一種噴釉系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種噴釉系統(tǒng)，該噴釉系統(tǒng)包括：噴釉加工裝置，且噴釉加工裝置中至少一個為噴淋式噴釉房，該噴釉房包括：房體，設(shè)置在房體內(nèi)的外壁噴槍及內(nèi)壁噴槍，與上述噴槍連接的釉料供給單元及清洗液供給單元。在上述技術(shù)方案中，通過內(nèi)壁噴槍和外壁噴槍分別對陶瓷衛(wèi)具的不同部位進行噴釉，從而提高了陶瓷衛(wèi)具的噴釉效果，由于有針對性的對陶瓷衛(wèi)具進行噴釉，減少了釉料的浪費。在噴釉工作完成后，清洗液供給單元給外壁噴槍和內(nèi)壁噴槍提供清洗液，從而實現(xiàn)了通過噴槍自動清洗殘留的釉料，避免了人工清洗給工人帶來的傷害。
【專利說明】一種噴釉系統(tǒng)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及到陶瓷衛(wèi)具加工的【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及到一種噴釉系統(tǒng)。

【背景技術(shù)】
[0002]目前國內(nèi)陶瓷衛(wèi)浴行業(yè)施釉工序目前大多采用人工施釉方式。這種方式對工人的健康危害較大，曾暴發(fā)過群體性的塵肺病事件。近年國內(nèi)也有少數(shù)廠家采用了隧道式分布多噴頭的連續(xù)噴淋式施釉系統(tǒng)。隧道式固定分布的多噴頭噴淋式施釉方式是隨著工件在線體上連續(xù)前行，固定分布的噴頭連續(xù)噴淋式噴釉，對衛(wèi)浴產(chǎn)品間隔處的空位處也會進行噴釉，釉漿浪費嚴重，而且傳送線會攜帶很多釉料，在隧道外還需人工擦拭，所需輔助工人較多，重要的一點是以坐便器為例在其進入隧道式噴淋前還需人工手持噴槍進行坐便器里邊內(nèi)沿的噴釉(噴淋式無法施釉到內(nèi)沿)，造成陶瓷衛(wèi)具的生產(chǎn)效率較低。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明提供了一種噴釉系統(tǒng)，用以提高陶瓷衛(wèi)具的噴釉效率，同時，降低噴釉對工人的傷害。
[0004]本發(fā)明提供了一種噴釉系統(tǒng)，該噴釉系統(tǒng)包括:
[0005]上料傳輸線；
[0006]設(shè)置在所述上料傳輸線側(cè)邊的至少兩個噴釉加工裝置，每個噴釉加工裝置具有用于承載陶瓷衛(wèi)具的轉(zhuǎn)盤；
[0007]下料傳輸線；
[0008]設(shè)置在所述上料傳輸線和下料傳輸線之間，并用于將承載在所述上料傳輸線上的未加工的陶瓷衛(wèi)具傳送到所述噴釉加工裝置內(nèi)以及將加工完成的陶瓷衛(wèi)具傳送到所述下料傳輸線上的移載裝置；其中，
[0009]所述噴釉加工裝置中至少一個為噴淋式噴釉房，所述噴淋式噴釉房包括:
[0010]房體，所述轉(zhuǎn)盤設(shè)置在所述房體內(nèi)，環(huán)繞所述轉(zhuǎn)盤設(shè)置并用于噴涂所述陶瓷衛(wèi)具外側(cè)壁的至少兩個外壁噴槍，以及通過伸縮裝置與所述房體固定連接并用于噴涂陶瓷衛(wèi)具內(nèi)壁的內(nèi)壁噴槍；還包括:
[0011]釉料供給單元及清洗液供給單元，其中，所述外壁噴槍及所述內(nèi)壁噴槍各自與所述清洗液供給單元及釉料供給單元連通。
[0012]在上述技術(shù)方案中，通過內(nèi)壁噴槍和外壁噴槍分別對陶瓷衛(wèi)具的不同部位進行噴釉，從而提高了陶瓷衛(wèi)具的噴釉效果，同時，由于有針對性的對陶瓷衛(wèi)具進行噴釉，從而可以減少釉料的浪費。尤其是采用的內(nèi)壁噴槍通過伸縮裝置可以進行高度的調(diào)整，從而使得內(nèi)壁噴槍可以噴淋到陶瓷衛(wèi)具內(nèi)部的邊角，避免出現(xiàn)噴淋死角。在噴釉工作完成后，完成噴釉的陶瓷衛(wèi)具被移出，清洗液供給單元給外壁噴槍和內(nèi)壁噴槍提供清洗液，實現(xiàn)了通過噴槍自動清洗殘留的釉料，避免了人工清洗給工人帶來的傷害。
[0013]優(yōu)選的，所述伸縮裝置與所述內(nèi)壁噴槍轉(zhuǎn)動連接，且所述伸縮裝置上設(shè)置有用于調(diào)整所述內(nèi)壁噴槍轉(zhuǎn)動角度的角度驅(qū)動氣缸。通過設(shè)置的角度驅(qū)動氣缸可以驅(qū)動內(nèi)壁噴槍轉(zhuǎn)動，實現(xiàn)對內(nèi)壁噴槍角度的調(diào)整。
