浮法玻璃的制造方法和制造裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種浮法玻璃的制造方法和制造裝置，該制造方法包括將在浮拋槽中成形并通過提升部從所述浮拋槽拉起的玻璃帶搬運至緩冷爐的工序，該緩冷爐用于將所述玻璃帶緩冷到玻璃的應(yīng)變點溫度以下，其中，從在該緩冷爐的上游部設(shè)置的噴嘴向正在所述緩冷爐內(nèi)進(jìn)行搬運的所述玻璃帶的下表面供給亞硫酸氣體，進(jìn)而在設(shè)置所述噴嘴的位置的下游的區(qū)域設(shè)置排氣室而吸引所述緩冷爐內(nèi)的氣氛，由此在所述玻璃帶的周圍沿所述玻璃帶的搬運方向形成所述亞硫酸氣體的氣流，且將所述氣流引導(dǎo)至所述排氣室，將剩余的所述亞硫酸氣體排出至外部。
【專利說明】浮法玻璃的制造方法和制造裝置
[0001]本申請為2010年12月14日提交的、申請?zhí)枮?01010593054.5的、發(fā)明名稱為
“浮法玻璃的制造方法和制造裝置”的申請的分案申請。
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0002]本發(fā)明涉及浮法玻璃的制造方法和制造裝置，尤其涉及在緩冷爐中形成用于防瑕疵的保護(hù)膜的浮法玻璃的制造方法和制造裝置。
【背景技術(shù)】
[0003]關(guān)于浮法玻璃，如圖4所示，將熔融玻璃供給至浮拋槽42的熔融錫43上，成形為具有期望厚度和寬度的帶狀玻璃44。已成形的帶狀玻璃44從浮拋槽42的出口被與浮拋槽42相鄰設(shè)置的提升部45的提升輥48拉起后，通過緩冷爐46退火和冷卻，而形成玻璃帶(浮法玻璃)41。然后，該玻璃帶41再通過退火窯47冷卻到能夠被切斷的室溫后通過切斷裝置53切斷為規(guī)定的尺寸。這期間，通過搬運輥51牽引并搬運玻璃帶41，從而能夠連續(xù)地進(jìn)行制造。
[0004]公知在上述的浮法玻璃制造工序中，為了防止因上述搬運輥51產(chǎn)生瑕疵和在之后的搬運時或輸送時產(chǎn)生瑕疵，向已成形的玻璃帶41的板面噴吹亞硫酸氣體(SO2)形成硫酸鹽保護(hù)被膜。例如，在專利文獻(xiàn)I中記載了如下的結(jié)構(gòu)，即，如圖4所示，在緩冷爐46的上游區(qū)域設(shè)置用于噴吹亞硫酸氣體的噴嘴54，從該噴嘴54向在緩冷爐46內(nèi)通過搬運輥51進(jìn)行搬運中的玻璃帶41噴吹亞硫酸氣體形成保護(hù)被膜。在高溫的緩冷爐46內(nèi)，噴吹在玻璃帶41上的亞硫酸氣體與玻璃的構(gòu)成成分等發(fā)生反應(yīng),在玻璃帶41的表面形成硫酸鈉等硫酸鹽保護(hù)被膜。該硫酸鹽保護(hù)被膜最終通過清洗而除去。
[0005]專利文獻(xiàn)1:國際公開第02/051767號小冊子

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]在浮法玻璃制造裝置的緩冷爐內(nèi)形成硫酸鹽保護(hù)被膜的情況下，在溫度高的緩冷爐的上游噴吹亞硫酸氣體。在專利文獻(xiàn)I中，通過在緩冷爐上游的由間隔壁劃分的區(qū)域內(nèi)設(shè)置有噴嘴而噴吹亞硫酸氣體，來增大該區(qū)域內(nèi)的亞硫酸氣體的濃度而提高與玻璃的反應(yīng)效率，從而在玻璃帶的表面高效地形成保護(hù)被膜。但是，即使在由間隔壁劃分的區(qū)域內(nèi)噴吹亞硫酸氣體，剩余的亞硫酸氣體也寬廣地流出到緩冷爐內(nèi)，該亞硫酸氣體滯留在緩冷爐內(nèi)，或者再從緩冷爐泄漏到外部。
