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      電子束消毒裝置和消毒方法

      文檔序號:1246792閱讀:594來源:國知局
      電子束消毒裝置和消毒方法
      【專利摘要】一種用于薄壁容器(C)的電子束消毒裝置(1),配有輸入單元(40)或輸出單元(60),所述輸入單元或輸出單元設(shè)有回轉(zhuǎn)本體,以使一組容器(C)從外部環(huán)境進(jìn)入消毒室,反之亦然,避免來自所述消毒室的放射性輻射。
      【專利說明】電子束消毒裝置和消毒方法
      [0001]本發(fā)明涉及一種用于對薄壁容器進(jìn)行消毒的裝置,所述薄壁容器尤其是柔性容器,諸如那些用于容納高粘流體(dense fluids,稠密流體)特別是食品(諸如奶油、酸奶、蜂蜜、果汁、藥品等)的容器。
      [0002]在食品行業(yè)中,容器的消毒對于防止感染以及正確地保存其中容納的食品是非常重要的。
      [0003]有吋,進(jìn)行化學(xué)消毒,在消毒期間,用消毒劑(諸如過氧化氫)清洗容器,然后在送往后續(xù)充填操作之前進(jìn)行干燥。
      [0004]然而,化學(xué)消毒具有ー些缺點(diǎn),諸如在干燥容器中存在化學(xué)消毒劑的殘留或者由于容器的復(fù)雜或不規(guī)則幾何形狀而存在沒有被消毒的區(qū)域。這些缺點(diǎn)在薄壁柔性容器領(lǐng)域中尤其能感覺到。
      [0005]電子束消毒變得越來越廣泛。
      [0006]起初,電子束消毒的執(zhí)行限定于專門的中心,待處理的容器必須送往該中心并從該中心領(lǐng)取消毒后的容器,這相當(dāng)大地増加了運(yùn)輸成本和后勤工作。在這種中心中,通常使用大功率(500kV-10mV)電子炮,對于操作人員的安全性和環(huán)境污染都具有相關(guān)的影響。
      [0007]近來,由于形成了甚至在低壓(80_150kV)下也能有效地起作用的特別緊湊的電子炮,電子束消毒變得越來越流行。這種炮允許在容器生產(chǎn)車間中直接進(jìn)行電子束消毒,具有顯著的經(jīng)濟(jì)效益。
      [0008]本發(fā)明的目的是提供ー種尤其適于處理薄壁柔性容器的低壓電子束消毒裝置。
      [0009]根據(jù)本發(fā)明的消毒裝置的特征和優(yōu)點(diǎn)從以下描述中將顯而易見,以下描述參照附圖借助于非限制性實(shí)例進(jìn)行,附圖中:
      [0010]圖1和圖2示出了分別為充滿的和空的柔性薄壁容器的樣品;
      [0011]圖3示出了根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的消毒裝置的整體視圖;
      [0012]圖4是圖3中的消毒裝置的布局的示意圖;
      [0013]圖5示出了圖3中的消毒裝置的消毒組;
      [0014]圖5a示出了本發(fā)明中所定義的參考面和發(fā)射面的視圖;
      [0015]圖6示出了圖3中的消毒裝置的輸入單元;
      [0016]圖7示出了圖6中的輸入單元的水平橫截面視圖;
      [0017]圖8示出了圖6中的輸入單元沿著圖7中的剖面VII1-VIII截取的縱向截面視圖;
      [0018]圖9示出了圖3中的裝置的預(yù)消毒室;
      [0019]圖10示出了圖5中的消毒組的在輸入單元位置處的主室;
      [0020]圖11示出了圖5中的消毒組的輔助室;
      [0021]圖12a和圖12b示出了消毒系統(tǒng)的實(shí)施例的實(shí)例,所述消毒系統(tǒng)配有外部防輻射殼體,所述外部防輻射殼體分別處于閉合和打開配置中。
      [0022]根據(jù)附圖,參考標(biāo)號I整體表示用于薄壁柔性容器的低壓電子束消毒裝置。
      [0023]具體地,裝置I適于對容器C消毒,該容器包括由兩個(gè)或更多個(gè)柔性膜壁B’、B”形成的本體B,所述壁互相面對并接合,例如沿邊緣熔接,如果需要也具有結(jié)點(diǎn)側(cè)壁G,且設(shè)置有剛性材料的吸管A,該吸管裝配在本體B邊緣部分中,通常位于側(cè)壁之間。吸管A從本體沿著吸管軸線突出并可聯(lián)接于也是剛性材料的蓋帽。
      [0024]當(dāng)剛制成柔性容器且其為空的時(shí),本體特別薄(圖2),而當(dāng)充滿時(shí)本體呈現(xiàn)為膨脹(圖1)。
