專利名稱：一種高度定位氣體壓力支撐裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及壓力支撐領(lǐng)域，尤其是涉及一種定位氣體壓力支撐裝置。
背景技術(shù)：
ITOdndium Tin Oxides,銦錫氧化物)是銦錫氧化物的英文縮寫,它是一種透明的導電體，通常厚度只有幾千埃，在所有在透明導電體中，其具有特別優(yōu)良的性能:高的可見光透過率，高的紅外反射率，良好的機械強度和化學穩(wěn)定性，用酸溶液等濕法刻蝕工藝能很容易形成一定的電極圖極，制備相對比較容易等，這使它廣泛用于各種電子及光電子器件，如手機和電腦等平板顯示領(lǐng)域。因此，對ITO薄膜玻璃的表面質(zhì)量要求非常高。
20世紀90年代初，隨著IXD器件的飛速發(fā)展，對ITO薄膜產(chǎn)品的需求量也是急劇的增加，國內(nèi)部分廠家紛紛開始從國外引進一系列整廠ITO鍍膜生產(chǎn)線，但由于進口設(shè)備的價格昂貴，技術(shù)服務不方便等因素，使許多廠商還是望而卻步。
80年代末，中國誕生了第一條TN-1XD用ITO連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線。90年代中期，隨著國內(nèi)LCD產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，對ITO產(chǎn)品的需求量增大的同時，對產(chǎn)品的質(zhì)量有了新的要求，因此出現(xiàn)了第二代ITO鍍膜生產(chǎn)線。99年，有效的解決了射頻磁控濺射沉積Si02薄膜的沉積速率慢影響生產(chǎn)線的產(chǎn)能和設(shè)備的利用率等一系列問題，同時出現(xiàn)了第三代大型高檔ITO薄膜生產(chǎn)線。隨著反射式IXD，增透式IXD、LC0S圖影機背投電視等顯示器件的發(fā)展，對ITO薄膜產(chǎn)品提出了更高的要求，Si02/IT0兩層膜結(jié)構(gòu)的ITO薄膜材料滿足不了使用的需要，而比須采用多層復合膜系已達到產(chǎn)品的高反射性、或高透過率等光學性能要求。積累多年的設(shè)計開發(fā)經(jīng)驗，國內(nèi)生產(chǎn)企業(yè)推出了第四代大型多層薄膜生產(chǎn)線。該生產(chǎn)線由15個真空室組成，采用全分子泵無油真空系統(tǒng)、使用了 RF/MF/DC三種磁控濺射工藝、通過PEM/PCV進行工藝氣體的控制。該生產(chǎn)線具有連續(xù)沉積五層薄膜的能力。
隨著PDA、電子書等觸摸式輸入電子產(chǎn)品的悄然興起，相應材料的制成設(shè)備也應運而生。由于觸摸式產(chǎn)品工作原理的特殊性，其所需的ITO薄膜必須是在柔性材料(PET)上制成的，薄膜的沉積溫度不能太高(小于120°C)，同時要求ITO膜層較薄、面電阻高而且均勻，所以對ITO薄膜的沉積工藝提出了嚴格的要求。
隨著對ITO薄膜制作工藝要求的進一步苛刻，對ITO薄膜制品在加工、處理、運輸過程中，有著更加嚴格的要求。
早期的ITO膜玻璃均為單面鍍膜，隨著iphone手機等設(shè)備的出現(xiàn)越來越多地采用雙面ITO膜玻璃。在ITO薄膜玻璃制備、加工領(lǐng)域中，使用的支撐機構(gòu)大多比較粗糙，很多直接使用支撐平臺，不僅增大輕薄的ITO薄膜玻璃與平臺的接觸面，容易沾上較多的灰塵，而且也容易在ITO薄膜玻璃與支撐平臺發(fā)生相對位移時，發(fā)生摩擦，造成ITO薄膜玻璃表面劃傷，同時在取放時也不是非常方便。鑒于此，在降低輕薄ITO薄膜制品與接觸面之間的多少和摩擦，以減少可能造成的表 面污染和可能發(fā)生的相對移動時造成的損傷，成為一種理想的選擇；同時，在ITO膜玻璃加工過程中，支撐裝置的平面度也相當重要，在采取陣列支撐裝置同時進行加工時，如果平面度不夠精準，很容易造成表面加工損傷，因此一種在達到減少表面污染和因滑動造成損傷的同時，需要保證支撐陣列高度的精確一致。發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一。為此，本發(fā)明的一個目的在于提出一種高度定位氣體壓力支撐裝置，所述高度定位氣體壓力支撐裝置可降低接觸件之間的摩擦力，降低兩者之間的磨損，同時可提供任意方向的轉(zhuǎn)動，允許球體與接觸件任意方向都可以存在位移，并且可以提供精確的預定壓力，同時，可以保證當氣體壓力柱陣列聯(lián)接平臺上時，柱體頂端形成的平面具有精確的平面度。
