專利名稱：濕式清洗設(shè)備的防清洗液流出裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種濕式清洗設(shè)備的防清洗液流出裝置，尤其涉及防止清洗液沿著濕式清洗設(shè)備的驅(qū)動軸流到清洗室外部的濕式清洗設(shè)備的防清洗液流出裝置。
背景技術(shù)：
通常，半導(dǎo)體晶片或平板顯示器(FPDflat panel display)基板等需要經(jīng)過多種工藝才能制造，經(jīng)過多種工藝時其表面難免被顆粒及污染物污染，因此為了清除污染在部分制造工藝前后進行清洗工藝。
這種清洗工藝是清潔基板表面的工藝，曾公開過由藥液處理工序、漂洗(rinse)工序、干燥工序組成的清洗方式，也曾公開過在基板表面照射受激準(zhǔn)分子紫外線(Excimer Ultra Violet)來清除基板表面的有機物，然后使上部及下部轉(zhuǎn)動刷(roll brush)分別在基板上表面和下表面加壓旋轉(zhuǎn)而清除基板表面顆粒的清洗方式。
利用所述轉(zhuǎn)動刷的清洗工藝通過直接向基板表面噴射清洗液或向所述轉(zhuǎn)動刷噴射清洗液來減小轉(zhuǎn)動刷與基板之間的表面摩擦的同時沖洗顆粒，因此與一般的濕式清洗工藝相同在清洗室(bath)內(nèi)進行。
圖1為應(yīng)用現(xiàn)有轉(zhuǎn)動刷的濕式清洗設(shè)備的實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
如圖1所示，現(xiàn)有的濕式清洗設(shè)備包含在清洗室B內(nèi)部布置成上下結(jié)構(gòu)而清洗基板表面的轉(zhuǎn)動刷(RB1、RB2)、與所述轉(zhuǎn)動刷(RB1、RB2)進行軸連接并進行旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動軸(10、20)、可旋轉(zhuǎn)地支撐所述驅(qū)動軸(10、20)兩端的軸承座(11、21)、在所述一側(cè)軸承座(11、21)與所述驅(qū)動軸(10、20)一端相結(jié)合并向所述驅(qū)動軸(10、20)提供旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動源(12、22)。
在上述結(jié)構(gòu)中，轉(zhuǎn)動刷(RB1、RB2)還可以沿上下方向驅(qū)動，以調(diào)節(jié)基板厚度及向基板表面的加壓程度。
作為一例，可旋轉(zhuǎn)地支撐所述驅(qū)動軸10兩端的軸承座11被支撐臺13支撐，支撐臺13的底端結(jié)合于升降驅(qū)動源(未圖示)，從而上側(cè)轉(zhuǎn)動刷RB1根據(jù)所述升降驅(qū)動源的驅(qū)動進行升降。
作為一例，下側(cè)轉(zhuǎn)動刷RB2也與上側(cè)轉(zhuǎn)動刷RB1相同，軸承座21被支撐臺(被重疊而未示出)支撐，從而根據(jù)另一升降驅(qū)動源的驅(qū)動沿上下方向進行升降。
所述升降驅(qū)動源可以根據(jù)螺旋操作升降支撐臺13，也可以利用氣缸來升降支撐臺13。
并且，由于清洗室B內(nèi)部是濕式清洗區(qū)域，因此旋轉(zhuǎn)驅(qū)動源(12、22)設(shè)在清洗室B外部以防止其被清洗液損壞，而驅(qū)動軸(10、20)的貫穿清洗室B外壁而向外部突出的一端與旋轉(zhuǎn)驅(qū)動源(12、22)結(jié)合，由此得到旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力。
但是，驅(qū)動軸(10、20)中位于清洗室B內(nèi)部的部分露在清洗液中，而且根據(jù)旋轉(zhuǎn)驅(qū)動所引起的離心力殘留在其表面的清洗液會流動到兩側(cè)端部。
因此，清洗液沿著驅(qū)動軸(10、20)流到清洗室B外部，這不僅降低清洗室B外部的潔凈室(clean room)內(nèi)的潔凈度，而且會浸透到結(jié)合在驅(qū)動軸(10、20)端部的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動源(12、22)中而使旋轉(zhuǎn)驅(qū)動源(12、22)受損。