[0007]這樣的緩冷爐內(nèi)的剩余亞硫酸氣體會腐蝕緩冷爐的結(jié)構(gòu)件，或者從搬運輥的間隙流入與緩冷爐相鄰的提升部而同樣地腐蝕提升部的結(jié)構(gòu)件，不僅產(chǎn)生大的損害，而且由于被腐蝕的結(jié)構(gòu)件的銹或腐蝕物落在玻璃帶的表面上，或者附著、粘接在輥表面上，而產(chǎn)生在玻璃帶表面上附著異物或產(chǎn)生瑕疵等缺點，導(dǎo)致得到的浮法玻璃的品質(zhì)下降和成品率降低。
[0008]因此，在專利文獻(xiàn)I中記載了如下內(nèi)容，即，在密閉退火窯“sealed lehr”(提升部)中噴吹亞硫酸氣體形成保護(hù)被膜的情況下，為了防止亞硫酸氣體從密閉退火窯流入浮拋槽而污染浮拋槽中的熔融錫，而與噴嘴相鄰地設(shè)置吸引嘴，吸引噴吹的亞硫酸氣體中的未用于形成玻璃帶的保護(hù)被膜的剩余的亞硫酸氣體，排出至系統(tǒng)外。但是，通過這樣的方法難以消除緩冷爐內(nèi)的上述問題。
[0009]本發(fā)明是鑒于上述問題而提出的，其目的在于提供浮法玻璃的制造方法和制造裝置，其能夠在玻璃帶的板面上可靠地形成足夠厚度的保護(hù)被膜并且能夠減輕或防止亞硫酸氣體從緩冷爐內(nèi)泄露至外部和腐蝕緩冷爐的結(jié)構(gòu)件。
[0010]本發(fā)明是根據(jù)為了達(dá)到上述目的專心研究的結(jié)果得到的，提供一種浮法玻璃的制造方法，包括將在浮拋槽中成形并通過提升部從所述浮拋槽拉起的玻璃帶搬運至緩冷爐的工序，該緩冷爐用于將所述玻璃帶緩冷到玻璃的應(yīng)變點溫度以下，其中，從在該緩冷爐的上游部設(shè)置的噴嘴向正在所述緩冷爐內(nèi)進(jìn)行搬運的所述玻璃帶的下表面供給亞硫酸氣體，進(jìn)而在設(shè)置所述噴嘴的位置的下游的區(qū)域設(shè)置排氣室而吸引所述緩冷爐內(nèi)的氣氛，由此在所述玻璃帶的周圍沿所述玻璃帶的搬運方向形成所述亞硫酸氣體的氣流，且將所述氣流引導(dǎo)至所述排氣室，將剩余的所述亞硫酸氣體排出至外部。
[0011]優(yōu)選在所述排氣室的下游側(cè)設(shè)置有供氣室，從該供氣室向所述玻璃帶供給外部氣體，由此在所述排氣室的后方形成相對于外部為正壓的氣氛。
[0012]優(yōu)選對在與所述排氣室連通的排氣管道內(nèi)設(shè)置的排氣扇的轉(zhuǎn)速和/或在所述排氣管道內(nèi)設(shè)置的風(fēng)擋的開度進(jìn)行控制以調(diào)節(jié)排氣量。
[0013]優(yōu)選對在與所述供氣室連通的供氣管道內(nèi)設(shè)置的供氣扇的轉(zhuǎn)速和/或在所述供氣管道內(nèi)設(shè)置的風(fēng)擋的開度進(jìn)行控制以調(diào)節(jié)供氣量。
[0014]優(yōu)選在所述緩冷爐內(nèi)將所述排氣室內(nèi)的溫度保持為所述亞硫酸氣體的酸露點以上。
[0015]另外，本發(fā)明提供一種浮法玻璃制造裝置，其具有緩冷爐，該緩冷爐用于將在浮拋槽中成形并通過提升部從所述浮拋槽拉起的玻璃帶緩冷到玻璃的應(yīng)變點溫度以下，其中，在該緩冷爐的上游部設(shè)置有噴嘴，該噴嘴向正在該緩冷爐內(nèi)通過搬運輥進(jìn)行搬運的所述玻璃帶的下表面噴吹亞硫酸氣體，在設(shè)置所述噴嘴的位置的下游區(qū)域?qū)⑽鼍徖錉t內(nèi)的氣氛的排氣室設(shè)置在所述玻璃帶的上方。
