復(fù)合織物及其制造裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及紡織面料領(lǐng)域，特別地，是一種電氣石負(fù)載納米T12復(fù)合織物及其制造裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]光催化劑在光的照射下，可將光能轉(zhuǎn)換成為化學(xué)反應(yīng)所需的能量，使周圍的氧氣及水分子激發(fā)成具有極強氧化能力的自由基，在常溫、常壓下將對人體和環(huán)境有害的且難以降解的有機物徹底氧化為無害的小分子，而自身不發(fā)生任何變化。光催化劑與紡織品復(fù)合后，可賦予紡織品抗菌、抗紫外、自清潔、凈化空氣等特殊功能。T12納米材料具有催化活性高、穩(wěn)定性好、價格低廉、對人體無毒害等特性，目前已成為紡織品領(lǐng)域應(yīng)用最為廣泛的光催化材料。但是，普通的納米打02禁帶較寬(Eg = 3.2eV)，只在紫外光(λ <387nm)照射下才能顯示光催化活性，而紫外光照射對人體具有一定的傷害作用，嚴(yán)重限制了其紡織品領(lǐng)域的應(yīng)用。目前，提高納米1102光催化效果與光響應(yīng)范圍的方法主要有貴金屬沉積、染料光敏化、摻雜、復(fù)合半導(dǎo)體和非金屬礦物負(fù)載，其中負(fù)載改性不僅可以緩解純打02易團(tuán)聚的問題，而且便于納米1102應(yīng)用和重復(fù)使用，適當(dāng)?shù)碾x子摻雜可提高納米1102的光催化效果，且使其光響應(yīng)范圍向可見光轉(zhuǎn)移。目前，離子摻雜與負(fù)載技術(shù)已成為納米T12改性技術(shù)研究的熱點。
[0003]同時，由于電氣石負(fù)載1102與紡織物的復(fù)合存在強度不夠的問題，如若采用傳統(tǒng)膠黏或者混紡摻雜的方式對織物進(jìn)行復(fù)合，會降低電氣石負(fù)載T12與空氣的接觸面積，從而降低T12的功能性。
【實用新型內(nèi)容】
[0004]為了解決上述問題，本實用新型的目的在于提供一種電氣石負(fù)載納米T12復(fù)合織物及其制造裝置，該電氣石負(fù)載納米T12復(fù)合織物能夠提高電氣石負(fù)載納米1102與織物的復(fù)合度。
[0005]本實用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:
[0006]—種電氣石負(fù)載納米T12復(fù)合織物，該電氣石負(fù)載納米T1 2復(fù)合織物包括基布，所述基布通過金屬濺射鍍層與電氣石負(fù)載納米1102相結(jié)合。
[0007]—種電氣石負(fù)載納米T12復(fù)合織物的制造裝置，包括設(shè)置在銅背板上的金屬靶材，銅背板下方順序設(shè)置有磁體和極板，所述金屬靶材的濺射面正對基布，所述基布的背部設(shè)置有電磁線圈，所述金屬靶材和所述基布之間的空間周側(cè)設(shè)置有向此空間噴射電氣石負(fù)載納米T12粉末的噴口，所述電磁線圈和金屬革E材的派射交替進(jìn)行，所述金屬革E材派射時，所述噴口同步工作，所述金屬革E材為親磁性金屬。
[0008]作為優(yōu)選，所述金屬靶材和所述基布之間的空間的周側(cè)設(shè)置有旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)環(huán)，所述噴口均設(shè)在所述轉(zhuǎn)環(huán)上。
[0009]作為優(yōu)選，所述噴口至基布平面的直線距離大于基布平面至金屬靶材平面直線距離的三分之一。
[0010]本實用新型的優(yōu)點在于:
[0011]采用磁控濺射的方式，使電氣石負(fù)載納米T12與基布復(fù)合，提高了電氣石負(fù)載納米T12的復(fù)合強度。
【附圖說明】
[0012]圖1是本電氣石負(fù)載納米T12復(fù)合織物制造裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0013]圖2是本電氣石負(fù)載納米T12復(fù)合織物電氣石負(fù)載納米T1 2遇到濺射的金屬原子的示意圖。
[0014]圖3是本電氣石負(fù)載納米T12復(fù)合織物的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖和實施例對本實用新型進(jìn)一步說明:
[0016]在本實施例中，參閱圖1，一種電氣石負(fù)載納米T12復(fù)合織物的制造裝置，包括設(shè)置在銅背板320上的金屬靶材310，銅背板320下方順序設(shè)置有磁體330和極板340，所述金屬革E材310的派射面正對基布100，所述基布100的背部設(shè)置有電磁線圈400，所述金屬靶材310和所述基布100之間的空間周側(cè)設(shè)置有向此空間噴射電氣石負(fù)載納米T12粉末10的噴口 200，所述電磁線圈400和金屬革E材310的派射交替進(jìn)行，所述金屬革E材310派射時，所述噴口 200同步工作，所述金屬革E材310為親磁性金屬。