雖然，通過采用密封圈(Oring)等使清洗室B外壁的貫穿驅(qū)動軸(10、20)的垂直長孔周圍維持氣密性，但是由于驅(qū)動軸(10、20)是旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的部件，因此利用物理方法在垂直長孔周圍維持完全氣密是不現(xiàn)實的。
尤其，由于驅(qū)動軸(10、20)是沿上下方向進行升降的部件，因此在垂直長孔周圍維持氣密是一個難題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為了解決如上所述的問題而提出的，其目的在于提供一種防止清洗液沿著貫穿清洗室外壁的各種驅(qū)動軸流到外部的濕式清洗設(shè)備的防清洗液流出裝置。
為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明所提供的濕式清洗設(shè)備的防清洗液流出裝置包含驅(qū)動軸，該驅(qū)動軸的從清洗室內(nèi)部貫穿所述清洗室外壁而向外部突出的一端與旋轉(zhuǎn)驅(qū)動源結(jié)合，由此得到旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力；設(shè)在所述驅(qū)動軸軸線上的清除單元，該清除單元朝沿著所述驅(qū)動軸流向所述清洗室外部的清洗液噴射干燥空氣而強制排出。
并且，所述清洗室外壁與所述清除單元之間設(shè)有軟材質(zhì)的氣密部件，該氣密部件一側(cè)結(jié)合在所述清洗室外壁，另一側(cè)結(jié)合在所述清除單元，而其內(nèi)部插入并貫通驅(qū)動軸。


圖1為現(xiàn)有的濕式清洗設(shè)備的側(cè)面結(jié)構(gòu)概要圖；圖2為本發(fā)明所提供的濕式清洗設(shè)備的防清洗液流出裝置的第一實施例剖面狀態(tài)圖；圖3為圖2中示出的濕式清洗設(shè)備的防清洗液流出裝置的第一實施例分解示意圖；圖4為本發(fā)明所提供的濕式清洗設(shè)備的防清洗液流出裝置的第二實施例剖面狀態(tài)圖；圖5為圖4中示出的濕式清洗設(shè)備的防清洗液流出裝置的操作狀態(tài)圖。
主要符號說明100為清除單元，101為外殼，110為供應(yīng)單元，120為排出單元，130為分散環(huán)，140為軸承，200為氣密部件，210為波紋部，300為驅(qū)動軸，311為垂直長孔，400為旋轉(zhuǎn)驅(qū)動源，410為軸承座，420為支撐臺。
具體實施例方式
以下，參照附圖詳細(xì)說明本發(fā)明的實施例。
<實施例1>
圖2為本發(fā)明所提供的濕式清洗設(shè)備的防清洗液流出裝置的第一實施例剖面狀態(tài)圖，圖3為圖2中示出的濕式清洗設(shè)備的防清洗液流出裝置的第一實施例分解示意圖。并且，為了便于說明轉(zhuǎn)動刷RB僅示出了上側(cè)或下側(cè)轉(zhuǎn)動刷RB。
如圖2及圖3所示，本發(fā)明所提供的濕式清洗設(shè)備的防清洗液流出裝置的第一實施例中，該防清洗液流出裝置包含驅(qū)動軸300，該驅(qū)動軸300的從清洗室B內(nèi)部貫通所述清洗室B外壁310而向外部突出的一端與旋轉(zhuǎn)驅(qū)動源400結(jié)合，由此得到旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力；設(shè)在所述驅(qū)動軸300軸線上的清除單元100，該清除單元100朝沿著所述驅(qū)動軸300流向所述清洗室B外部的清洗液噴射干燥空氣而將其強制排出。
作為一例，驅(qū)動軸300是其一端貫通形成在清洗室B外壁310的垂直長孔311而向外部突出并與清洗室B外部的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動源400結(jié)合而得到旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力的部件，以用于驅(qū)動上側(cè)或下側(cè)轉(zhuǎn)動刷RB旋轉(zhuǎn)。