      [0025]對于空的容器C,沿著吸管軸線定義高度H,寬度W橫向于高度H以及薄壁的厚度T。
      [0026]在 申請人:名下的文獻(xiàn)EP-A1-1538105和US-D-552,483中示出了這種容器的ー個(gè)示例性實(shí)例;在也是 申請人:名下的文獻(xiàn)W0-A1-2008-050361中示出了具有蓋帽的吸管的一個(gè)示例性實(shí)例。 [0027]消毒裝置I包括:消毒組20,在消毒組中發(fā)生通過低壓電子束進(jìn)行的消毒;輸入單元40,用于將待處理的容器引入到消毒組20中;以及輸出単元60,用于從消毒組20排出處理后的容器。
      [0028]所述輸入?yún)g元40和所述輸出単元60還在其輸入和輸出處形成防止放射性發(fā)射(尤其是消毒組20內(nèi)部的電子束產(chǎn)生的X射線)泄漏的障礙物。
      [0029]輸入單元40包括具有前壁44a的外殼體42,在所述前壁中形成有入ロ 46a以供來自消毒裝置I上游的機(jī)器的待處理容器C進(jìn)入。
      [0030]類似地,外殼體42具有后壁44b,在所述后壁中形成有出ロ 46b以供待處理容器C進(jìn)入消毒組20中。
      [0031]外殼體42還包括底部48和罩殼50,優(yōu)選地配有可拆卸蓋52,以便進(jìn)入殼體的內(nèi)部。
      [0032]外殼體42還包括優(yōu)選為多邊形的側(cè)壁54。
      [0033]輸入單元40還包括回轉(zhuǎn)本體56,該回轉(zhuǎn)本體至少部分地容納于殼體42內(nèi)部的隔間中,根據(jù)指令在交替方向上或一直沿同一方向圍繞旋轉(zhuǎn)軸線K回轉(zhuǎn)。
      [0034]為此目的,輸入單元40配有驅(qū)動(dòng)裝置(諸如優(yōu)選地為無刷型電機(jī)58),連接至回轉(zhuǎn)本體56,優(yōu)選地位于殼體42的底部48的下方。例如,電機(jī)58通過穿過外殼體的底部48的軸60連接至回轉(zhuǎn)本體56。
      [0035]回轉(zhuǎn)本體56具有適于容納至少一個(gè)待處理容器的至少ー個(gè)承載座。具體地,該承載座可與殼體42的入口 46對準(zhǔn),以能夠承載待處理容器。
      [0036]優(yōu)選地,回轉(zhuǎn)本體56具有兩個(gè)承載座58,所述兩個(gè)承載座例如彼此徑向相對,可交替地與入口 46對準(zhǔn)。
      [0037]此外,通過按指令旋轉(zhuǎn),承載座58可與殼體的出ロ 46b對準(zhǔn),以便使待處理容器降落到消毒組20中。
      [0038]優(yōu)選地,當(dāng)一個(gè)承載座與出ロ 46b對準(zhǔn)時(shí),另ー個(gè)承載座與入ロ 46對準(zhǔn),從而從入ロ 46裝載待處理容器可以與從出ロ 46b清空其他容器同時(shí)進(jìn)行。
      [0039]回轉(zhuǎn)本體56還具有位于承載座之外的充填部,所述充填部占據(jù)在殼體中旋轉(zhuǎn)的回轉(zhuǎn)本體的操作區(qū),以便盡可能地防止或限制出現(xiàn)從消毒組20內(nèi)部通過輸入?yún)g元40向外的泄漏。
      [0040]例如,回轉(zhuǎn)本體56是堅(jiān)固的圓柱體,通常彼此徑向相対的承載座58位于該圓柱體內(nèi),該圓柱體具有從周邊朝著圓柱體內(nèi)部的徑向延伸部,以便限定圓柱形部段形式的操作空間的堅(jiān)固部分,所述堅(jiān)固部分輕擦殼體42的內(nèi)部隔間的表面。
      [0041]待處理容器從輸入?yún)g元20進(jìn)入消毒組20內(nèi)。
      [0042]為此目的,消毒裝置I包括提取裝置,該提取裝置適于提取容納在面向輸入單元40的出ロ 46b的承載座58中的容器。
      [0043]根據(jù)ー個(gè)優(yōu)選實(shí)施例,提取裝置包括提取引導(dǎo)件,該提取引導(dǎo)件例如由在輸入方向X上延伸的提取軌道140形成。
      [0044]例如,在承載座與出ロ 46b對準(zhǔn)時(shí),輸入方向X由承載座58產(chǎn)生,并且優(yōu)選地,是直線方向。
      [0045]容器通過相應(yīng)的吸管A從提取軌道140懸垂,并且提取裝置適于沿著輸入方向X在前進(jìn)方向IN上推動(dòng)吸管。
      [0046]為此目的,例如,提取裝置包括一對推動(dòng)器,所述推動(dòng)器具有位于提取軌道140兩側(cè)上的指部142,所述指部沿著輸入方向X隔開,沿著所述輸入方向交錯(cuò)。