[0017]所述金屬靶材310和所述基布100之間的空間的周側(cè)設(shè)置有旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)環(huán)210，所述噴口 200均設(shè)在所述轉(zhuǎn)環(huán)210上，旋轉(zhuǎn)設(shè)置的噴口 200，使電氣石負(fù)載納米T12粉末10噴灑分布均勻。
[0018]所述噴口 200至基布平面的直線距離大于基布平面至金屬靶材平面直線距離的三分之一，使噴口 200噴射的電氣石負(fù)載納米T12粉末10有足夠的時間在電磁線圈400的磁場下發(fā)生偏轉(zhuǎn)，使含有靶材原子311的一面正對所述基布100。
[0019]經(jīng)粘合力膠帶測試，僅有點帶狀剝離，剝離率小于5%，并經(jīng)耐磨性試驗200次，無明顯肉眼可觀測粉末剝離。
[0020]上述電氣石負(fù)載納米1102復(fù)合織物的制造裝置工作方式和原理:
[0021]所述金屬靶材310的濺射時，所述噴口 200同步工作，噴口 200噴射的電氣石負(fù)載納米T12粉末10 —側(cè)碰撞金屬靶材310濺射的靶材原子311，一側(cè)含有靶材原子311的電氣石負(fù)載納米T12粉末10在電磁線圈400的磁場作用下發(fā)生偏轉(zhuǎn)(參閱圖2)，使含有靶材原子311的一面正對所述基布100飛行，并最終與基布100結(jié)合(參閱圖3)。
[0022]以上所述僅為本實用新型的較佳實施例，并不用以限制本實用新型，凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種電氣石負(fù)載納米T1 2復(fù)合織物，包括基布(100)，其特征在于:所述基布(100)通過金屬濺射鍍層與電氣石負(fù)載納米打02相結(jié)合。2.一種電氣石負(fù)載納米T12復(fù)合織物的制造裝置，包括設(shè)置在銅背板(320)上的金屬靶材(310)，銅背板(320)下方順序設(shè)置有磁體(330)和極板(340)，所述金屬靶材(310)的濺射面正對基布(100)，其特征在于: 所述基布(100)的背部設(shè)置有電磁線圈(400)，所述金屬靶材(310)和所述基布(100)之間的空間周側(cè)設(shè)置有向此空間噴射電氣石負(fù)載納米T12粉末的噴口(200)，所述電磁線圈(400)和金屬靶材(310)的濺射交替進(jìn)行，所述金屬靶材(310)濺射時，所述噴口(200)同步工作，所述金屬革E材(310)為親磁性金屬。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電氣石負(fù)載納米T12復(fù)合織物的制造裝置，其特征在于:所述金屬靶材(310)和所述基布(100)之間的空間的周側(cè)設(shè)置有旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)環(huán)(210)，所述噴口(200)均設(shè)在所述轉(zhuǎn)環(huán)(210)上。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電氣石負(fù)載納米T12復(fù)合織物的制造裝置，其特征在于:所述噴口(200)至基布平面的直線距離大于基布平面至金屬靶材平面直線距離的三分之一。
【專利摘要】本實用新型提供一種電氣石負(fù)載納米TiO2復(fù)合織物及其制造裝置，包括設(shè)置在銅背板上的金屬靶材，銅背板下方順序設(shè)置有磁體和極板，所述金屬靶材的濺射面正對基布，所述基布的背部設(shè)置有控制模塊控制的電磁線圈，所述金屬靶材和所述基布之間的空間周側(cè)設(shè)置有向此空間噴射電氣石負(fù)載納米TiO2粉末的噴口，所述電磁線圈和金屬靶材的濺射交替進(jìn)行，所述金屬靶材濺射時，所述噴口同步工作，所述金屬靶材為親磁性金屬，本實用新型中采用磁控濺射的方式，使電氣石負(fù)載納米TiO2與基布復(fù)合，提高了電氣石負(fù)載納米TiO2的復(fù)合強度。
【IPC分類】D06M23/00, C23C14/35, D06M11/83, D06M11/80
【公開號】CN204898406
【申請?zhí)枴緾N201520261587
【發(fā)明人】王維明
【申請人】蘇州杰東紡織新材料科技有限公司
【公開日】2015年12月23日
【申請日】2015年4月28日