并且，驅(qū)動軸300的向清洗室B外部露出的兩側(cè)端部結(jié)合軸承座410，其中一側(cè)軸承座410結(jié)合用于提供旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動源400，并且兩側(cè)軸承座410上按垂直方向結(jié)合用于升降驅(qū)動軸300及轉(zhuǎn)動刷RB的支撐臺420。
由于這種驅(qū)動軸300是根據(jù)旋轉(zhuǎn)驅(qū)動源400的驅(qū)動而進行旋轉(zhuǎn)的部件，因此當(dāng)清洗室B內(nèi)部的清洗液殘留在其表面時，根據(jù)離心力沿著軸線向兩側(cè)端部流動而不會自由降落，從而可能通過清洗室B的垂直長孔311向清洗室B外部流出。
因此，驅(qū)動軸300的軸線上設(shè)置清除單元100，以用于強制排出殘留在驅(qū)動軸300表面上向端部流動的清洗液。
所述清除單元100包含外殼101，該外殼101在清洗室B內(nèi)部與外壁310相鄰，并以包裹驅(qū)動軸300外徑的形態(tài)設(shè)置；供應(yīng)單元110，以用于從所述外殼101一側(cè)接收干燥空氣并向驅(qū)動軸300側(cè)噴射；排出單元120，該排出單元120設(shè)在所述供應(yīng)單元110的相對側(cè)，以用于排出從供應(yīng)單元110供應(yīng)的干燥空氣和利用干燥空氣從驅(qū)動軸300上分離的清洗液。
這種清除單元100如圖所示，可以僅設(shè)在清洗室B中與旋轉(zhuǎn)驅(qū)動源400相鄰的一側(cè)，也可以設(shè)在清洗室B內(nèi)部兩側(cè)而呈一對。
所述外殼101在清洗室B中設(shè)在驅(qū)動軸300與轉(zhuǎn)動刷RB相結(jié)合的部位之外的驅(qū)動軸300端部，并最好最大限度地與外壁310相鄰設(shè)置，以防止或盡量減少通過垂直長孔311流出的清洗液或薄霧(mist)。
這種外殼101是雖然驅(qū)動軸300貫穿其內(nèi)部，但是不與驅(qū)動軸300接觸，而與供應(yīng)單元110及排出單元120結(jié)合的非旋轉(zhuǎn)部件。
所述供應(yīng)單元110是將從干燥空氣供應(yīng)源(未圖示)供應(yīng)的干燥空氣供應(yīng)到外殼101內(nèi)部的部件。
因此，供應(yīng)到供應(yīng)單元110的干燥空氣快速噴射到驅(qū)動軸300表面上，并從驅(qū)動軸300分離沿著驅(qū)動軸300軸線流動的清洗液，由此防止清洗液向清洗室B外部流出。
如此，干燥空氣是從驅(qū)動軸300分離清洗液的工作流體，雖然還可以使用不影響清洗室B內(nèi)部的清洗工作的更經(jīng)濟、效果更好的其它工作流體，但是由于通常的濕式清洗設(shè)備都伴隨使用干燥空氣，因此使用工藝中分支出來的干燥空氣是最有效的。
所述排出單元120是用于排出利用干燥空氣從驅(qū)動軸300分離出來的清洗液的部件。
因此，通過供應(yīng)單元110供應(yīng)的干燥空氣和由干燥空氣從驅(qū)動軸300分離的清洗液通過排出單元120排出。
上述結(jié)構(gòu)中，清除單元100還可以包含分散環(huán)130，該分散環(huán)130在外殼101內(nèi)部以大于驅(qū)動軸300直徑的直徑與所述驅(qū)動軸300形成為一體。
所述分散環(huán)130延遲清洗液的流動并使其分散，以防止殘留在驅(qū)動軸300上的清洗液流動到驅(qū)動軸300端部而流到清洗室B外部。
即，分散環(huán)130通過擋住沿著驅(qū)動軸300軸線流動的清洗液，從而延遲清洗液向清洗室B外部流出，而且將清洗液分散到與驅(qū)動軸300軸線相垂直的方向。
這種分散環(huán)130最好設(shè)在驅(qū)動軸300上干燥空氣通過的部位。