根據(jù)本發(fā)明實施例的一種高度定位氣體壓力支撐裝置，包括:由若干定位高度氣體壓力柱組成的定位高度氣體壓力柱陣列，所述定位高度氣體壓力柱包括球體和柱體；內(nèi)部設(shè)有規(guī)則通氣管道的基座，所述定位高度氣體壓力柱陣列與所述基座相聯(lián)。
根據(jù)本發(fā)明實施例的高度定位氣體壓力支撐裝置，當高度定位氣體壓力柱通過柱體下部螺紋聯(lián)接在基座內(nèi)設(shè)的聯(lián)接管道，輸入的氣體由經(jīng)基座內(nèi)設(shè)的輸氣管道經(jīng)柱體內(nèi)設(shè)的貫通通孔輸入柱體上部的球冠腔室，對置于柱體上部球冠腔室的球體施加壓力，使球體上浮，向外傳遞壓力，在球體上浮的同時將高度定位氣體壓力柱的腔室與外部封閉，能夠精確的對外傳遞支撐力；同時，球體可以進行任意方向轉(zhuǎn)動，可降低球體與和球體相接觸的接觸件之間存在的摩擦力，大大降低了和球體相接觸的接觸件的磨損；同時，由于中部定位凸臺和凸臺下部的凹槽的存在，可以精確的與相聯(lián)接的基座上表面進行貼合，可以保證高度定位氣體壓力柱頂端形成平面的精確平面度，由此可以保證放置其上的輕薄工件能夠保證精確的平面度。
其中可選地，所述所述高度定位氣體壓力柱陣列可以以相同規(guī)則進行排布。
可選地，所述所述高度定位氣體壓力柱陣列可以以錯位規(guī)則進行排布。
另外，根據(jù)本發(fā)明的高度定位氣體壓力支撐裝置還具有如下附加技術(shù)特征: 所述柱體上部設(shè)有球冠腔室、內(nèi)部設(shè)有貫通通孔、中部設(shè)有定位凸臺、定位凸臺下部有凹槽且下部有螺紋； 所述球體設(shè)置在所述球冠腔室內(nèi)。
所述球冠腔室的底面圓直徑小于所述球體直徑。
所述球冠腔室的直徑大于所述球體直徑。
所述球冠腔室的底面圓邊緣為光滑過渡曲面。
由于柱體中部設(shè)有定位凸臺且定位凸臺下部有凹槽，可以使柱體與基座相聯(lián)后，高度定位氣體壓力柱陣列形成的空間平面具有精確的平面度，而柱體下部設(shè)有螺紋，可以使安裝拆卸變得更加方便；同時，由于球冠腔室高大于球冠腔室半徑且球冠腔室底面圓小于球體直徑，所以球體可以安裝在球冠腔室內(nèi)且不易脫落；及所述球冠腔室的底面圓邊緣為光滑過渡曲面，可以使球體與球 冠腔室之間的摩擦變得更小。
所述高度定位氣體壓力支撐裝置還包括密閉件。
優(yōu)選地，所述密閉件為橡膠件。
所述高度定位氣體壓力支撐裝置還包括氣體輸入裝置。
由于密閉件的存在保證了基座內(nèi)部氣體的氣密性，氣體輸入裝置可以提供精確的設(shè)定壓力。
本發(fā)明的附加方面和優(yōu)點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本發(fā)明的實踐了解到。


本發(fā)明的上述和/或附加的方面和優(yōu)點從結(jié)合下面附圖對實施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中: 圖1為根據(jù)本發(fā)明一個實施例的高度定位氣體壓力支撐裝置的三維示意圖； 圖2是圖1所示的高度定位氣體壓力支撐裝置的正面剖視圖； 圖3為根據(jù)本發(fā)明一個實施例的定位高度氣體壓力柱陣列以相同規(guī)則排布的示意圖； 圖4為根據(jù)本發(fā)明一個實施例的定位高度氣體壓力柱陣列以錯位規(guī)則排布的示意圖； 圖5為根據(jù)本發(fā)明一個實施例的基座的示意圖及俯視圖； 圖6是圖5中所示的基座通氣管道的剖面圖； 圖7為根據(jù)本發(fā)明一個實施例的定位高度氣體壓力柱的示意圖及剖面圖。
具體實施方式
下面詳細描述本發(fā)明的實施例，所述實施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的，僅用于解釋本發(fā)明，而不能理解為對本發(fā)明的限制。
