上垂直于其表面定向。但這在圖像照片的邊緣上導(dǎo)致初級(jí)輻射的明顯的損失,因?yàn)樵诖宋恢?,入射的初?jí)輻射的很大部分出現(xiàn)在防散射光柵的吸收區(qū)域內(nèi)。為實(shí)現(xiàn)高的圖像質(zhì)量,對(duì)于X射線防散射光柵提出了很高的要求。散射射線一方面應(yīng)盡可能被良好地吸收,而另一方面應(yīng)使初級(jí)輻射的盡可能高的成分未被衰減地通過(guò)防散射光柵。在檢測(cè)器面上出現(xiàn)的散射射線成分的降低可通過(guò)防散射光柵的高度與通過(guò)通道或通過(guò)縫隙的厚度或直徑的大的比值實(shí)現(xiàn),即通過(guò)高的柵高比一也稱為縱橫比一實(shí)現(xiàn)。為制造用于X射線輻射的防散射光柵,存在不同的技術(shù)和相應(yīng)的實(shí)施形式。因此,例如在專(zhuān)利文獻(xiàn)DE10241424A1中描述了不同的制造方法和防散射光柵的設(shè)計(jì)。例如,已知由鉛條和紙條設(shè)置的層狀防散射光柵。鉛條用于吸收次級(jí)輻射,而位于鉛條之間的紙條形成了用于初級(jí)輻射的通過(guò)縫隙。替代地,也可以使用鋁代替紙,以此使制造過(guò)程的成本更低。紙光柵使用例如具有低衰減的紙作為間隙或窗。鋁光柵使用鋁作為間隙或窗,具有與紙相比明顯更高的衰減。鋁光柵的優(yōu)點(diǎn)是可通過(guò)簡(jiǎn)單的過(guò)程步驟制造,且在故障時(shí)可在單獨(dú)的過(guò)程步驟中維修,以此使制造時(shí)的利潤(rùn)更大。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是給出用于防散射光柵的另外的制造方法以及帶有更低衰減的所屬的防散射光柵。根據(jù)本發(fā)明,所提出的技術(shù)問(wèn)題以本發(fā)明所述的用于制造防散射光柵的方法及有關(guān)防散射光柵解決。本發(fā)明基于如下構(gòu)思,即使用由層壓件制成的板條來(lái)制造防散射光柵?!皩訅杭敝赣蓛蓚€(gè)或多個(gè)平面的相互粘合的層構(gòu)成的材料或產(chǎn)品。這些層可由相同或不同的材料制成。層壓件的制造稱為“層壓”。層為鋁、塑料或紙和鉛。通過(guò)沖壓和壓制或拼合層壓件板條而形成了 X射線防散射光柵。
      本發(fā)明請(qǐng)求保護(hù)一種通過(guò)沖壓板條來(lái)制造用于X射線輻射的防散射光柵的方法,其中,板條由層壓件切割而來(lái)的,所述層壓件包括第一層、第二層和第三層。第一層由吸收X射線輻射的第一材料制成,且第二層由可透射X射線輻射的第二材料形成。本發(fā)明所提供的優(yōu)點(diǎn)是可使用降低了防散射光柵的衰減的、可強(qiáng)烈透射X射線輻射的第二材料,然而在將板條切割成條時(shí)仍在第三層內(nèi)形成對(duì)于拼合所述板條起重要作用的脊部。在本方法的一種擴(kuò)展中,第一材料可以是鉛且第二材料可以是塑料或紙。在另一種擴(kuò)展中,第三層可由可透射X射線輻射的第三材料形成。另外,第二材料可以是招。優(yōu)選地,第一層的厚度為20 μ m,第二層的厚度為80 μ m至300 μ m,且第三層的厚度為10 μ m。在另外的實(shí)施形式中,第三層可由吸收X射線輻射的第三材料形成。優(yōu)選地,第二材料是鉛。此外,第一層的厚度為ΙΟμπι,第二層的厚度為80μπι至300μπι,且第三層的厚度為 10 μ m。本發(fā)明也請(qǐng)求保護(hù)一種由經(jīng)沖壓的板條形成的用于X射線輻射的防散射光柵,其中,板條由層壓件制成,所述層壓件包括由吸收X射線輻射的第一材料制成的第一層,由可透射X射線的第二材料制成的第二層和第三層。


      本發(fā)明的另外的特征和優(yōu)點(diǎn)從如下根據(jù)示意圖的多個(gè)實(shí)施例的解釋中可見(jiàn)。在附圖中圖I示出了制造方法的流程圖,和圖2示出了用于制造防散射光柵的板條的橫截面。