具體來說，沿著驅(qū)動軸300軸線流動的清洗液被分散環(huán)130擋住而停滯，通過向停滯部位噴射干燥空氣而易于從驅(qū)動軸300分離清洗液并進行排出。
上述結(jié)構(gòu)中，清除單元100還可以包含軸承140，該軸承140在外殼101內(nèi)部支撐驅(qū)動軸300使其可旋轉(zhuǎn)。
因此，清除單元100不僅可以通過軸承140來支撐驅(qū)動軸300使其順利旋轉(zhuǎn)，而且軸承140與分散環(huán)130一起擋住沿著驅(qū)動軸300軸線流動的清洗液，從而可以延遲清洗液的流動。
作為一例，軸承140在外殼101內(nèi)部可以設(shè)在分散環(huán)130一側(cè)或兩側(cè)。
本實施例列舉了設(shè)在外殼101內(nèi)部的軸承140和插入設(shè)置在結(jié)合于外殼101一面的襯墊150上的軸承140。
<實施例2>
圖4為本發(fā)明所提供的濕式清洗設(shè)備的防清洗液流出裝置的第二實施例剖面狀態(tài)圖，圖5為圖4中示出的濕式清洗設(shè)備的防清洗液流出裝置的操作狀態(tài)圖。在此，與前述附圖相同的附圖標(biāo)號表示起相同作用的部件。
如圖4及圖5所示，依據(jù)本發(fā)明所提供的濕式清洗設(shè)備的防清洗液流出裝置的第二實施例，包含驅(qū)動軸300，該驅(qū)動軸300的從清洗室B內(nèi)部貫通所述清洗室B外壁310而向外部突出的一端與旋轉(zhuǎn)驅(qū)動源400結(jié)合，由此得到旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力；設(shè)在所述驅(qū)動軸300軸線上的清除單元100，該清除單元100強制排出沿著所述驅(qū)動軸300流向所述清洗室B外部的清洗液；軟材質(zhì)的氣密部件200，該氣密部件200一側(cè)結(jié)合在所述清洗室B外壁310，另一側(cè)結(jié)合于所述清除單元100，而其內(nèi)部插入并貫通驅(qū)動軸300。
本發(fā)明第二實施例是在所述第一實施例的結(jié)構(gòu)中在清除單元100外殼101與所述清洗室B外壁310之間進一步設(shè)置了氣密部件200。
所述氣密部件200包含由多個折疊片構(gòu)成的波紋部210，該波紋部210可進行伸長/壓縮，而且其內(nèi)部插入并貫通驅(qū)動軸300；第一法蘭221，用于將所述波紋部210的一側(cè)固定在清洗室B外壁310的垂直長孔311周圍，而且在其內(nèi)部插入并貫通驅(qū)動軸300；第二法蘭222，將所述波紋部210的另一側(cè)固定在清除單元100的外殼101上，而且在其內(nèi)部插入并貫通驅(qū)動軸300。
即，氣密部件200是防止在清洗室B中產(chǎn)生的清洗液或薄霧殘留在清除單元100的外殼101與所述清洗室B外壁310之間的驅(qū)動軸300上而流到外部的部件。
并且，當(dāng)驅(qū)動軸300根據(jù)支撐臺420的升降在垂直長孔311的長度范圍內(nèi)進行升降時，由于氣密部件200的一端被清洗室B外壁310支撐并固定，另一端與清除單元100一起升降，因此如圖5所示，氣密部件200的上部被壓縮、下部被伸長而呈彎曲狀。
即使處于這種狀態(tài)，由于氣密部件200內(nèi)部呈中空形狀而不與驅(qū)動軸300相互干涉，因此驅(qū)動軸300可以不受任何負(fù)荷進行旋轉(zhuǎn)。
如此，本發(fā)明所提供的濕式清洗設(shè)備的防清洗液流出裝置的第二實施例，對于進行升降的驅(qū)動軸300也能防止清洗液向清洗室B外壁310的垂直長孔311側(cè)流出。
雖然，上面通過

了本發(fā)明特定的優(yōu)選實施例，但是本發(fā)明并不限定于上述實施例，在不脫離本發(fā)明思想的情況下，可以由本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的具有通常知識的人員進行各種變更和修改。