      [0047]優(yōu)選地,推動(dòng)器由無刷電機(jī)驅(qū)動(dòng)。
      [0048]推動(dòng)器適于使指部142沿著輸入方向X在前進(jìn)方向IN上平移地移動(dòng),以便接合并推動(dòng)吸管,例如對應(yīng)于ー組容器。
      [0049]此外,推動(dòng)器具有提升和返回運(yùn)動(dòng),當(dāng)推動(dòng)器完成其前進(jìn)行程時(shí),進(jìn)行該提升和返回運(yùn)動(dòng),以便從一排懸掛的容器上方經(jīng)過并返回,以提取容納在裝載單元40的承載座58中的另ー些容器并使它們前迸。
      [0050]簡而言之,根據(jù)所示出的實(shí)施例,所述提取裝置執(zhí)行“跳躍”運(yùn)動(dòng),在跳躍運(yùn)動(dòng)中,兩個(gè)推動(dòng)器的指部沿著輸入方向X交替地推動(dòng)每組容器。
      [0051]根據(jù)ー個(gè)優(yōu)選實(shí)施例,裝置I包括預(yù)消毒室50,所述預(yù)消毒室屏蔽X射線的泄漏,在輸入方向X上延伸,位于裝載単元40的下游且位于消毒組20的上游。
      [0052]例如,提取裝置位于該預(yù)消毒室中。
      [0053]消毒組20包括外殼體22,該外殼體內(nèi)部限定有包括主室的消毒室。具體地,外殼體22的側(cè)壁26具有用于來自輸入單元40的容器(所述容器通過提取裝置移動(dòng))的入口。
      [0054]主室24主要在第一消毒方向Y (優(yōu)選地為直線)上延伸。
      [0055]優(yōu)選地,第一消毒方向Y相對于輸入方向X傾斜,優(yōu)選地與輸入方向正交。
      [0056]另外,預(yù)消毒室50有助于防止X射線從輸入?yún)g元40泄漏。
      [0057]消毒組20還包括至少ー個(gè)適于發(fā)射電子云以對容器進(jìn)行消毒的電子炮。
      [0058]對于電子炮,定義了電子云的發(fā)射錐和限定這種發(fā)射錐的發(fā)射軸線。
      [0059]例如,組20包括具有相應(yīng)發(fā)射軸線E1、E2的兩個(gè)電子炮28a、28b。
      [0060]優(yōu)選地,發(fā)射軸線El、E2位于同一水平面上或位干與水平面平行的不同平面上。
      [0061]炮28a、28b順序地沿第一消毒方向Y設(shè)置,在主室24中面對彼此且彼此相對設(shè)置。
      [0062]炮28a、28b在以下意義上順序地設(shè)置,即,容器首先被第一炮發(fā)射的電子云撞擊,然后被第二炮發(fā)射的電子云撞擊,或者僅在過渡區(qū)中,它們同時(shí)經(jīng)歷前一炮的電子云以及下一炮的電子云。
      [0063]消毒組20還包括沿著主室24的容器支撐裝置,該支撐裝置適于在第一消毒方向Y支撐所述容器。
      [0064]例如,所述支撐裝置包括第一軌道30,該第一軌道沿第一消毒方向Y延伸,容器例如通過吸管A從第一軌道懸垂。
      [0065]消毒組20還包括第一容器前進(jìn)裝置,適于在第一消毒方向上移動(dòng)容器。
      [0066]為了將方向從輸入方向X改變?yōu)榈谝幌痉较験,第一提取裝置與前進(jìn)裝置聯(lián)合作用。
      [0067]具體地,例如,提取裝置包括位于ー對軌道140的端部處的滾筒凸輪,所述滾筒凸輪適于將容器推動(dòng)到主室24中,在主室中容器與第一前進(jìn)裝置接合。
      [0068]例如,所述第一前進(jìn)裝置包括旋轉(zhuǎn)體元件(rotor element,轉(zhuǎn)子元件)32,其軸線沿著第一消毒方向Y延伸,該旋轉(zhuǎn)體元件能夠旋轉(zhuǎn)以便沿所述方向Y推動(dòng)容器。
      [0069]例如,旋轉(zhuǎn)體元件32越過第一軌道30并與容器C的吸管A的從第一軌道30突出的頂部接合,以沿第一消毒方向Y推動(dòng)容器。
      [0070]優(yōu)選地,另外,消毒組20還包括適于在第一消毒方向Y上引導(dǎo)容器本體的引導(dǎo)裝置。
      [0071]例如,所述引導(dǎo)裝置包括沿第一消毒方向Y延伸的一對螺紋狀引導(dǎo)件34,所述引導(dǎo)件位于第一軌道30下方并且隔開,使得容器C的本體B位于它們之間。由于引導(dǎo)件34彼此緊密,所以限制或防止了容器的振動(dòng)。
