一種提高納米印章抗粘性能的方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種提高納米印章抗粘性能的方法，包括如下步驟：（1）將納米印章放入清洗溶液中清潔，然后吹干，轉(zhuǎn)移到干燥環(huán)境中；（2）用異丙醇沖洗納米印章5～10分鐘；（3）將納米印章放入無(wú)水異辛烷中5～10分鐘；（4）在步驟（3）得到的納米印章旋涂上抗粘層；（5）清洗納米印章，然后用氮?dú)獯蹈?。本發(fā)明提供的提高納米印章抗粘性能的方法操作步驟簡(jiǎn)單，能大大降低模板的自由能，縮短脫模時(shí)間，延長(zhǎng)納米印章的使用壽命。
【專利說(shuō)明】一種提高納米印章抗粘性能的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及微加工領(lǐng)域，具體涉及一種提高納米印章抗粘性能的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]納米印章表面凸起或凹陷結(jié)構(gòu)越多，意味著與聚合物接觸的表面越多，越容易引起聚合物和印章間的粘連。這些表面對(duì)印章的壽命有著非常重要的影響，直接決定了壓印技術(shù)能否在工業(yè)界大量應(yīng)用。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]發(fā)明目的:為了克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足，本發(fā)明提供的提高納米印章抗粘性能的方法，工藝簡(jiǎn)單、效率高，適合推廣應(yīng)用。
[0004]技術(shù)方案:為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的采用的技術(shù)方案為:一種提高納米印章抗粘性能的方法，包括如下步驟:
[0005](I)將納米印章放入清洗溶液中清潔，然后吹干，轉(zhuǎn)移到干燥環(huán)境中；
[0006](2)用異丙醇沖洗納米印章5?10分鐘；
[0007](3)將納米印章放入無(wú)水異辛烷中5?10分鐘；
[0008](4)在步驟(3)得到的納米印章旋涂上抗粘層；
[0009](5)清洗納米印章，然后用氮?dú)獯蹈伞?br> [0010]優(yōu)選地，所述步驟(I)中采用的清洗溶液為混合比例為1:1:4的NH4OH: H2O2: H2O。
[0011]優(yōu)選地，所述的抗粘層為道康寧DC系列。
[0012]優(yōu)選地，所述步驟(4)旋涂時(shí)勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速設(shè)為2500?3000轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)時(shí)間為I?1.5分鐘。
[0013]優(yōu)選地，所述步驟(5)中清洗印章包括丙醇超聲4?5分鐘，去離子水超聲2?3分鐘。
[0014]有益效果:本發(fā)明提供的提高納米印章抗粘性能的方法操作步驟簡(jiǎn)單，能大大降低模板的自由能，縮短脫模時(shí)間，延長(zhǎng)納米印章的使用壽命。
【具體實(shí)施方式】
[0015]實(shí)施例1:
[0016]一種提高納米印章抗粘性能的方法，包括如下步驟:
[0017](I)將納米印章放入清洗溶液中清潔，然后吹干，轉(zhuǎn)移到干燥環(huán)境中，；
[0018](2)用異丙醇沖洗納米印章5分鐘；
[0019](3)將納米印章放入無(wú)水異辛烷中5分鐘；
[0020](4)在步驟(3)得到的納米印章旋涂上道康寧的DC20抗粘層，旋涂時(shí)勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速設(shè)為2500轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)時(shí)間為1.5分鐘；
[0021](5)通過(guò)丙醇超聲4分鐘，去離子水超聲2分鐘清洗納米印章，然后用氮?dú)獯蹈?。[0022]以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出:對(duì)于本【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種提高納米印章抗粘性能的方法，其特征在于，包括如下步驟: (1)將納米印章放入清洗溶液中清潔，然后吹干，轉(zhuǎn)移到干燥環(huán)境中，； (2)用異丙醇沖洗納米印章5?10分鐘； (3)將納米印章放入無(wú)水異辛烷中5?10分鐘； (4)在步驟(3)得到的納米印章旋涂上抗粘層； (5)清洗納米印章，然后用氮?dú)獯蹈伞?br> 2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高納米印章抗粘性能的方法，其特征在于:所述步驟(I)中采用的清洗溶液為混合比例為1:1:4的NH4OH = H2O2:H2O。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高納米印章抗粘性能的方法，其特征在于:優(yōu)選地，所述的抗粘層為道康寧DC系列。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高納米印章抗粘性能的方法，其特征在于:所述步驟(4)旋涂時(shí)勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速設(shè)為2500?3000轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)時(shí)間為I?1.5分鐘。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高納米印章抗粘性能的方法，其特征在于:所述步驟(5)中清洗印章包括丙醇超聲4?5分鐘，去離子水超聲2?3分鐘。
【文檔編號(hào)】B08B3/12GK103586229SQ201310553840
【公開日】2014年2月19日 申請(qǐng)日期:2013年11月8日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月8日
【發(fā)明者】王晶 申請(qǐng)人:無(wú)錫英普林納米科技有限公司