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      一種適用于小件陶瓷制品的施釉機的制作方法

      文檔序號:1849056閱讀:260來源:國知局
      專利名稱:一種適用于小件陶瓷制品的施釉機的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及一種施釉機,尤其涉及一種點火針、火花塞及類似制品的施釉機。
      背景技術(shù)
      為了使得陶瓷產(chǎn)品具有符合要求的外觀效果,一般需要對陶瓷產(chǎn)品進行施釉。目前為止,在陶瓷行業(yè)內(nèi)常規(guī)采用手工施釉的方法。手工施釉的缺點是其釉面厚薄不勻,易掛釉,質(zhì)量欠佳,且效率低,釉耗量大,造成成本高。許多企業(yè)也開展了自動施釉的研究,但都因未解決好質(zhì)與量之間的關(guān)系而夭折。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明的目的是提供一種適用于小件陶瓷制品的自動施釉的裝置。為了達到上述目的,本發(fā)明的技術(shù)方案是提供了一種適用于小件陶瓷制品的施釉機,包括基座,其特征在于在基座上設(shè)有加熱源裝置及釉料回收吸塵裝置,在加熱源裝置的進口處及釉料回收吸塵裝置吸口處分別設(shè)有一自轉(zhuǎn)裝置,首尾閉合的公轉(zhuǎn)鏈條由傳動裝置帶動在基座上循環(huán)旋轉(zhuǎn),在旋轉(zhuǎn)過程中,公轉(zhuǎn)鏈條由加熱源裝置內(nèi)穿過并穿過設(shè)于釉料回收吸塵裝置吸口處的自轉(zhuǎn)裝置,在公轉(zhuǎn)鏈條上設(shè)有自轉(zhuǎn)軸裝置,自轉(zhuǎn)裝置通過摩擦力帶動自轉(zhuǎn)軸裝置旋轉(zhuǎn),在釉料回收吸塵裝置吸口處上方設(shè)有一對放置在自轉(zhuǎn)軸裝置上的陶瓷制品進行噴釉的噴釉槍。本發(fā)明提供的適用于小件陶瓷制品的施釉機采用公轉(zhuǎn)與自轉(zhuǎn)速的組合配制,使得釉層厚度均勻一致,可控在0. 04mm-0. 06mm。同時,簡化作業(yè)程序,節(jié)省作業(yè)場地,優(yōu)化作業(yè)環(huán)境,減輕作業(yè)強度。


      圖1為本發(fā)明提供的一種適用于小件陶瓷制品的施釉機的俯視圖; 圖2為本發(fā)明提供的一種適用于小件陶瓷制品的施釉機的側(cè)視圖3為傳動裝置俯視圖; 圖4為傳動裝置側(cè)視圖; 圖5為自轉(zhuǎn)軸裝置及自轉(zhuǎn)裝置示意圖; 圖6為釉料回收吸塵裝置示意圖。
      具體實施例方式為使本發(fā)明更明顯易懂,茲以一優(yōu)選實施例,并配合附圖作詳細(xì)說明如下。如圖1及圖2所示,為本發(fā)明提供的一種適用于小件陶瓷制品的施釉機,包括基座 8,在基座8上設(shè)有加熱源裝置1及釉料回收吸塵裝置5,在加熱源裝置1的進口處及釉料回收吸塵裝置5吸口處分別設(shè)有一自轉(zhuǎn)裝置9,首尾閉合的公轉(zhuǎn)鏈條4由傳動裝置7帶動在基座8上循環(huán)旋轉(zhuǎn),在旋轉(zhuǎn)過程中,公轉(zhuǎn)鏈條4由加熱源裝置1內(nèi)穿過并穿過設(shè)于釉料回收吸塵裝置5吸口處的自轉(zhuǎn)裝置9,在公轉(zhuǎn)鏈條4上設(shè)有自轉(zhuǎn)軸裝置3,自轉(zhuǎn)裝置9通過摩擦力帶動自轉(zhuǎn)軸裝置3旋轉(zhuǎn),在釉料回收吸塵裝置5吸口處上方設(shè)有一對放置在自轉(zhuǎn)軸裝置 3上的陶瓷制品進行噴釉的噴釉槍2。