[0016]優(yōu)選在所述排氣室的下游側(cè)設(shè)置有供氣室，該供氣室用于向所述玻璃帶供給外部氣體并在所述排氣室的后方形成相對于外部為正壓的氣氛。
[0017]優(yōu)選在所述排氣室的下游側(cè)，在正在所述緩冷爐內(nèi)進(jìn)行搬運的所述玻璃帶的上方和/或下方設(shè)置有隔板。
[0018]優(yōu)選暴露于正在所述緩冷爐內(nèi)進(jìn)行搬運的所述玻璃帶的上方的氣氛中的結(jié)構(gòu)件由耐酸性的不燃材料形成。
[0019]優(yōu)選在與所述排氣室連通的排氣管道之前，與該排氣管道連通而設(shè)置有用于對所述亞硫酸氣體進(jìn)行廢氣處理的洗氣器。
[0020]根據(jù)本發(fā)明，因為在玻璃帶的周圍沿玻璃帶的搬運方向形成含有亞硫酸氣體的氣氛的氣流，所以還能夠通過該氣流中擔(dān)載的亞硫酸氣體形成保護(hù)被膜。結(jié)果，尤其在玻璃帶的下表面高效地形成保護(hù)被膜，因而能夠防止因搬運輥產(chǎn)生的瑕疵。而且，能夠減輕或防止亞硫酸氣體從緩冷爐內(nèi)泄露到外部以及腐蝕緩冷爐的結(jié)構(gòu)件等?！緦＠綀D】

【附圖說明】
[0021]圖1是本發(fā)明優(yōu)選的實施方式的浮法玻璃制造裝置的縱剖面說明圖。
[0022]圖2是圖1中的A-A部的俯視圖(僅圖示了一半)。
[0023]圖3是本發(fā)明其他優(yōu)選的實施方式的浮法玻璃制造裝置的緩冷爐的末端部的剖面說明圖。
[0024]圖4是現(xiàn)有的浮法玻璃制造裝置的剖面說明圖。
[0025]標(biāo)號說明
[0026]1:玻璃帶
[0027]2:浮拋槽
[0028]3:熔融錫
[0029]4:帶狀玻璃
[0030]5:提升部
[0031]6:緩冷爐
[0032]7:退火窯
[0033]8:提升輥
[0034]9:罩構(gòu)件
[0035]10:罩構(gòu)件
[0036]11:搬運輥
[0037]12:排氣室
[0038]13:切斷裝置
[0039]14:噴嘴
[0040]15:排氣管道
[0041]16:風(fēng)擋
[0042]17:排氣扇
[0043]18:驅(qū)動馬達(dá)
[0044]19:供氣室
[0045]20:供氣管道
[0046]21:供氣扇
[0047]22:風(fēng)擋
[0048]23:驅(qū)動馬達(dá)
[0049]26:隔板
[0050]27:筒狀構(gòu)件
[0051]28:筒狀構(gòu)件
【具體實施方式】
[0052]下面，參照【專利附圖】

【附圖說明】本發(fā)明的實施方式。此外，在本說明書中，所說的玻璃帶的下表面指玻璃帶與搬運輥接觸一側(cè)的表面，所說的下方指所述下表面朝向的方向，所說的玻璃帶的上方指所述下表面的相反側(cè)的面(上表面)朝向的方向。[0053]圖1是本發(fā)明優(yōu)選的實施方式的浮法玻璃制造裝置的縱剖面說明圖，圖2是圖1中的A-A部的俯視圖。在圖2中僅圖示了緩冷爐的一半，未圖示的一半與之對稱，是相同的。如圖所示，在浮拋槽2的熔融錫3上成形為帶狀玻璃4的玻璃帶I被在浮拋槽2的出口處的提升部5上設(shè)置的提升輥8從熔融錫3拉起，移送至與提升部5連續(xù)設(shè)置的緩冷爐6中。在提升部5內(nèi)，提升輥8配置在高于浮拋槽2的熔融錫表面的高度上，在浮拋槽2中成形為帶狀玻璃4的玻璃帶I被提升輥8拉起后，在具有罩構(gòu)件9的提升部5中冷卻直到變?yōu)榉€(wěn)定的狀態(tài)，然后搬運至緩冷爐6。