綜上所述，由于本發(fā)明防止清洗液沿驅(qū)動軸流到清洗室外部，因此可以確保向驅(qū)動軸提供旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力的驅(qū)動電機的穩(wěn)定性，同時可以提高潔凈室內(nèi)的潔凈度。
并且，由于本發(fā)明對進行旋轉(zhuǎn)及升降的驅(qū)動軸也能防止清洗液流出，因此可以適用于清洗室內(nèi)的各種驅(qū)動軸。
權(quán)利要求
1.一種濕式清洗設(shè)備的防清洗液流出裝置，包含驅(qū)動軸，該驅(qū)動軸的從清洗室內(nèi)部貫通所述清洗室外壁而向外部突出的一端與旋轉(zhuǎn)驅(qū)動源結(jié)合，由此得到旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力；設(shè)在所述驅(qū)動軸軸線上的清除單元，該清除單元朝沿著所述驅(qū)動軸流向所述清洗室外部的清洗液噴射干燥空氣而將其強制排出。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濕式清洗設(shè)備的防清洗液流出裝置，其特征在于所述清洗室外壁與所述清除單元之間還包含軟材質(zhì)的氣密部件，該氣密部件一側(cè)結(jié)合在所述清洗室外壁，另一側(cè)結(jié)合于所述清除單元，而其內(nèi)部插入并貫通驅(qū)動軸。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的濕式清洗設(shè)備的防清洗液流出裝置，其特征在于所述清除單元包含外殼，該外殼在所述清洗室內(nèi)部與所述外壁相鄰，并以包裹所述驅(qū)動軸外徑的形態(tài)設(shè)置；供應(yīng)單元，以用于從所述外殼一側(cè)接收干燥空氣并向所述驅(qū)動軸側(cè)噴射；排出單元，該排出單元設(shè)在所述供應(yīng)單元的相對側(cè)，并用于排出利用干燥空氣從所述驅(qū)動軸上分離出來的清洗液。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的濕式清洗設(shè)備的防清洗液流出裝置，其特征在于所述清除單元還包含分散環(huán)，該分散環(huán)在所述外殼內(nèi)部以大于所述驅(qū)動軸直徑的直徑與所述驅(qū)動軸形成為一體。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的濕式清洗設(shè)備的防清洗液流出裝置，其特征在于所述分散環(huán)形成在所述驅(qū)動軸上干燥空氣通過的部位。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的濕式清洗設(shè)備的防清洗液流出裝置，其特征在于所述清除單元還包含在所述外殼內(nèi)部支撐所述驅(qū)動軸使其可旋轉(zhuǎn)的軸承。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種濕式清洗設(shè)備的防清洗液流出裝置，本發(fā)明所提供的濕式清洗設(shè)備的防清洗液流出裝置包含驅(qū)動軸，該驅(qū)動軸的從清洗室內(nèi)部貫通所述清洗室外壁而向外部突出的一端與旋轉(zhuǎn)驅(qū)動源結(jié)合，由此得到旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力；設(shè)在所述驅(qū)動軸軸線上的清除單元，該清除單元朝沿著所述驅(qū)動軸流向所述清洗室外部的清洗液噴射干燥空氣而將其強制排出。由于本發(fā)明防止清洗液沿驅(qū)動軸流到清洗室外部，因此可以確保向驅(qū)動軸提供旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力的驅(qū)動電機的穩(wěn)定性，同時可以提高潔凈室內(nèi)的潔凈度。
文檔編號B08B3/04GK101081393SQ20071010777
公開日2007年12月5日 申請日期2007年4月29日 優(yōu)先權(quán)日2006年6月1日
發(fā)明者鄭溢溶 申請人:K.C.科技股份有限公司