在本發(fā)明的描述中，需要理解的是，術(shù)語“上部”、“下部”、“內(nèi)部”、“外部”、“前”、“后”、“橫向”、“縱向”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本發(fā)明的限制。。
在本發(fā)明的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語“安裝”、“聯(lián)接”應做廣義理解，例如，可以是固定聯(lián)接，一體地聯(lián)接，也可以是可拆卸聯(lián)接；可以是兩個元件內(nèi)部的連通；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語在本發(fā)明中的具體含義。
下面參考圖1-7描述根據(jù)本發(fā)明的一種高度定位氣體壓力支撐裝置，下面以使用空氣作為壓力源用于高度定位氣體壓力支撐裝置為例進行說明。當然，本發(fā)明并不限于此，例如，根據(jù)本發(fā)明的高度定位氣體壓力支撐裝置的動力源也可以使用其他氣體。
根據(jù)本發(fā)明的高度定位氣體壓力支撐裝置的一個實施例，如圖1所示，包括高度定位氣體壓力柱I組成的高度定位氣體壓力柱陣列和內(nèi)設(shè)有通氣管道21，聯(lián)接管道22的基座2。
根據(jù)本發(fā)明的高度定位氣體壓力支撐裝置的一個實施例，如圖1所示，還包括密封件3和氣體輸入裝置4，其中，優(yōu)選地，密封件3為橡膠件。
根據(jù)本發(fā)明的高度定位氣體壓力支撐裝置的一個實施例，如圖6所示，基座2內(nèi)設(shè)有橫向的通氣管道21和縱向的聯(lián)接管道22，通氣管道21與外部的氣體輸入裝置4相聯(lián)(如圖1所示)，聯(lián)接管道22與高度定 位氣體壓力柱I下部的螺紋125相聯(lián)。
根據(jù)本發(fā)明的高度定位氣體壓力支撐裝置的一個實施例，如圖7所示，高度定位氣體壓力柱I包括球體11和柱體12，柱體12上部設(shè)有球形腔室121，球體11設(shè)置于球形腔室121中，球形腔室121的底面圓直徑小于球體11直徑，球形腔室121的直徑大于球體11直徑，可以避免球體11輕易脫落，同時球形腔室121底面圓周光滑，降低與球體11之間的摩擦力，延長球體11的使用壽命。
根據(jù)本發(fā)明的高度定位氣體壓力支撐裝置的一個實施例，如圖2所示，氣體由基座21的通氣管道21進入與聯(lián)接管道22項鏈的柱體12內(nèi)設(shè)的貫通通孔122進入球形腔室121，浮起球體11，向外傳遞支撐力；同時由于定位凸臺123和下部的凹槽124的存在，可以使定位凸臺123與基座2上表面緊密貼合，保證高度定位氣體壓力柱陣列形成的支撐平面精確的平面度；當精密工件放置在高度定位氣體壓力柱陣列形成的支撐平面上時，一方面支撐面大幅減少且可將滑動摩擦變?yōu)闈L動摩擦，另一方面支撐平面精確的平面度也可以改善對精密工件表面進行加工處理時的表面精度。
根據(jù)本發(fā)明的高度定位氣體壓力支撐裝置的一個實施例，如圖3所示，高度定位氣體壓力柱陣列可以以相同規(guī)則進行排布。
優(yōu)選地，高度定位氣體壓力柱陣列可以以錯位規(guī)則進行排布(如圖4所示)，如此，可以使放置在高度定位氣體壓力柱陣列形成的支撐平面上的輕薄工件手里更加均勻。
在本說明書的描述中，參考術(shù)語“一個實施例”、“一些實施例”、“示意性實施例”、“示例”、“具體示例”、或“一些示例”等的描述意指結(jié)合該實施例或示例描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點包含于本發(fā)明的至少一個實施例或示例中。在本說明書中，對上述術(shù)語的示意性表述不一定指的是相同的實施例或示例。而且，描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點可以在任何的一個或多個實施例或示例 中以合適的方式結(jié)合。