[0054]緩冷爐6是與制造大多數(shù)玻璃產(chǎn)品中一般使用的緩冷爐同樣具有罩構(gòu)件10的溫度可調(diào)的設(shè)備，在內(nèi)部并列設(shè)置有多個搬運輥11。這些搬運輥11由驅(qū)動馬達(dá)(未圖示)在恒定速度下驅(qū)動，從而以決定的恒定速度牽引或搬運帶狀的玻璃帶I。在這種情況下，可以使一部分搬運輥不與驅(qū)動馬達(dá)連結(jié)以被驅(qū)動，從而自由旋轉(zhuǎn)。該緩冷爐6的長度為數(shù)十m，在具有罩構(gòu)件10的緩冷爐6內(nèi)進(jìn)行溫度管理，以獲得溫度從上游部的高溫(例如，約600~7500C )遞減到下游部的末端溫度(例如，約200~400°C )的溫度分布。由此，玻璃帶I在緩冷爐6內(nèi)通過搬運輥11搬運期間，緩冷到玻璃的應(yīng)變點溫度以下的溫度，使得在玻璃內(nèi)不殘留不希望的熱應(yīng)力。并且，通常在到達(dá)緩冷爐6的出口前，玻璃帶I被冷卻到更加低于玻璃的應(yīng)變點溫度的溫度。因為通過緩冷爐6中的退火工序冷卻了的玻璃帶I如上所述，在緩冷爐6的出口還具有約200~400°C的高溫，因而再通過退火窯7冷卻到能夠切斷的溫度后，通過切斷裝置13切斷為規(guī)定的大小。退火窯7如果能夠?qū)⒁丫徖涞牟ＡЮ鋮s到接近室溫，則可以不是像緩冷爐6那樣的具有罩構(gòu)件10的溫度可調(diào)的設(shè)備。
[0055]本發(fā)明如圖1所示，在緩冷爐6的上游部設(shè)置有用于向玻璃帶I的下表面噴吹亞硫酸氣體的噴嘴14，而且在設(shè)置噴嘴14的位置(亞硫酸氣體噴吹位置)的下游區(qū)域設(shè)置有排氣室12來吸引緩冷爐6內(nèi)的氣氛，從而將上游部的亞硫酸氣體在玻璃帶I的周圍作為含有亞硫酸氣體的氣氛的氣流而在玻璃帶I的搬運方向上形成，并且引導(dǎo)至排氣室12，從排氣室12排出至外部。由此，在緩冷爐6中的緩冷工序中，通過噴嘴14向上游部的處于高溫狀態(tài)的玻璃帶I的下表面噴吹亞硫酸氣體而形成由硫酸鹽構(gòu)成的防瑕疵用保護(hù)層(保護(hù)被膜)，防止因搬運輥產(chǎn)生的瑕疵和之`后在搬運時或輸送時產(chǎn)生的瑕疵。
[0056]本發(fā)明通過在緩冷爐6的上游部設(shè)置所述噴嘴14，向高溫的玻璃帶I的下表面噴吹亞硫酸氣體，能夠良好地形成保護(hù)被膜。越高溫，越容易在玻璃帶I的下表面形成由產(chǎn)生自亞硫酸氣體的硫酸鹽形成的保護(hù)被膜。在本發(fā)明中，緩冷爐6的上游部是上述那樣管理為高溫的區(qū)域。作為適于形成保護(hù)被膜的玻璃帶I的溫度，根據(jù)玻璃種類等稍有不同，但優(yōu)選500~750°C，更優(yōu)選600~750°C。
[0057]作為形成保護(hù)被膜所使用的氣體優(yōu)選亞硫酸氣體。亞硫酸氣體與玻璃中的化學(xué)成分發(fā)生反應(yīng)而在玻璃帶I的板面上形成硫酸鈉等硫酸鹽被膜，該被膜易于通過水清洗除去。亞硫酸氣體通常單獨使用，但是可以根據(jù)需要含有其他氣體。在緩冷爐6的上游部向玻璃帶I噴吹亞硫酸氣體的情況下，為了快速冷卻溫度為應(yīng)變點以上的玻璃帶而不破壞緩冷處理，優(yōu)選亞硫酸氣體預(yù)熱到例如400~600°C左右。