      [0072]消毒組20的消毒室還包括沿第二消毒方向Z延伸的輔助室36,第二消毒方向相對于第一消毒方向Y入射(inciden·t,相交),例如,優(yōu)選地與之正交。
      [0073]旋轉(zhuǎn)體兀件32沿第一消毒方向Y推動(dòng)容器直到第一軌道30的端部,此處,第一前進(jìn)裝置與第二前進(jìn)裝置配合,以將前進(jìn)方向從第一消毒方向Y改變?yōu)榈诙痉较騔。
      [0074]第二前進(jìn)裝置適于使容器沿第二消毒方向移動(dòng)。
      [0075]此外,消毒組20包括適于沿第二消毒方向Y支撐容器的第二支撐裝置。
      [0076]例如,第二支撐裝置包括從第一軌道30終止的區(qū)域沿第二消毒方向Z延伸的第二軌道150,適于例如通過吸管A從所述第二軌道懸掛容器C。
      [0077]在第一軌道30與第二軌道150之間的過渡區(qū)中,第二前進(jìn)裝置包括適于沿第二消毒方向Z以交替的平移運(yùn)動(dòng)移動(dòng)的推動(dòng)器152。
      [0078]例如通過經(jīng)由皮帶或鏈條連接至旋轉(zhuǎn)體元件32的旋轉(zhuǎn)凸輪154,推動(dòng)器152的運(yùn)動(dòng)與旋轉(zhuǎn)體32的運(yùn)動(dòng)同步。
      [0079]當(dāng)容器C被旋轉(zhuǎn)體元件32留在第一軌道30的端部處時(shí),第二推動(dòng)器152沿著第二軌道102推動(dòng)所述容器。
      [0080]由于另一容器尾部的順序插入,從第二軌道150懸垂的容器沿第二消毒方向Z行進(jìn),也就是說,使得順序的容器沿前進(jìn)方向向前推動(dòng)位于它之前的容器的尾部。
      [0081]根據(jù)ー個(gè)實(shí)施例變型(未示出),第二前進(jìn)裝置適于單獨(dú)地接合容器組,以使容器組在第二消毒方向Z移動(dòng);例如,所述第二前進(jìn)裝置在結(jié)構(gòu)和功能上類似于第一前進(jìn)裝置。
      [0082]消毒組20還包括另ー電子炮28c,諸如沿著第二消毒方向Z設(shè)置的第三炮28c,其具有相對于水平面入射的發(fā)射軸線E3,優(yōu)選地與之正交。換句話說,第三炮設(shè)置成使得發(fā)射軸線E3平行于正在處理的容器的吸管A的軸線。
      [0083]因此,很顯然,第一消毒方向Y和第二消毒方向Z—起限定了沿著消毒室的消毒路徑。
      [0084]消毒裝置I還包括連接于輔助室36的輸出單元60,該輸出単元相對于正在處理的容器的前進(jìn)方向位于第三炮28c的下游。
      [0085]優(yōu)選地,輸出單元60在結(jié)構(gòu)和功能上類似于輸入單元40。
      [0086]處理后的容器從消毒組20經(jīng)過,具體地,從其輔助室36到輸出單元60并從輸出単元到裝置I的外部。
      [0087]消毒裝置還包括適于將預(yù)定數(shù)量的容器C從輔助室36裝載到輸入?yún)g元的承載座上的裝載裝置。
      [0088]優(yōu)選地,所述裝載裝置包括具有類似于以上所述的“跳躍”運(yùn)動(dòng)的推動(dòng)器。
      [0089]根據(jù)ー個(gè)優(yōu)選實(shí)施例,裝置I包括后消毒室55,所述后消毒室屏蔽X射線的泄漏,沿第二消毒方向Z延伸,位于消毒組的下游且位于輸出単元60的上游。
      [0090]例如,裝載裝置容納于該后消毒室中。
      [0091]后消毒室還有助于防止X射線從輸出単元60泄漏。
      [0092]進(jìn)入輸入單元40的容器Cl以壁彼此面對的方式一個(gè)接ー個(gè)地對準(zhǔn);也就是說,容器Cl以列的方式面對。
      [0093]容器Cl移動(dòng),使得ー個(gè)或多個(gè)容器C2容納于輸入單元40的承載座58中。當(dāng)容納于承載座中的容器的數(shù)量達(dá)到預(yù)定數(shù)量吋,回轉(zhuǎn)本體56旋轉(zhuǎn),以使容納有容器C2的承載座58與出口 46b對準(zhǔn),并且優(yōu)選地,另ー個(gè)空的承載座58與入ロ 46a對準(zhǔn),以便進(jìn)行下一次裝載。
      [0094]容納在與出ロ 46b對準(zhǔn)的承載座58中的容器C3移動(dòng),以便沿著輸入方向X前行,然后沿著第一消毒方向Y偏離。
      [0095]具體地,容器C4跨過主室20,所述容器沿第一消毒方向Y —個(gè)接ー個(gè)地對準(zhǔn),即,成排地面對。
