一種晶圓清洗機的烘干機構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種晶圓清洗機的烘干機構(gòu)，包括至少一個呈圓柱狀的氮氣噴嘴，具有一個平面的盛放臺和掩板；所述盛放臺置于一個平臺上；所述掩板的大小不小于盛放臺的平面，并且所述掩板平面與盛放臺平面形狀相似，所述掩板設(shè)置于盛放臺正上方一定距離處，所述掩板上均勻設(shè)置有對應(yīng)氮氣噴嘴個數(shù)的通孔，所述通孔的大小與氮氣噴嘴相適應(yīng)；所述每個氮氣噴嘴穿透一個通孔，并且所述氮氣噴嘴噴出氮氣的一端正對盛放臺。本實用新型采用掩板遮擋外溢的氮氣，確保壓縮的氮氣能夠全部作用在晶圓表面，將其表面的水分帶走，一方面實現(xiàn)解決水痕缺陷的效果，另一方面同時實現(xiàn)了能源的節(jié)約。
【專利說明】一種晶圓清洗機的烘干機構(gòu)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本實用新型涉及一種晶圓清洗機的烘干機構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]產(chǎn)品在預(yù)清洗過程中由于機臺干燥能力有限，不能將晶圓表面的水分全部清除干凈，有水的殘留。在后續(xù)的制程中，殘留水產(chǎn)生水痕缺陷；水痕缺陷會影響產(chǎn)品的良率。
[0003]現(xiàn)有的預(yù)清洗機臺，在表面水去處的工程中，通過甩干與使用氮氣吹兩個措置來進行表面水分的去處，但是氮氣噴嘴不能有效的將表面的水清除干凈。
[0004]如圖1所示，晶圓在甩干后，使用氮氣吹干的過程中，大部分氮氣向其他方向而不是晶圓上噴射，氮氣噴嘴能覆蓋的范圍有限，導(dǎo)致不能及時清除晶圓表面的水分。
實用新型內(nèi)容
[0005]本實用新型所要解決的技術(shù)問題是，針對現(xiàn)有技術(shù)不能完全去除晶圓表面的水分，是晶圓表面出現(xiàn)水痕缺陷的不足，提供一種提高清除水分能力、達到去除水痕缺陷的晶圓清洗機的烘干機構(gòu)。
[0006]本實用新型解決上述技術(shù)問題的技術(shù)方案如下:一種晶圓清洗機的烘干機構(gòu)，包括至少一個呈圓柱狀的氮氣噴嘴，具有一個平面的盛放臺和掩板；
[0007]所述盛放臺置于一個平臺上；
[0008]所述掩板的大小不小于盛放臺的平面，并且所述掩板平面與盛放臺平面形狀相似，所述掩板設(shè)置于盛放臺正上方一定距離處，所述掩板上均勻設(shè)置有對應(yīng)氮氣噴嘴個數(shù)的通孔，所述通孔的大小與氮氣噴嘴相適應(yīng)；
[0009]所述每個氮氣噴嘴穿透一個通孔，并且所述氮氣噴嘴噴出氮氣的一端正對盛放臺。
[0010]本實用新型的有益效果是:本實用新型采用掩板遮擋外溢的氮氣，確保壓縮的氮氣能夠全部作用在晶圓表面，將其表面的水分帶走，一方面實現(xiàn)解決水痕缺陷的效果，另一方面同時實現(xiàn)了能源的節(jié)約。
[0011]在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，本實用新型還可以做如下改進。
[0012]進一步，所述至少一個氮氣噴嘴與掩板為固定連接。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中晶圓清洗機的烘干機構(gòu)的結(jié)構(gòu)圖；
[0014]圖2為本實用新型具體實施例1所述的一種晶圓清洗機的烘干機構(gòu)結(jié)構(gòu)圖；
[0015]圖3為本實用新型具體實施例2所述的烘干機構(gòu)的掩板的俯視圖。
[0016]附圖中，各標(biāo)號所代表的部件列表如下:
[0017]1、氮氣噴嘴，2、盛放臺，3、掩板，4、通孔?！揪唧w實施方式】
[0018]以下結(jié)合附圖對本實用新型的原理和特征進行描述，所舉實例只用于解釋本實用新型，并非用于限定本實用新型的范圍。
[0019]如圖2所示，實施例1所述的一種晶圓清洗機的烘干機構(gòu)，包括一個呈圓柱狀的氮氣噴嘴I，具有一個平面的盛放臺2和掩板3 ；
[0020]所述盛放臺2置于一個平臺上；
[0021]所述掩板3的大小不小于盛放臺的平面，并且所述掩板3平面與盛放臺平面形狀相似，所述掩板3設(shè)置于盛放臺2正上方一定距離處，所述掩板3上均勻設(shè)置有對應(yīng)氮氣噴嘴個數(shù)的通孔4，所述通孔4的大小與氮氣噴嘴I相適應(yīng)；
[0022]所述每個氮氣噴嘴I穿透一個通孔4，并且所述氮氣噴嘴I噴出氮氣的一端正對盛放臺2。
[0023]所述至少一個氮氣噴嘴I與掩板3為固定連接。
[0024]如圖3所示，實施例2所述的一種晶圓清洗機的烘干機構(gòu)，包括兩個呈圓柱狀的氮氣噴嘴I，具有一個平面的盛放臺2和掩板3 ；
[0025]所述盛放臺2置于一個平臺上；
[0026]所述掩板3的大小不小于盛放臺的平面，并且所述掩板3平面與盛放臺平面形狀相似，所述掩板3設(shè)置于盛放臺2正上方一定距離處，所述掩板3上均勻設(shè)置有對應(yīng)氮氣噴嘴個數(shù)的通孔4，所述通孔4的大小與氮氣噴嘴I相適應(yīng)；
[0027]所述每個氮氣噴嘴I穿透一個通孔4，并且所述氮氣噴嘴I噴出氮氣的一端正對盛放臺2。
[0028]所述至少一個氮氣噴嘴I與掩板3為固定連接。
[0029]以上所述僅為本實用新型的較佳實施例，并不用以限制本實用新型，凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應(yīng)包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種晶圓清洗機的烘干機構(gòu)，其特征在于，包括至少一個呈圓柱狀的氮氣噴嘴(1)，具有一個平面的盛放臺(2)和掩板(3)； 所述盛放臺(2)置于一個平臺上； 所述掩板(3)的大小不小于盛放臺的平面，并且所述掩板(3)平面與盛放臺平面形狀相似，所述掩板(3)設(shè)置于盛放臺(2)正上方一定距離處，所述掩板(3)上均勻設(shè)置有對應(yīng)氮氣噴嘴(I)個數(shù)的通孔(4)，所述通孔(4)的大小與氮氣噴嘴(I)相適應(yīng)； 所述每個氮氣噴嘴(I)穿透一個通孔，并且所述氮氣噴嘴(I)噴出氮氣的一端正對盛放臺(2)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶圓清洗機的烘干機構(gòu)，其特征在于，所述至少一個氮氣噴嘴(I)與掩板(3)為固定連接。
【文檔編號】B08B3/00GK203731828SQ201420147213
【公開日】2014年7月23日 申請日期:2014年3月28日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月28日
【發(fā)明者】陳俊, 胡勝 申請人:武漢新芯集成電路制造有限公司