[0058]本發(fā)明在設(shè)置噴嘴14的位置的下游區(qū)域設(shè)置有排氣室12。圖1是將排氣室12設(shè)置在緩冷爐6的下游部的例子。在緩冷爐6的上游部從噴嘴14向玻璃帶I噴吹的亞硫酸氣體大多與玻璃帶I的玻璃成分發(fā)生反應(yīng)而在玻璃帶I的下表面形成硫酸鹽被膜，但是剩余的亞硫酸氣體包含在緩冷爐6上游部的爐內(nèi)的氣氛中。排氣室12具有如下的功能，即，通過向下游方向吸引該上游部的爐內(nèi)的含有亞硫酸氣體的氣氛，在玻璃帶I的周圍并沿玻璃帶I的搬運方向形成含有亞硫酸氣體的氣氛的氣流，以免在緩冷爐6內(nèi)產(chǎn)生亞硫酸氣體的停滯狀態(tài)，并且通過在玻璃帶I的周圍形成的含有亞硫酸氣體的氣氛的氣流也形成保護(hù)被膜，并進(jìn)一步將剩余的亞硫酸氣體排出到外部。若排氣室12設(shè)置在緩冷爐6的末端(下游端)，則含有亞硫酸氣體的氣氛的氣流被引導(dǎo)至緩冷爐6的末端，通過排氣室12排出，因而能夠避免氣流的一部分向排氣室12的后方(下游側(cè))流動。但是，排氣室12的設(shè)置位置只要是氣體噴吹位置的下游區(qū)域即可，也可以是緩冷爐6的中游部或下游部。但是，優(yōu)選設(shè)置在溫度低于適于形成保護(hù)皮膜的玻璃帶溫度的玻璃溫度區(qū)域(小于500°C)。
[0059]所述排氣室12具有筒狀構(gòu)件27，以便高效吸引緩冷爐6內(nèi)的含有亞硫酸氣體的氣氛，在該筒狀構(gòu)件27的上部設(shè)置有用于將吸引的氣氛排出到外部的排氣管道15。排氣管道15與排氣室12連通。筒狀構(gòu)件27的形狀不特別限定，但是為了盡可能在緩冷爐6的整個寬度方向上均勻地吸引緩冷爐6內(nèi)的氣氛，如圖2所示橫截面形狀為矩形，兩側(cè)邊優(yōu)選為玻璃帶寬度以上，更優(yōu)選具有從搬運輥11的端部突出到外側(cè)的大小。筒狀構(gòu)件27的寬度a主要由緩冷爐6的爐內(nèi)容量決定，但優(yōu)選其大小為0.5~4m。如果a具有這樣的大小，則能夠在不妨礙緩冷操作的情況下緩慢地吸引緩冷爐6內(nèi)的氣氛。若a過小，則產(chǎn)生壓力損失，不優(yōu)選。并且，為了在距離玻璃帶I比較近的位置吸引緩冷爐6內(nèi)的氣氛，盡可能地在玻璃帶I的附近形成含有亞硫酸氣體的氣氛的氣流，優(yōu)選設(shè)定為筒狀構(gòu)件27的下端與玻璃帶I間隔規(guī)定的間隔(優(yōu)選10~100mm，更優(yōu)選10~50mm)。此時，優(yōu)選筒狀構(gòu)件27的上游側(cè)的下端比下游側(cè)的下端更遠(yuǎn)離玻璃帶，尤其優(yōu)選遠(yuǎn)離20~70mm。
[0060]通過驅(qū)動馬達(dá)18驅(qū)動設(shè)置在排氣管道15內(nèi)的排氣扇17，排出所述排氣室12內(nèi)的氣體。還能夠在排氣管道15內(nèi)設(shè)置風(fēng)擋16以調(diào)整排氣室12的排氣量。像這樣在排氣管道15內(nèi)設(shè)置了風(fēng)擋16的情況下，能夠通過控制排氣扇17的轉(zhuǎn)速和/或風(fēng)擋16的開度，調(diào)整排氣室12的排氣量。一邊考慮噴嘴14噴吹的亞硫酸氣體的噴吹量等一邊調(diào)整排氣室12的排氣量。
