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      一種氧化銦錫薄膜的處理工藝的制作方法

      文檔序號(hào):1426893閱讀:224來(lái)源:國(guó)知局
      一種氧化銦錫薄膜的處理工藝的制作方法
      【專利摘要】本發(fā)明涉及一種氧化銦錫薄膜的處理工藝,其特征在于,所述工藝方法如下:將氧化銦錫薄膜放入盛有異丙醇的燒杯中浸泡15分鐘;浸泡完后,放入超聲機(jī)中超聲5分鐘;取出氧化銦錫薄膜,將其放入20%濃度的磷酸溶液中浸泡15分鐘;取出氧化銦錫薄膜,用去離子水沖洗。本發(fā)明方法能夠使氧化銦錫薄膜的表面電阻基本保持不變,但表面更加平整,透光率不變,更加適宜用作OLEDs的基底;經(jīng)過(guò)濃度為20%磷酸處理后的器件,其發(fā)光效率更高。
      【專利說(shuō)明】一種氧化銦錫薄膜的處理工藝
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及一種氧化銦錫薄膜的處理工藝,屬于半導(dǎo)體領(lǐng)域。
      【背景技術(shù)】
      [0002]在氧化銦錫薄膜的生產(chǎn)過(guò)程中,不可避免的會(huì)在氧化銦錫薄膜的表面產(chǎn)生有機(jī)污染物,這些有機(jī)污染物很難處理,因此會(huì)影響著氧化銦錫薄膜的表面空穴及表面功函數(shù),影響著氧化銦錫薄膜的質(zhì)量。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0003]本發(fā)明針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的不足,提供一種氧化銦錫薄膜的處理工藝。
      [0004]本發(fā)明解決上述技術(shù)問(wèn)題的技術(shù)方案如下:一種氧化銦錫薄膜的處理工藝,其特征在于,所述工藝方法如下:
      [0005](I)將氧化銦錫薄膜放入盛有異丙醇的燒杯中浸泡15分鐘;
      [0006](2)浸泡完后,放入超聲機(jī)中超聲5分鐘;
      [0007](3)取出氧化銦錫薄膜,將其放入20%濃度的磷酸溶液中浸泡15分鐘;
      [0008](4)取出氧化銦錫薄膜,用去離子水沖洗。
      [0009]本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明方法能夠使氧化銦錫薄膜的表面電阻基本保持不變,但表面更加平整,透光率不變,更加適宜用作OLEDs的基底;經(jīng)過(guò)濃度為20%磷酸處理后的器件,其發(fā)光效率更高。
      【具體實(shí)施方式】
      [0010]以下對(duì)本發(fā)明的原理和特征進(jìn)行描述,所舉實(shí)例只用于解釋本發(fā)明,并非用于限定本發(fā)明的范圍。
      [0011]一種氧化銦錫薄膜的處理工藝,其特征在于,所述工藝方法如下:
      [0012](I)將氧化銦錫薄膜放入盛有異丙醇的燒杯中浸泡15分鐘;
      [0013](2)浸泡完后,放入超聲機(jī)中超聲5分鐘;
      [0014](3)取出氧化銦錫薄膜,將其放入20%濃度的磷酸溶液中浸泡15分鐘;
      [0015](4)取出氧化銦錫薄膜,用去離子水沖洗。
      [0016]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例,并不用以限制本發(fā)明,凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
      【權(quán)利要求】
      1.一種氧化銦錫薄膜的處理工藝,其特征在于,所述工藝方法如下:(1)將氧化銦錫薄膜放入盛有異丙醇的燒杯中浸泡15分鐘;(2)浸泡完后,放入超聲機(jī)中超聲5分鐘;(3)取出氧化銦錫薄膜,將其放入20%濃度的磷酸溶液中浸泡15分鐘;(4)取出氧化銦錫薄膜,用去離子水沖洗。
      【文檔編號(hào)】B08B3/08GK103801532SQ201210461967
      【公開(kāi)日】2014年5月21日 申請(qǐng)日期:2012年11月15日 優(yōu)先權(quán)日:2012年11月15日
      【發(fā)明者】張恒 申請(qǐng)人:張恒
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