其中,加熱源裝置1、傳動裝置7、噴釉槍2及釉料回收吸塵裝置5的運行受設(shè)于基座8上的控制裝置6控制。其中,加熱源裝置1采用低壓燃燒器。常規(guī)工藝中,通常會采用高壓燃燒器,而在本發(fā)明中,改高壓燃燒器為低壓燃燒器。在同等溫度下,低壓燃燒器的使用壽命為高壓燃燒器的一倍以上,其需要的燃料的量僅為高壓燃燒器的25%,能夠節(jié)約資源,降低能源成本。如圖3及圖4所示,為傳動裝置7示意圖,傳動裝置7包括帶有變速箱7-2的電機 7-1,電機7-1通過變速箱7-2帶動主動軸裝置7-3運動,主動軸裝置7_3與主動齒輪7_4 同軸,主動齒輪7-4通過所述公轉(zhuǎn)鏈條4連接從動齒輪7-6,在從動齒輪7-6上設(shè)有張緊裝置 7-7。如圖5所示,自轉(zhuǎn)軸裝置3通過鏈條固定架3-1固定在所述公轉(zhuǎn)鏈條4上。自轉(zhuǎn)軸裝置3包括自轉(zhuǎn)軸3-3,在自轉(zhuǎn)軸3-3外套有自轉(zhuǎn)軸軸套3-2,所述自轉(zhuǎn)裝置9包括摩擦橡膠9-1,摩擦橡膠9-1通過摩擦架9-2固定。如圖6所示,釉料回收吸塵裝置5包括帶有蓋子5-3的集釉筒5-4,在集釉筒5_4 內(nèi)設(shè)有阻擋板5-2,在集釉筒5-4上開有進釉口 5-1及出釉口 5-5,出釉口 5_5連接吸塵器, 在集釉筒5-4的底部開有釉料回收口 5-6。常規(guī)的釉料回收吸塵裝置5僅僅采用吸塵器,這樣就需要經(jīng)常清理,而且對吸塵器的要求高,必須采用干濕吸塵器。本發(fā)明則增加了一個簡易的回收裝置,這樣95%的釉水都可截流,使得吸塵器改為10天一清,不僅降低了工作量,而且增加了使用壽命。本發(fā)明的工作過程為由控制裝置6啟動加熱源裝置1,待正常工作后,啟動傳動裝置7,傳動裝置7運行正常后,開啟噴釉槍2,噴釉槍2的氣壓調(diào)至1. 2-1. 5KG,噴射寬度約 68mm左右,即可正常作業(yè)。工作時,將制品放置在自轉(zhuǎn)軸裝置3上,則公轉(zhuǎn)鏈條4通過傳動裝置7帶動行進并帶動自轉(zhuǎn)軸裝置3途徑自轉(zhuǎn)裝置9時摩擦轉(zhuǎn)動。制品在加熱源裝置1處均勻受熱,在釉料回收吸塵裝置5處轉(zhuǎn)動接受噴檢槍2噴射出的釉料均勻塗于表面,由于制品已受熱,所以很快均勻干燥完成施釉。
      權(quán)利要求
      1.一種適用于小件陶瓷制品的施釉機,包括基座(8),其特征在于在基座(8)上設(shè)有加熱源裝置(1)及釉料回收吸塵裝置(5),在加熱源裝置(1)的進口處及釉料回收吸塵裝置 (5)吸口處分別設(shè)有一自轉(zhuǎn)裝置(9),首尾閉合的公轉(zhuǎn)鏈條(4)由傳動裝置(7)帶動在基座 (8)上循環(huán)旋轉(zhuǎn),在旋轉(zhuǎn)過程中,公轉(zhuǎn)鏈條(4)由加熱源裝置(1)內(nèi)穿過并穿過分別設(shè)于釉料回收吸塵裝置(5)吸口處及加熱源裝置(1)入口處的自轉(zhuǎn)裝置(9),在公轉(zhuǎn)鏈條(4)上設(shè)有自轉(zhuǎn)軸裝置(3),自轉(zhuǎn)裝置(9)通過摩擦力帶動自轉(zhuǎn)軸裝置(3)旋轉(zhuǎn),在釉料回收吸塵裝置(5)吸口處上方設(shè)有一對放置在自轉(zhuǎn)軸裝置(3)上的陶瓷制品進行噴釉的噴釉槍(2)。
