掩膜版及掩膜曝光方法、掩膜系統(tǒng)和圖形控制裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種掩膜版及掩膜曝光方法、掩膜系統(tǒng)和圖形控制裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在顯示裝置的制作過程中，往往需要采用掩膜版進行曝光顯影。比如在制作有機電激光顯示(Organic Light-Emitting D1de，0LED)裝置時，涉及到采用封框膠對各個基板封裝的過程，該過程一般是首先在一塊基板上涂覆封框膠，之后再將另一塊基板與該基板進行對盒封裝后，采用掩膜版對封框膠進行照射固化。一般的，一種掩膜版僅對應(yīng)于一種掩膜圖形，在需要制作新的產(chǎn)品時，就要重新開發(fā)和制作掩膜版，成本較高。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的一個目的在于提供一種掩膜圖形可變化的掩膜版，以降低面板制作過程中掩膜版成本。
[0004]第一方面提供了一種掩膜版，包括圖形控制層和光線轉(zhuǎn)換層;所述圖形控制層包括多個透光單元、與各個透過單元相連的控制電路；
[0005]所述控制電路與各個透光單元相連，用于控制每一個透光單元在透光狀態(tài)和不透光狀態(tài)之間進行轉(zhuǎn)換，以形成不同的掩膜圖案；
[0006]所述光線轉(zhuǎn)換層設(shè)置在所述圖形控制層的出光方向或入光方向上，用于將入射的光線轉(zhuǎn)換為平行光線后出射。
[0007]進一步的，每一個透光單元包括盒體，以及設(shè)置在所述盒體內(nèi)的帶電遮光顆粒，設(shè)置在所述盒體內(nèi)垂直于入光方向的內(nèi)壁上的第一電極、第二電極、第三電極和第四電極;所述盒體劃分為透光區(qū)域和遮光區(qū)域；
[0008]其中第一電極和第二電極位于所述盒體的遮光區(qū)域，第三電極和第四電極位于盒體內(nèi)的透光區(qū)域;各個電極相互平行，第一電極位于遮光區(qū)域遠離透光區(qū)域的一側(cè)，第二電極位于遮光區(qū)域靠近透光區(qū)域的一側(cè);第三電極位于透光區(qū)域靠近遮光區(qū)域的一側(cè)，第四電極位于透光區(qū)域遠離遮光區(qū)域的一側(cè)；
[0009]所述控制電路連接各個透光單元的第一電極、第二電極、第三電極和第四電極;用于控制施加在各個電極的電壓。
[0010]進一步的，所述帶電遮光顆粒包括Ti02顆粒。
[0011]進一步的，所述帶電遮光顆粒為帶有正電的顆粒。
[0012]進一步的，所述控制電路形成在各個透光單元的遮光區(qū)域。
[0013]進一步的，所述光線轉(zhuǎn)換層包括第一轉(zhuǎn)換層、第二轉(zhuǎn)換層和第三轉(zhuǎn)換層;所述第二轉(zhuǎn)換層位于所述第一轉(zhuǎn)換層的出光方向上，所述第三轉(zhuǎn)換層位于所述第二轉(zhuǎn)換層的出光方向上；
[0014]所述第一轉(zhuǎn)換層與所述第二轉(zhuǎn)換層平行的其中一個表面為采用磨面設(shè)計，用于將入射到所述第一轉(zhuǎn)換層的光線發(fā)散為面光源并出射到所述第二轉(zhuǎn)換層上；
[0015]所述第二轉(zhuǎn)換層用于將第一轉(zhuǎn)換層出射的光線匯聚為多個點光源投射到所述第三轉(zhuǎn)換層；
[0016]所述第三轉(zhuǎn)換層包含多個透鏡；多個透鏡與各個點光源一一對應(yīng)，用于將對應(yīng)的點光源出射的光線轉(zhuǎn)換為平行光線出射到所述圖形控制層。
[0017]進一步的，所述第一轉(zhuǎn)換層為玻璃基底;所述第二轉(zhuǎn)換層通過制膜工藝形成在所述玻璃基底上；
[0018]所述圖形控制層通過制膜工藝形成在所述第二轉(zhuǎn)換層上。
[0019]第二方面，本發(fā)明提供了一種掩膜系統(tǒng)，包括:真空腔室、設(shè)置在所述真空腔室內(nèi)的顯不基板承載臺；
[0020]所述真空腔室正對所述顯示基板承載臺的臺面的內(nèi)壁上設(shè)置有與所述顯示基板承載臺位置相對的掩膜窗口；