      具體實(shí)施例方式圖I示出了根據(jù)本發(fā)明的防散射光柵的制造的流程圖。在方法步驟100中制造層壓件3,這通過(guò)將由吸收X射線輻射的第一材料7 (例如鉛或鎢)制成的薄膜狀的第一層4、由可透射X射線的第二材料8 (例如塑料或紙)制成的薄膜狀的第二層5以及由第三材料9制成的第三層6相連接來(lái)實(shí)現(xiàn)。第三層6比第二層5更硬。第三材料3可以是可透射X射線的材料,例如鋁,或不可透射X射線的材料,例如鉛。在爐11內(nèi)將三個(gè)層4、5、6層壓,即相互平面地粘合。在塑料材料5作為第二層時(shí),所述塑料材料5已具有粘合劑功能,另外則必須在拼合層4、5、6時(shí)涂覆作為連接層的粘合劑。層4、5、6的厚度由參考圖2的描述可見(jiàn)。在步驟101中,層壓件3以切割設(shè)備2切割為板條2。板條2的尺寸例如為50cm*4cm,且厚度為130μπι至330μπι。在步驟102中,以沖壓設(shè)備13沖壓板條2,其中,可調(diào)節(jié)所要求的聚焦方向。在切割板條2時(shí)形成在第三層6中的脊部10在拼合板條2時(shí)被壓向相鄰的第一層4且因此將板條2以可拆卸的方式相互固定。如果在切割時(shí)不形成脊部10,則所述脊部10也可通過(guò)隨后的壓花而形成。脊部2的高度僅約0.5 μ m。然后,在步驟103中以X射線輻射14檢驗(yàn)焦點(diǎn)。如果確定了誤差,則板條2可相互松開(kāi)且再次被沖壓和拼合。在步驟104中將已拼合的經(jīng)沖壓的板條15涂覆以環(huán)氧樹(shù)脂,且在步驟105中在爐 11中對(duì)其進(jìn)行加熱,使得經(jīng)沖壓的板條15相互固定地粘結(jié)。在步驟106中,從經(jīng)沖壓的板條15以切割設(shè)備12切割出防散射光柵I。然后,在步驟107中打磨防散射光柵I的表面。在步驟108中,為光棚I提供殼體17,并且隨后在步驟109中最后以X射線福射14測(cè)試。帶有鋁層和鉛層的層壓件的使用在塑料中間層的情況下實(shí)現(xiàn)了塑性鋁變形(形成脊部)。在圖2中示出了通過(guò)根據(jù)本發(fā)明的防散射光柵的板條2的橫截面??梢?jiàn)第一層4、第二層5和第三層6。第一層4由鉛制成且厚度為大致20 μ m。第二層5由塑料制成且厚度為100 μ m至300 μ m。第三層6由鋁制成且厚度大致為10 μ m。替代地,第三層6可由鉛制成。則第一層4以及第三層6厚度分別為10 μ m。附圖標(biāo)號(hào)列表I防散射光柵2 板條3層壓件4 第一層5 第二層6第三層7第一材料8第二材料9第三材料10 脊部11 爐12切割設(shè)備13沖壓設(shè)備14X射線輻射15經(jīng)沖壓的板條216打磨設(shè)備
      17 殼體100 層壓101切割板條102 沖壓103測(cè)試焦點(diǎn)104 粘合105 加熱106切割光柵 107 打磨108提供殼體109最后測(cè)試
      權(quán)利要求
      1.一種通過(guò)沖壓(100)板條(2)來(lái)制造用于X射線輻射的防散射光柵(I)的方法,其特征在于,板條(2)是從層壓件(3)切割(101)而來(lái)的,所述層壓件(3)包括第一層(4)、第二層(5)和第三層(6),其中,第一層(4)由吸收X射線輻射的第一材料(7)制成,而第二層(5)由可透射X射線輻射的第二材料(8)形成。
      2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法,其特征在于,第一材料(7)是鉛,且第二材料(8)是塑料或紙。
      3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的方法,其特征在于,第三層(4)由可透射X射線的第三材料(9)形成。
      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于,第三材料(9)是鋁。
      5.根據(jù)權(quán)利要求I至4中一項(xiàng)所述的方法,其特征在于,第一層(4)的厚度為20μ m,第二層(5)的厚度為80 μ m至300 μ m,第三層(6)的厚度為10 μ m。