      [0096]在第一消毒方向Y上,容器C4通過第一炮28a和第二炮28b經(jīng)歷第一次消毒,第ー炮和第二炮的發(fā)射軸線El、E2基本上位于水平面上。
      [0097]在第一消毒方向Y上,容器C4成排地設(shè)置,使得本體B的壁B’、B”位于電子炮28a、28b的發(fā)射錐的前方。換句話說,容器C4的本體B基本上共面且位于其發(fā)射軸線E1、E2所入射的ー個(gè)平面上。
      [0098]這種布置允許對容器C4的本體B的壁B’、B”進(jìn)行極好的消毒,并且如果需要,也對所設(shè)置的結(jié)點(diǎn)側(cè)壁G進(jìn)行極好的消毒。
      [0099]在第二炮28b的下游,正在處理的容器從第一消毒方向Y偏離至第二消毒方向Z,并且同時(shí)沿著第二消毒方向移動(dòng),以便進(jìn)入和經(jīng)過輔助室36。
      [0100]具體地,容器C5跨過輔助室36,所述容器以壁彼此面對的方式一個(gè)接ー個(gè)地對準(zhǔn);也就是說,容器C5以列的方式面對。
      [0101]在第二消毒方向Z上,容器C5通過第三電子炮28c經(jīng)歷第二次消毒,第三電子炮的發(fā)射軸線E3相對于水平面入射,優(yōu)選地相對于水平面正交。
      [0102]在第二消毒方向Z上,容器C5成列地設(shè)置,使得容器的吸管A的軸線基本上平行于第三炮28c的發(fā)射錐的發(fā)射軸線。
      [0103]這種布置允許對容器C的吸管A進(jìn)行極好的消毒。[0104]容器C5移動(dòng),以使得ー個(gè)或多個(gè)容器C6容納于輸出單元60的承載座中。當(dāng)容納于承載座中的容器的數(shù)量達(dá)到預(yù)定數(shù)量吋,回轉(zhuǎn)本體旋轉(zhuǎn),以使容納有容器C6的承載座與出ロ對準(zhǔn),并且優(yōu)選地,另一空的承載座與入口對準(zhǔn),以便進(jìn)行下一次裝載。
      [0105]容納在與出ロ對準(zhǔn)的承載座中的容器C7移動(dòng)至消毒裝置的外部。
      [0106]在消毒期間容器前進(jìn)方向的改變可以使容器的部分暴露于電子束的時(shí)間最優(yōu)。
      [0107]具體地,在第一消毒方向Y上,容器C4成排地面對,并且由于電子炮28a、28b的布置,在本體B的非常薄的壁B’、B”上的消毒尤其有效。容器C的寬度尺寸W決定了所述容器在炮28a、28b的發(fā)射錐下經(jīng)歷的傳輸時(shí)間。
      [0108]在第二消毒方向Z上,容器C5成列地面對,并且由于電子炮28c的布置,在吸管A內(nèi)部的消毒尤其有效。容器C的厚度尺寸T決定了所述容器在炮28c的發(fā)射錐下經(jīng)歷的傳輸時(shí)間。
      [0109]由于容器C的寬度W比容器的厚度T大得多(這也是它們被稱為薄壁容器的原因),所以針對相關(guān)需要,經(jīng)歷第一次消毒比經(jīng)歷第二次消毒少得多,這是由于容器的壁比吸管需要更少持續(xù)時(shí)間的消毒。
      [0110]通常,沿著消毒路徑(沿著該消毒路徑,限定了彼此分離且相對于所述消毒路徑入射的第一參考面Prl和另ー參考面Pr3,)第一電子炮28a具有位于第一參考面Prl上的發(fā)射軸線E1,并且另一電子炮28c具有位于另ー參考面Pr3上的發(fā)射軸線E3。不同于第一炮28a的發(fā)射軸線El,另ー炮 28c的發(fā)射軸線E3相對于消毒路徑傾斜。
      [0111]因此,容器C可在不同方向上被消毒,以使電子云在容器的不同區(qū)域上的作用最優(yōu)。
      [0112]優(yōu)選地,另外,消毒系統(tǒng)100包括:消毒裝置;支撐結(jié)構(gòu)102,所述裝置位于該支撐結(jié)構(gòu)上,例如離開地面;以及外殼體104,所述裝置容納在外殼體中,該外殼體適于用作輻射泄漏的屏障。
      [0113]外殼體104包括鉛制的側(cè)壁,這屏蔽任何輻射。
      [0114]殼體104配有一對支座108,所述支座形成于側(cè)壁中,位于輸入?yún)g元和輸出單元的位置處。
      [0115]在封閉結(jié)構(gòu)中,所述單元突出到殼體104的外部,以允許待消毒的容器進(jìn)入或允許消毒后的容器出來。
      [0116]優(yōu)選地,另外,結(jié)構(gòu)102包括多個(gè)支柱106,殼體104在支柱上滑動(dòng),以降低到裝置I上并容納該裝置,或者升高以允許例如維修操作。