[0061]以在圖1所示的緩冷爐6中如上述那樣將排氣室12設(shè)置在緩冷爐6末端的例子說明了將排氣室12設(shè)置在緩冷爐6內(nèi)部的情況，但是在本發(fā)明中，排氣室12能夠設(shè)置在緩冷爐6的爐外。該方法未圖示，將排氣室12設(shè)置在與作為緩冷爐6末端的出口相鄰的退火窯7中，具體地說拆除緩冷爐6的罩構(gòu)件10的末端部的全部或下部而設(shè)置排氣室12，其中，緩冷爐6的罩構(gòu)件10劃分緩冷爐6和沒有罩構(gòu)件的退火窯7之間。結(jié)果，排氣室12形成緩冷爐6的末端而形成緩冷爐6的罩構(gòu)件10的一部分。在本發(fā)明中所說的將排氣室12設(shè)置在緩冷爐6的末端包括上述將排氣室12與緩冷爐6的出口部相鄰地設(shè)置在退火窯中的情況。
[0062]根據(jù)該方法，緩冷爐6內(nèi)的全部氣氛被引導(dǎo)至排氣室12而在緩冷爐6的上游部到末端的整個區(qū)域流動，而在玻璃帶I的周圍形成含有亞硫酸氣體的氣流，剩余的亞硫酸氣體從緩冷爐6的末端排出。因而，如將排氣室12設(shè)置在緩冷爐6內(nèi)的中游部或下游部的情況那樣，實際上不用擔(dān)心亞硫酸氣體的一部分繞至排氣室12的后方而殘留在緩冷爐6內(nèi)。另外，該方法因為能夠利用沒有罩構(gòu)件的退火窯設(shè)置排氣室12，因而具有不用大幅度改造緩冷爐6的優(yōu)點。[0063]圖3示出了本發(fā)明其他的優(yōu)選實施方式。關(guān)于本例，如圖所示，在緩冷爐6的下游部設(shè)置的排氣室12的下游側(cè)設(shè)置有供氣室19，從該供氣室19向排氣室12后方的玻璃帶I供給外部氣體，在排氣室12的后方形成相對于外部為正壓的氣氛。在此，所說的排氣室12的后方指玻璃帶I的搬運方向上的排氣室12的后側(cè)，具體指在緩冷爐6中設(shè)置的排氣室12的下游側(cè)(與浮拋槽2相反的一側(cè))附近的部位。在將排氣室12設(shè)置于緩冷爐6的情況下，在排氣室12的后方，通常通過排氣室12的吸引作用易于形成負(fù)壓狀態(tài)。因此，如上所述，在將排氣室12設(shè)置在緩冷爐6末端的情況下，粉塵等可能與外部氣體一起從緩冷爐6的出口部流入緩冷爐6內(nèi)，而附著在玻璃帶I的表面。本例通過供氣室19防止這樣的粉塵等流入。
[0064]即，如圖3所示，在排氣室12的下游側(cè)并列設(shè)置有供氣室19，從該供氣室19向排氣室12后方的玻璃帶I供給外部氣體，使排氣室12的后方相對于外部為正壓。該供氣室19具有與所述排氣室12同樣的筒狀構(gòu)件28，該筒狀構(gòu)件28的形狀和設(shè)置方法也與排氣室12基本相同(其中，優(yōu)選筒狀構(gòu)件28的下游側(cè)的下端比上游側(cè)的下端更遠(yuǎn)離玻璃帶，尤其優(yōu)選遠(yuǎn)離20~70mm)，在筒狀構(gòu)件28的上部設(shè)置有供氣用的供氣管道20。供氣管道20與供氣室19連通。在供氣管道20內(nèi)設(shè)置有供氣扇21和風(fēng)擋22。通過驅(qū)動馬達(dá)23驅(qū)動供氣扇21向供氣室19供氣，通過控制供氣扇21的轉(zhuǎn)速和/或改變風(fēng)擋22的開度而調(diào)整供氣室19的供氣量。
[0065]而且，優(yōu)選在排氣室12的下游側(cè)(在具有供氣室19的情況下為排氣室12與供氣室19之間)，在緩冷爐6內(nèi)進(jìn)行搬運中的玻璃帶I的上方和/或下方設(shè)置隔板26 (在圖3中玻璃帶上方的隔板未圖示)。這是為了提高排氣效率或供氣效率。