      2.如權(quán)利要求1所述的一種適用于小件陶瓷制品的施釉機,其特征在于所述加熱源裝置(1)、傳動裝置(7)、噴釉槍(2)及釉料回收吸塵裝置(5)的運行受設(shè)于所述基座(8)上的控制裝置(6)控制。
      3.如權(quán)利要求1所述的一種適用于小件陶瓷制品的施釉機,其特征在于所述傳動裝置(7 )包括帶有變速箱(7-2 )的電機(7-1),電機(7-1)通過變速箱(7-2 )帶動主動軸裝置 (7-3)運動,主動軸裝置(7-3)與主動齒輪(7-4)同軸,主動齒輪(7-4)通過所述公轉(zhuǎn)鏈條 (4 )連接從動齒輪(7-6 ),在從動齒輪(7-6 )上設(shè)有張緊裝置(7-7 )。
      4.如權(quán)利要求1所述的一種適用于小件陶瓷制品的施釉機,其特征在于所述自轉(zhuǎn)軸裝置(3 )通過鏈條固定架(3-1)固定在所述公轉(zhuǎn)鏈條(4 )上。
      5.如權(quán)利要求1所述的一種適用于小件陶瓷制品的施釉機,其特征在于所述自轉(zhuǎn)軸裝置(3)包括自轉(zhuǎn)軸(3-3),在自轉(zhuǎn)軸(3-3)外套有自轉(zhuǎn)軸軸套(3-2),所述自轉(zhuǎn)裝置(9)包括摩擦橡膠(9-1),摩擦橡膠(9-1)通過摩擦架(9-2 )固定。
      6.如權(quán)利要求1所述的一種適用于小件陶瓷制品的施釉機,其特征在于所述釉料回收吸塵裝置(5)包括帶有蓋子(5-3)的集釉筒(5-4),在集釉筒(5-4)內(nèi)設(shè)有阻擋板(5_2), 在集釉筒(5-4)上開有進釉口(5-1)及出釉口(5-5),出釉口(5-5)連接吸塵器,在集釉筒 (5-4)的底部開有釉料回收口(5-6)。
      7.如權(quán)利要求1所述的一種適用于小件陶瓷制品的施釉機,其特征在于所述加熱源裝置(1)為低壓燃燒器。
      全文摘要
      本發(fā)明提供了一種適用于小件陶瓷制品的施釉機,包括基座,其特征在于在基座上設(shè)有加熱源裝置及釉料回收吸塵裝置,在加熱源裝置的進口處及釉料回收吸塵裝置吸口處分別設(shè)有一自轉(zhuǎn)裝置,首尾閉合的公轉(zhuǎn)鏈條由傳動裝置帶動在基座上循環(huán)旋轉(zhuǎn),在公轉(zhuǎn)鏈條上設(shè)有自轉(zhuǎn)軸裝置,自轉(zhuǎn)裝置通過摩擦力帶動自轉(zhuǎn)軸裝置旋轉(zhuǎn),在釉料回收吸塵裝置吸口處上方設(shè)有一對放置在自轉(zhuǎn)軸裝置上的陶瓷制品進行噴釉的噴釉槍。本發(fā)明提供的適用于小件陶瓷制品的施釉機采用公轉(zhuǎn)與自轉(zhuǎn)速的組合配制,使得釉層厚度均勻一致,可控在0.04mm-0.06mm。同時,簡化作業(yè)程序,節(jié)省作業(yè)場地,優(yōu)化作業(yè)環(huán)境,減輕作業(yè)強度。
      文檔編號C04B41/86GK102167625SQ20111012101
      公開日2011年8月31日 申請日期2011年5月11日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月11日
      發(fā)明者蔡敏 申請人:宜興市丁山陶瓷密封件廠(普通合伙)
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