      [0117]新穎地,根據(jù)本發(fā)明的低壓電子束消毒裝置尤其適于處理薄壁柔性容器。
      [0118]有利地,根據(jù)本發(fā)明的裝置適于直接并入生產(chǎn)車間中,這是因?yàn)槠溥m應(yīng)現(xiàn)有法律極大地限制了輻射的泄漏。
      [0119]具體地,根據(jù)本發(fā)明的裝置的設(shè)計(jì)遵循被稱為“3反彈規(guī)則(3bounCe rule)”的實(shí)際設(shè)計(jì)規(guī)則,根據(jù)該規(guī)則,由電子炮輻射的任何射線在從殼體出來之前必須在殼體的內(nèi)壁反彈三次,從而使所保有的能量實(shí)際具有零值。
      [0120]此外,有利地,使得待消毒的容器的暴露時(shí)間最優(yōu),使得暴露時(shí)間根據(jù)待消毒部件的需求而不同。
      [0121]很顯然,本領(lǐng)域技術(shù)人員可以對以上所述的裝置進(jìn)行改迸。[0122]例如,根據(jù)ー個(gè)實(shí)施例變型,用于第二次消毒的電子炮與用于第一次消毒的電子炮位于ー個(gè)平面上,而在第一次消毒之后,使得容器以如下方式旋轉(zhuǎn),即,使得能夠?qū)⑵渥陨矶ㄎ怀墒刮芷叫杏谟糜诘诙蜗镜碾娮优诘陌l(fā)射軸線。
      [0123]根據(jù)另ー實(shí)施例變型,輸入單元和/或輸出單元具有例如等角度地設(shè)置的多于兩個(gè)的承載座。
      [0124]根據(jù)再ー實(shí)施例,第一次消毒通過單個(gè)電子炮來進(jìn)行。
      [0125]根據(jù)又ー實(shí)施例,第二次消毒通過兩個(gè)或更多個(gè)電子炮來進(jìn)行。
      [0126]此外,根據(jù)ー個(gè)實(shí)施例變型,輸入單元和/或輸出單元的回轉(zhuǎn)本體執(zhí)行90°的旋轉(zhuǎn),以使所承載的容器對準(zhǔn)以便于離開。
      [0127]根據(jù)另ー實(shí)施例變型,用于驅(qū)動(dòng)回轉(zhuǎn)本體的電機(jī)通過電影鏈(cinematic chain,膠片狀鏈)連接至回轉(zhuǎn)本體。
      [0128]這些變型也包含在所附`權(quán)利要求所限定的保護(hù)范圍內(nèi)。
      【權(quán)利要求】
      1.用于薄壁容器(C)的利用電子束的消毒裝置(1),包括: -輸入單元(40),屏蔽電子束所產(chǎn)生的放射性輻射; -消毒組(20),具有內(nèi)部消毒室,被連接在所述輸入?yún)g元(40)的下游以便密封放射性輻射,包括適于在所述消毒室中發(fā)射電子束的至少ー個(gè)電子炮(28a,28b,28c); 其中,所述輸入?yún)g元(40)包括按指令圍繞旋轉(zhuǎn)軸線回轉(zhuǎn)的回轉(zhuǎn)本體(56),所述回轉(zhuǎn)本體配有至少ー個(gè)承載座(58),以將預(yù)定數(shù)量的容器(C)從外部環(huán)境送到所述消毒室,從而避免來自所述消毒室的放射性輻射。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其中,所述回轉(zhuǎn)本體(56)配有至少兩個(gè)成角度隔開的承載座(58)。
      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置,其中,所述承載座相對于所述回轉(zhuǎn)本體的旋轉(zhuǎn)軸線徑向相對地設(shè)置。
      4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置,其中,所述消毒室包括沿第一消毒軸線(Y)延伸的主室(24)以及沿第二消毒軸線(Z)延伸的輔助室(36),所述第二消毒軸線相對于所述第一消毒軸線(Y)入射,例如與所述第一消毒軸線正交。
      5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置,包括預(yù)消毒室(50),所述預(yù)消毒室位于所述裝載單元(40)的下游且位于所述消毒組(20)的上游,所述預(yù)消毒室沿輸入軸線(X)延伸,所述輸入軸線相對于所述第一消毒軸線(Y)入射,例如與所述第一消毒軸線正交。
      6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的裝置,包括后消毒室(55),所述后消毒室位于所述消毒組(20)的下游,所述后消毒室沿與所述第二消毒軸線(Z)重合的輸出軸線延伸。
