專利名稱：一種用于tft玻璃基板的退火溫度控制裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種玻璃退火溫度控制裝置，尤其是涉及一種用于TFT玻璃基板 的退火溫度控制裝置。
背景技術(shù)：
玻璃基板應(yīng)力的大小是其一個(gè)重要性能參數(shù)，如果基板應(yīng)力不能保證在合格范圍 內(nèi)，則在制造過程中會(huì)出現(xiàn)炸裂、變形等問題，而退火是有效消除應(yīng)力的一個(gè)重要手段。目 前生產(chǎn)TFT玻璃基板的幾種成熟的方法中，以溢流成型發(fā)最為流行，也相對(duì)的最為成熟，但 相對(duì)的該工藝對(duì)生產(chǎn)過程及生產(chǎn)環(huán)境的控制要求都很高，TFT玻璃基板領(lǐng)域內(nèi)的退火設(shè)備 相比其它玻璃行業(yè)中使用的退火時(shí)設(shè)備要短的多，不便于多項(xiàng)調(diào)整，調(diào)整手段單一，無法達(dá) 到通過提高退火效果來有效消除應(yīng)力的目的。
發(fā)明內(nèi)容為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，本實(shí)用新型的目的在于提供一種用于TFT玻璃基 板的退火溫度控制裝置，該退火溫度控制裝置能夠使得退火爐內(nèi)部的溫度和氣流可控，具 有結(jié)構(gòu)簡單易于利用的特點(diǎn)。為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為一種用于TFT玻璃基板的退火溫度控制裝置，包括加熱模塊1，還包括均溫板4，均 溫板4通過伸縮機(jī)構(gòu)3與退火爐2連接，退火爐2上固定有加熱模塊1。所述加熱模塊1為多個(gè)。本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有以下優(yōu)點(diǎn)1)使得退火爐內(nèi)部的溫度可控。2)使得退火爐內(nèi)部的氣流可控。

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本實(shí)用新型的使用狀態(tài)圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步詳細(xì)說明。如圖1、圖2所示，一種用于TFT玻璃基板的退火溫度控制裝置，包括加熱模塊1， 還包括均溫板4，均溫板4通過伸縮機(jī)構(gòu)3與退火爐2連接，退火爐2上固定有加熱模塊1。 所述加熱模塊1為多個(gè)。本實(shí)用新型的工作原理為工作時(shí)，本實(shí)用新型等距分布在玻璃板5的兩側(cè)，當(dāng)玻璃板5下流時(shí)利用退火的溫 度控制裝置中的加熱模塊1消除應(yīng)力，并利用均溫板4的位置變化控制成型設(shè)備內(nèi)部氣流。根據(jù)玻璃板5的內(nèi)部應(yīng)力，首先使用加熱模塊1對(duì)相應(yīng)部位進(jìn)行溫度控制，如加熱模塊1功 率已降至零或升至最大限度，仍不能滿足工藝使用要求時(shí)，則啟動(dòng)伸縮機(jī)構(gòu)3，將均溫板4 相對(duì)與玻璃板5進(jìn)行移動(dòng)，以改變退火爐2內(nèi)的降溫環(huán)境，使退火爐2腔體內(nèi)溫度上升或下 降，以達(dá)到改變工藝溫度的目的。當(dāng)利用伸縮機(jī)構(gòu)3，調(diào)整均溫板4的與與玻璃板5的相對(duì) 位置時(shí)，還可影響到成型設(shè)備內(nèi)部的空氣流東，并最終改變爐體內(nèi)整體氣流。
權(quán)利要求1.一種用于TFT玻璃基板的退火溫度控制裝置，包括加熱模塊(1)，其特征在于，還包 括均溫板G)，均溫板(4)通過伸縮機(jī)構(gòu)(3)與退火爐(2)連接，退火爐(2)上固定有加熱 模塊⑴。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于TFT玻璃基板的退火溫度控制裝置，其特征在于，加 熱模塊(1)為多個(gè)。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種用于TFT玻璃基板的退火溫度控制裝置，包括加熱模塊1，還包括均溫板4，均溫板4通過伸縮機(jī)構(gòu)3與退火爐2連接，退火爐2上固定有加熱模塊1。該退火溫度控制裝置能夠使得退火爐內(nèi)部的溫度和氣流可控，具有結(jié)構(gòu)簡單易于利用的特點(diǎn)。
文檔編號(hào)C03B25/02GK201896128SQ20102058666
公開日2011年7月13日 申請(qǐng)日期2010年10月28日 優(yōu)先權(quán)日2010年10月28日
發(fā)明者劉琎, 寧小永 申請(qǐng)人:陜西彩虹電子玻璃有限公司