[0066]在將隔板26設(shè)置在玻璃帶I上方的情況下，優(yōu)選隔板26與玻璃帶I之間的間隔為10~100mm，更優(yōu)選為10~50mm，在將隔板26設(shè)置在玻璃帶I的下方的情況下，優(yōu)選隔板26與玻璃帶I之間的間隔或隔板前端與搬運輥外周間的間隔為10~100mm，更優(yōu)選為10~50mm。優(yōu)選隔板26的寬度寬于排氣室12的寬度。
[0067]如本例所示，通過與排氣室12并列地設(shè)置供氣室19，而通過供氣室19的供氣使排氣室12的后方(下游側(cè))保持相對于外部為I~IOPa左右的正壓，因而能夠防止引導(dǎo)至排氣室12的亞硫酸氣體的一部分流動到排氣室12的后方。尤其是，在排氣室12和供氣室19像本例那樣設(shè)置于緩冷爐6末端的情況下，能夠防止亞硫酸氣體的一部分流動到排氣室12的后方之后再從緩冷爐6的末端部流出到退火窯側(cè)。另外，因為緩冷爐6的末端部或供氣室19的后方部相對于外部形成正壓，所以能夠防止粉塵等從外部流入緩冷爐6內(nèi)。
[0068]以上，說明了本發(fā)明優(yōu)選的實施方式，但優(yōu)選暴露于緩冷爐6的至少玻璃帶I上方的氣氛中的排氣室12和供氣室19等結(jié)構(gòu)件由耐酸性的不燃材料形成。這是因為，若由耐酸性差的材料形成，則會被亞硫酸氣體腐蝕，其腐蝕物落在玻璃帶上，或者附著、粘接在輥表面上，從而產(chǎn)生在玻璃帶表面上附著異物或產(chǎn)生瑕疵等缺點，導(dǎo)致得到的浮法玻璃的品質(zhì)降低和成品率下降。作為該耐酸性的不燃材料可以列舉不銹鋼或混凝土澆筑、陶瓷內(nèi)襯、特氟龍(Teflon,注冊商標(biāo))加工等。
[0069]另外，若緩冷爐6內(nèi)、排氣室12內(nèi)、排氣管道15內(nèi)和供氣管道20內(nèi)等的溫度形成為亞硫酸氣體的酸露點溫度(100~200°C)以下，則在緩冷爐6內(nèi)噴吹到玻璃帶I的下表面上的亞硫酸氣體在與上述構(gòu)件接觸時結(jié)露，并且結(jié)露落到玻璃帶上污染玻璃帶，因而優(yōu)選緩冷爐6內(nèi)、排氣室12內(nèi)、供氣室19內(nèi)、排氣管道15內(nèi)和供氣管道20的溫度保持為高于亞硫酸氣體的酸露點的溫度。
[0070]此外，優(yōu)選在與排氣室12連通的排氣管道15之前與該排氣管道15連通而設(shè)置有用于對亞硫酸氣體進(jìn)行廢氣處理的洗氣器。
[0071]參照特定的實施方式詳細(xì)地說明了本發(fā)明，但本領(lǐng)域技術(shù)人員公知能夠在不脫離本發(fā)明宗旨和范圍的情況下加入各種變形和修正。
[0072]本申請基于2009年12月14日提出的日本專利申請2009-282459，在此參照并引入其內(nèi)容。
[0073]本發(fā)明適用于在浮法玻璃制造裝置的緩冷爐的高溫區(qū)域向浮法玻璃噴吹亞硫酸氣體以通過其硫酸鹽形成防瑕 疵用的保護(hù)被膜的浮法加工法。
【權(quán)利要求】
1.一種浮法玻璃的制造方法，包括將在浮拋槽中成形并在提升部從所述浮拋槽拉起的玻璃帶搬運至緩冷爐的工序，該緩冷爐用于將所述玻璃帶緩冷到玻璃的應(yīng)變點溫度以下，其中， 從在該緩冷爐的上游部設(shè)置的噴嘴向正在所述緩冷爐內(nèi)進(jìn)行搬運的所述玻璃帶的下表面供給亞硫酸氣體，進(jìn)而僅在作為設(shè)置所述噴嘴的位置的下游的區(qū)域的所述緩冷爐的中游部或下游部設(shè)置排氣室而吸引所述緩冷爐內(nèi)的氣氛，由此在所述玻璃帶的周圍沿所述玻璃帶的搬運方向形成所述亞硫酸氣體的氣流，且將所述氣流引導(dǎo)至所述排氣室，將剩余的所述亞硫酸氣體排出至外部， 設(shè)置所述排氣室的所述緩冷爐的中游部或下游部是溫度低于適于形成防瑕疵用保護(hù)層的玻璃帶溫度的玻璃溫度區(qū)域。