      7.根據(jù)權(quán)利要求4至6中任一項(xiàng)所述的裝置,其中,第一炮(28a)沿著所述第一消毒軸線(Y)設(shè)置。
      8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置,其中,另ー炮(28c)沿著所述第二消毒軸線(Z)設(shè)置。
      9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的裝置,其中,第二炮(28c)沿著所述第一消毒軸線(Y)設(shè)置。
      10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置,其中,所述另ー炮(28c)的發(fā)射軸線(E3)以與所述第ー炮(28a)的發(fā)射軸線(El)不同的方式相對于所述第二消毒方向(Z)傾斜。
      11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的裝置,其中,所述第二炮(28b)的發(fā)射軸線(E2)位于由所述第一炮(28a)的發(fā)射軸線(El)以及由所述第一消毒方向限定的發(fā)射面(Pel)上,所述第二炮相對于所述第一消毒方向(Y)位干與所述第一炮(28a)相對的側(cè)上。
      12.根據(jù)權(quán)利要求4至11中任一項(xiàng)所述的裝置,包括: -第一支撐裝置,沿著所述第一消毒方向(Y)設(shè)置,適于引導(dǎo)所述容器(C),使得所述容器成排地彼此并排設(shè)置;以及 -第二支撐裝置,沿著所述第二消毒方向(Z)設(shè)置,適于引導(dǎo)所述容器(C),使得所述容器成列地一個(gè)接ー個(gè)地設(shè)置。
      13.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置,包括輸出單元(60),所述輸出単元包括按指令圍繞旋轉(zhuǎn)軸線回轉(zhuǎn)的回轉(zhuǎn)本體(56),所述回轉(zhuǎn)本體配有至少ー個(gè)承載座(58),以將預(yù)定數(shù)量的容器(C)從所述消毒室送到外部環(huán)境,避免來自所述消毒室的放射性輻射。
      14.對薄壁容器(C)消毒的方法,包括以下步驟: -將待處理的容器(C)裝載到輸入單元(40)的回轉(zhuǎn)本體(62)的承載座(58)中;-使所述回轉(zhuǎn)本體旋轉(zhuǎn),以使所述容器(C)進(jìn)入消毒室中; -從面對所述消毒室的承載座提取所述容器并使所述容器沿著所述消毒室前進(jìn); -通過電子炮發(fā)射電子云到所述消毒室中; -通過所述電子云使所述容器經(jīng)歷消毒。
      15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法,包括以下步驟: -將消毒后的所述容器(C)裝載到輸出単元(60)的回轉(zhuǎn)本體(62)的承載座(58)中,所述承載座面向所述消毒室; -使所述回轉(zhuǎn)本體旋轉(zhuǎn),以使外部環(huán)境中的容器(C)進(jìn)入所述消毒室; -從面向所述外部環(huán)境的所述承載座提取所述容器。
      16.用于薄壁容器(C)的電子束消毒裝置(I),包括: -輸出單元(60),屏蔽電子束所產(chǎn)生的放射性輻射; -消毒組(20),具有內(nèi)部消毒室,被連接在所述輸出単元(60)上游以便密封放射性輻射,包括適于在所述消毒 室中發(fā)射電子束的至少ー個(gè)電子炮(28a,28b,28c); 其中,所述輸出単元(60)包括按指令圍繞旋轉(zhuǎn)軸線回轉(zhuǎn)的回轉(zhuǎn)本體(62),所述回轉(zhuǎn)本體配有至少ー個(gè)承載座(58),以將預(yù)定數(shù)量的容器(C)從所述消毒室送到外部環(huán)境,避免來自所述消毒室的放射性輻射。
      17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的裝置,其中,所述回轉(zhuǎn)本體(62)配有至少兩個(gè)成角度隔開的承載座(58)。
      18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的裝置,其中,所述承載座相對所述回轉(zhuǎn)本體的旋轉(zhuǎn)軸線徑向相對地設(shè)置。