      6.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的方法,其特征在于,第三層(6)由吸收X射線輻射的材料(9)形成。
      7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其特征在于,第三材料(9)是鉛。
      8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的方法,其特征在于,第一層(4)的厚度為10μ m,第二層(5)的厚度為80μπι至300μπι,第三層(6)的厚度為10 μ m。
      9.一種由經(jīng)沖壓的板條(2)形成的用于X射線輻射的防散射光柵(1),其特征在于,板條(2)由層壓件(3)制成,所述層壓件(3)包括由吸收X射線輻射的第一材料(7)制成的第一層(4 )、由可透射X射線的第二材料(8 )制成的第二層(5 )和第三層(6 )。
      10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的防散射光柵(I),其特征在于,第一材料(7)是鉛,而第二材料(8)是塑料或紙。
      11.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的防散射光柵(I),其特征在于,第三層(6)由可透射X射
      12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的防散射光柵(1),其特征在于,第三材料(9)是鋁。
      13.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的防散射光柵(1),其特征在于,第一層(4)的厚度為20 μ m,第二層(5)的厚度為80μπι至300μπι,第三層(6)的厚度為10 μ m。
      14.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的防散射光柵(1),其特征在于,第三層(6)由吸收X射線輻射的材料(9)形成。
      15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法,其特征在于,第三材料(9)是鉛。
      16.根據(jù)權(quán)利要求14或15所述的方法,其特征在于,第一層(4)的厚度為10μ m,第二層(5)的厚度為80μπι至300μπι,第三層(6)的厚度為10 μ m。
      17.根據(jù)權(quán)利要求14或15所述的方法,其特征在于,吸收X射線輻射的材料分布在第一層(4)和第三層(6)上。
      全文摘要
      本發(fā)明給出了一種通過(guò)沖壓(100)板條(2)來(lái)制造用于X射線輻射的防散射光柵(1)的方法以及所屬的防散射光柵(1)。板條(2)是從層壓件(3)切割(101)而成的,所述層壓件(3)包括第一層(4)、第二層(5)和第三層(6),其中第一層(4)由吸收X射線輻射的第一材料(7)制成,且第二層(5)由可透射X射線輻射的第二材料(8)形成。本發(fā)明所提供的優(yōu)點(diǎn)是可使用降低了防散射光柵的衰減的可使X射線輻射強(qiáng)烈透射的第二材料。在將板條切割成條時(shí)仍在第三層內(nèi)形成對(duì)于拼合板條起重要作用的脊部。
      文檔編號(hào)A61B6/00GK102930917SQ201210280029
      公開(kāi)日2013年2月13日 申請(qǐng)日期2012年8月8日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月8日
      發(fā)明者M.貝克托爾德, P.斯特拉特納 申請(qǐng)人:西門(mén)子公司
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