[0021]所述系統(tǒng)還包括第一石英基板、第二石英基板以及上述任一項所述掩膜版；
[0022]所述第一石英基板用于封蓋所述掩膜窗口；
[0023]所述掩膜版設(shè)置在所述第一石英基板背離所述顯示基板承載臺的一面上；
[0024]所述第二石英基板設(shè)置在所述掩膜版背離所述第一石英基板的一面上。
[0025]進一步的，所述第一石英基板的厚度大于所述第二石英基板的厚度。
[0026]第三方面，本發(fā)明提供了一種利用上述任一項所述的掩膜版進行掩膜曝光方法，包括:
[0027]通過所述控制電路對各個透光單元分別進行控制，使所述掩膜版形成需要的掩膜圖形。
[0028]進一步的，所述方法包括:
[0029]在需要使一個透光單元切換到遮光狀態(tài)時，在第二電極上不施加電壓，在第一電極、第三電極和第四電極上施加電壓，使得帶電遮光顆粒在第三電極和第四電極之間均勻分布;之后在第二電極上施加電壓，將帶電遮光顆粒限制在透光區(qū)域；
[0030]在需要使一個透光單元切換到透光狀態(tài)時，在第二電極上不施加電壓，在第一電極、第三電極和第四電極上施加電壓，使得帶電遮光顆粒在遮光區(qū)域;之后在第二電極上施加電壓，將帶電遮光顆粒限制在遮光區(qū)域內(nèi)。
[0031]第四方面，本發(fā)明提供了一種圖形控制裝置，用于對上述任一項所述的掩膜版進行圖形控制，該圖形控制裝置包括:
[0032]圖形控制單元，用于通過所述控制電路對各個透光單元分別進行控制，使所述掩膜版形成需要的掩膜圖形。
[0033]本發(fā)明提供的掩膜版，具有圖形控制層，該圖形控制層包括透光單元、與各個透過單元相連的控制電路;所述控制電路與各個透光單元相連，用于控制每一個透光單元在透光狀態(tài)和不透光狀態(tài)之間進行轉(zhuǎn)換，以形成不同的掩膜圖案。這樣就可以通過控制電路對各個透光單元進行控制，使得該掩膜版能夠提供不同的掩膜圖形，從而使得該掩膜版應(yīng)用于不同的圖案化工藝中，從而降低開發(fā)制作掩膜版所需的成本。并且本發(fā)明中，通過在所述圖形控制層的出光方向或入光方向上設(shè)置用于將接收到的光線轉(zhuǎn)換為平行光線后出射的光線轉(zhuǎn)換層，能夠很好的控制光線入射到被曝光的基板上的位置，從而提高曝光精度。
【附圖說明】
[0034]通過參考附圖會更加清楚的理解本發(fā)明的特征信息和優(yōu)點，附圖是示意性的而不應(yīng)理解為對本發(fā)明進行任何限制，在附圖中:
[0035]圖1為本發(fā)明一實施例提供的一種掩膜版的整體的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0036]圖2a和圖2b為圖1中的透過單元的一種可能結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0037]圖3為本發(fā)明提供的一種掩膜曝光系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0038]圖4為本發(fā)明通過的掩膜版5可能顯示的一種掩膜圖形。
【具體實施方式】
[0039]為了能夠更清楚地理解本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點，下面結(jié)合附圖和【具體實施方式】對本發(fā)明進行進一步的詳細描述。需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請的實施例及實施例中的特征可以相互組合。
[0040]在下面的描述中闡述了很多具體細節(jié)以便于充分理解本發(fā)明，但是，本發(fā)明還可以采用其他不同于在此描述的其他方式來實施，因此，本發(fā)明的保護范圍并不受下面公開的具體實施例的限制。
[0041]第一方面，本發(fā)明提供了一種掩膜版，包括圖形控制層和光線轉(zhuǎn)換層;所述圖形控制層包括多個透光單元、與各個透過單元相連的控制電路；
[0042]所述控制電路與各個透光單元相連，用于控制每一個透光單元在透光狀態(tài)和不透光狀態(tài)之間進行轉(zhuǎn)換，以形成不同的掩膜圖案；
[0043]所述光線轉(zhuǎn)換層設(shè)置在所述圖形控制層的出光方向或入光方向上，