      19.根據(jù)權(quán)利要求16至18中任一項(xiàng)所述的裝置,其中,所述消毒室包括沿第一消毒軸線(Y)延伸的主室(24)以及沿第二消毒軸線(Z)延伸的輔助室(36),所述第二消毒軸線相對于所述第一消毒軸線(Y)入射,例如與所述第一消毒軸線正交。
      20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的裝置,包括后消毒室(55),所述后消毒室位于所述輸出單元(60)的上游且位于所述消毒組(20)的下游,所述后消毒室沿與所述第二消毒軸線(Z)重合的輸出軸線延伸。
      21.根據(jù)權(quán)利要求19或20所述的裝置,包括預(yù)消毒室(50),所述預(yù)消毒室位于所述消毒組(20)的上游,所述預(yù)消毒室沿輸入軸線(X)延伸,所述輸入軸線相對于所述第一消毒軸線(Y)入射,例如與所述第一消毒軸線正交。
      22.根據(jù)權(quán)利要求19至21中任一項(xiàng)所述的裝置,其中,第一炮(28a)沿著所述第一消毒軸線(Y)設(shè)置。
      23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的裝置,其中,另ー炮(28c)沿著所述第二消毒軸線(Z)設(shè)置。
      24.根據(jù)權(quán)利要求22或23所述的裝置,其中,第二炮(28a)沿著所述第一消毒軸線(Y)設(shè)置。
      25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的裝置,其中,所述另ー炮(28c)的發(fā)射軸線(E3)以與所述第一炮(28a)的發(fā)射軸線(El)不同的方式相對于所述第二消毒方向(Z)傾斜。
      26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的裝置,其中,所述第二炮(28b)的發(fā)射軸線(E2)位于由所述第一炮(28a)的發(fā)射軸線(El)以及由所述第一消毒方向限定的發(fā)射面(Pel)上,所述第二炮相對于所述第一消毒方向(Y)位干與所述第一炮(28a)相對的側(cè)上。
      27.根據(jù)權(quán)利要求19至26中任一項(xiàng)所述的裝置,包括: -第一支撐裝置,沿著所述第一消毒方向(Y)設(shè)置,適于引導(dǎo)所述容器(C),使得所述容器成排地彼此并排設(shè)置;以及 -第二支撐裝置,沿著所述第二消毒方向(Z)設(shè)置,適于引導(dǎo)所述容器(C),使得所述容器成列地一個(gè)接ー個(gè)地設(shè)置。
      28.根據(jù)權(quán)利要求16至27中任一項(xiàng)所述的裝置,包括裝載單元(40),所述裝載単元包括按指令圍繞旋轉(zhuǎn)軸線回轉(zhuǎn)的回轉(zhuǎn)本體,所述回轉(zhuǎn)本體配有至少ー個(gè)承載座(58),以將預(yù)定數(shù)量的容器(C)從外部環(huán)境送到所述消毒室,避免來自所述消毒室的放射性輻射。
      29.對薄壁容器(C)消毒的方法,包括以下步驟: -將所述容器(C)插入到消毒室中并使所述容器沿著所述消毒室前進(jìn); -通過電子炮發(fā)射電子云到所述消毒室中; -通過所述電子云使所述容器經(jīng)歷消毒; -將處理后的容器(C)裝載到輸出単元(60)的回轉(zhuǎn)本體的承載座中; -使所述回轉(zhuǎn)本體旋轉(zhuǎn),以使所述容器(C)進(jìn)入外部環(huán)境; -從面向所述外部環(huán)境的所述承載座提取所述容器并使所述容器進(jìn)入所述外部環(huán)境。
      30.根據(jù)權(quán)利要求29所述的方法,其中,將所述容器(C)插入到消毒室中并使所述容器沿著所述消毒室前進(jìn)的步驟包括·以下步驟: -將待消毒的容器(C)裝載到裝載單元的回轉(zhuǎn)本體的承載座中,所述承載座面向所述消毒室外部的環(huán)境; -使所述回轉(zhuǎn)本體旋轉(zhuǎn),以使所述容器(C)朝著所述消毒室; -從面對所述消毒室的所述承載座提取所述容器。
      【文檔編號】A61L2/08GK103596596SQ201280020539
      【公開日】2014年2月19日 申請日期:2012年4月17日 優(yōu)先權(quán)日:2011年4月26日
      【發(fā)明者】弗爾維奧·拉古齊 申請人:刮拉包裝股份公司
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