盡管已經(jīng)示出和描述了本發(fā)明的實施例，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以理解:在不脫離本發(fā)明的原理和宗旨的情況下可以對這些實施例進行多種變化、修改、替換和變型，本發(fā)明的范圍由權(quán)利要求及其等同物限定。
權(quán)利要求
1.一種高度定位氣體壓力支撐裝置，其特征在于，包括: 由若干定位高度氣體壓力柱組成的定位高度氣體壓力柱陣列，所述定位高度氣體壓力柱包括球體和柱體； 內(nèi)部設(shè)有通氣管道和聯(lián)通管道的基座，所述定位高度氣體壓力柱陣列與所述基座內(nèi)設(shè)的所述聯(lián)通管道相聯(lián)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高度定位氣體壓力支撐裝置，其特征在于，所述所述定位高度氣體壓力柱陣列可以以相同規(guī)則進行排布。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高度定位氣體壓力支撐裝置，其特征在于，所述所述定位高度氣體壓力柱陣列可以以錯位規(guī)則進行排布。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高度定位氣體壓力支撐裝置，其特征在于，所述柱體上部設(shè)有球冠腔室、內(nèi)部設(shè)有貫通通孔、中部設(shè)有定位凸臺、凸臺下部有凹槽且下部有螺紋； 所述球體設(shè)置在所述球冠腔室內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的高度定位氣體壓力支撐裝置，其特征在于，所述球冠腔室的底面圓直徑小于所述球體直徑。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的高度定位氣體壓力支撐裝置，其特征在于，所述球冠腔室的直徑大于所述球體直徑。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的高度定位氣體壓力支撐裝置，其特征在于，所述球冠腔室的底面圓邊緣為光滑過渡曲面。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高度定位氣體壓力支撐裝置，其特征在于，所述高度定位氣體壓力支撐裝置還包括密閉件。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的高度定位氣體壓力支撐裝置，其特征在于，所述密閉件為橡月父件。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高度定位氣體壓力支撐裝置，其特征在于，所述高度定位氣體壓力支撐裝置還包括 氣體輸入裝置2。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種定位高度氣體壓力支撐裝置，包括由規(guī)則排列的定位高度氣體壓力柱組成的定位高度氣體壓力柱陣列，定位高度氣體壓力柱包括球體和上部設(shè)有球冠腔室、內(nèi)部設(shè)有貫通通孔、中部設(shè)有定位凸臺、凸臺下部有凹槽及下部有螺紋的柱體；內(nèi)部設(shè)有規(guī)則通氣管道的基座。根據(jù)本發(fā)明定位高度氣體壓力支撐機構(gòu)，輸入氣體通過基座通氣管道，經(jīng)定位高度氣體壓力柱內(nèi)設(shè)的貫通通孔輸入球冠腔室內(nèi)，使所述球體浮起，向外傳遞壓力；且球體可任意方向轉(zhuǎn)動，使球體和工件之間的摩擦為滾動摩擦，可降低了接觸工件出現(xiàn)位移時由摩擦造成的損傷，同時可以提供精確設(shè)定壓力；同時，由于定位凸臺和凹槽的存在，使壓力柱可以精確的保證在所聯(lián)接平臺上的高度。
文檔編號C03C17/23GK103214188SQ20121001561
公開日2013年7月24日 申請日期2012年1月18日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月18日
發(fā)明者魏志凌, 寧軍, 高永強 申請人:昆山思拓機器有限公司