2.如權(quán)利要求1所述的浮法玻璃的制造方法，其中， 所述溫度低于適于形成防瑕疵用保護(hù)層的玻璃帶溫度的玻璃溫度區(qū)域的溫度小于500。。。
3.如權(quán)利要求1或2所述的浮法玻璃的制造方法，其中， 在所述排氣室的下游側(cè)設(shè)置有供氣室，從該供氣室向所述玻璃帶供給外部氣體，由此在所述排氣室的后方形成相對于外部為正壓的氣氛。
4.如權(quán)利要求1~3中任一項所述的浮法玻璃的制造方法，其中， 對在與所述排氣室連通的排氣管道內(nèi)設(shè)置的排氣扇的轉(zhuǎn)速和/或在所述排氣管道內(nèi)設(shè)置的風(fēng)擋的開度進(jìn)行控制以調(diào)節(jié)排氣量。
5.如權(quán)利要求3所述的浮法玻璃的制造方法，其中，` 對在與所述供氣室連通的供氣管道內(nèi)設(shè)置的供氣扇的轉(zhuǎn)速和/或在所述供氣管道內(nèi)設(shè)置的風(fēng)擋的開度進(jìn)行控制以調(diào)節(jié)供氣量。
6.如權(quán)利要求1~5中任一項所述的浮法玻璃的制造方法，其中， 在所述緩冷爐內(nèi)將所述排氣室內(nèi)的溫度保持為所述亞硫酸氣體的酸露點以上。
7.一種浮法玻璃制造裝置，具有緩冷爐，該緩冷爐用于將在浮拋槽中成形并在提升部從所述浮拋槽拉起的玻璃帶緩冷到玻璃的應(yīng)變點溫度以下，其中， 在該緩冷爐的上游部設(shè)置有噴嘴，該噴嘴向正在該緩冷爐內(nèi)通過搬運輥進(jìn)行搬運的所述玻璃帶的下表面噴吹亞硫酸氣體，僅在作為設(shè)置所述噴嘴的位置的下游的區(qū)域的所述緩冷爐的中游部或下游部將吸引所述緩冷爐內(nèi)的氣氛的排氣室設(shè)置在所述玻璃帶的上方， 設(shè)置所述排氣室的所述緩冷爐的中游部或下游部是溫度低于適于形成防瑕疵用保護(hù)層的玻璃帶溫度的玻璃溫度區(qū)域。
8.如權(quán)利要求7所述的浮法玻璃的制造裝置，其中， 所述溫度低于適于形成防瑕疵用保護(hù)層的玻璃帶溫度的玻璃溫度區(qū)域的溫度小于500。。。
9.如權(quán)利要求7或8所述的浮法玻璃制造裝置，其中， 在所述排氣室的下游側(cè)設(shè)置有供氣室，該供氣室用于向所述玻璃帶供給外部氣體并在所述排氣室的后方形成相對于外部為正壓的氣氛。
10.如權(quán)利要求7~9中任一項所述的浮法玻璃制造裝置，其中， 在所述排氣室的下游側(cè)，在正在所述緩冷爐內(nèi)進(jìn)行搬運的所述玻璃帶的上方和/或下方設(shè)置有隔板。
11.如權(quán)利要求7~10中任一項所述的浮法玻璃制造裝置，其中， 暴露于正在所述緩冷爐內(nèi)進(jìn)行搬運的所述玻璃帶的上方的氣氛中的結(jié)構(gòu)件由耐酸性的不燃材料形成。
12.如權(quán)利要求7~11中任一項所述的浮法玻璃制造裝置，其中， 在與所述排氣室連通的排氣管道之前，與該排氣管道連通而設(shè)置有用于對所述亞硫酸氣體進(jìn)行廢氣處理的洗氣器。
【文檔編號】C03B18/00GK103482852SQ201310359607
【公開日】2014年1月1日 申請日期:2010年12月14日 優(yōu)先權(quán)日:2009年12月14日
【發(fā)明者】瀧口哲史 申請人:旭硝子株式會社