[0014]優(yōu)選的，所述噴釉系統(tǒng)還包括與每個噴釉加工裝置對應(yīng)設(shè)置的轉(zhuǎn)臂轉(zhuǎn)臺裝置，所述轉(zhuǎn)臂轉(zhuǎn)臺裝置包括底座，與所述底座轉(zhuǎn)動連接的轉(zhuǎn)臂，以及驅(qū)動所述轉(zhuǎn)臂轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)臂驅(qū)動電機；所述轉(zhuǎn)盤的個數(shù)為兩個，且兩個轉(zhuǎn)盤分別設(shè)置在所述轉(zhuǎn)臂的兩端，所述轉(zhuǎn)臂上還設(shè)置有用于驅(qū)動所述轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)盤驅(qū)動電機。通過轉(zhuǎn)臂轉(zhuǎn)臺裝置上設(shè)置的兩個轉(zhuǎn)盤，實現(xiàn)了一個陶瓷衛(wèi)具加工時，另一個陶瓷衛(wèi)具處于等待加工狀態(tài)，提高了噴釉的工作效率。
[0015]優(yōu)選的，所述移載裝置包括:支承座，與所述支承座通過升降氣缸連接的水平托臺，與所述水平托臺滑動連接的陶瓷衛(wèi)具托架，固定在所述水平托臺并用于推動所述陶瓷衛(wèi)具托架的移載氣缸；還包括驅(qū)動所述水平托臺轉(zhuǎn)動的托臺驅(qū)動電機。通過移載裝置實現(xiàn)陶瓷衛(wèi)具的移載，提高了整個設(shè)備的工作效率。
[0016]優(yōu)選的，噴釉系統(tǒng)還包括控制裝置，所述控制裝置分別與所述內(nèi)壁噴槍、外壁噴槍、釉料供給單元、清洗液供給單元及伸縮裝置信號連接，且在所述陶瓷衛(wèi)具位于所述外壁噴槍之間時，控制所述伸縮裝置驅(qū)動所述內(nèi)壁噴槍按照設(shè)定行程伸出，并按照設(shè)定時間控制所述釉料供給單元給所述內(nèi)壁噴槍及外壁噴槍供釉；在達到設(shè)定時間后，控制所述釉料供給單元停止供釉料，并控制所述清洗液供給單元給所述內(nèi)壁噴槍及外壁噴槍供清洗液清洗房體內(nèi)部。通過設(shè)置的控制裝置實現(xiàn)了對外壁噴槍及內(nèi)壁噴槍的自動化控制，提高了噴釉的效率。
[0017]優(yōu)選的，噴釉系統(tǒng)還包括檢測位于房體內(nèi)的轉(zhuǎn)盤上的陶瓷衛(wèi)具的傳感器；所述控制裝置與所述傳感器信號連接，并通過所述傳感器獲取位于房體內(nèi)的轉(zhuǎn)盤上的陶瓷衛(wèi)具的位置信息。通過設(shè)置的傳感器實現(xiàn)了對陶瓷衛(wèi)具信息的采集，給控制裝置控制外壁噴槍及內(nèi)壁噴槍提供了一個控制信號。
[0018]優(yōu)選的，所述轉(zhuǎn)臂驅(qū)動電機及所述轉(zhuǎn)盤驅(qū)動電機分別與所述控制裝置信號連接，在所述未加工的陶瓷衛(wèi)具放置在所述轉(zhuǎn)盤上時，所述控制裝置控制所述轉(zhuǎn)臂驅(qū)動電機轉(zhuǎn)動，使所述轉(zhuǎn)臂轉(zhuǎn)動到設(shè)定位置，所述未加工的陶瓷衛(wèi)具被送入到所述房體內(nèi)，控制所述轉(zhuǎn)盤驅(qū)動電機轉(zhuǎn)動。通過控制裝置實現(xiàn)了對轉(zhuǎn)臂轉(zhuǎn)臺裝置的自動化控制。
[0019]優(yōu)選的，所述升降氣缸、移載氣缸及所述托臺驅(qū)動電機分別與所述控制裝置信號連接；
[0020]在所述移載裝置將所述上料傳輸線上的未加工的陶瓷衛(wèi)具傳送到所述噴釉加工裝置內(nèi)時，所述控制裝置控制所述升降氣缸、移載氣缸及所述托臺驅(qū)動電機工作，將位于所述上料傳輸線上的未加工的陶瓷衛(wèi)具移至所述轉(zhuǎn)盤上；
[0021]在將加工完成的陶瓷衛(wèi)具傳送到所述下料傳輸線上時，所述控制裝置控制所述升降氣缸、移載氣缸及所述托臺驅(qū)動電機工作，將位于所述轉(zhuǎn)盤上的加工完成的陶瓷衛(wèi)具移至所述下料傳輸線。通過控制裝置對移載裝置的自動化控制，提高了整個設(shè)備的自動化程度。進而提高了整個設(shè)備的工作效率。
[0022]可選擇的，所述兩個噴釉加工裝置均為噴淋式噴釉房或所述兩個噴釉加工裝置中一個為噴淋式噴釉房，另一個為機械臂噴釉房。通過噴淋式噴釉房、機械臂噴釉房實現(xiàn)對陶瓷衛(wèi)具的噴釉。兩個噴釉房可以采用不同的結(jié)構(gòu)。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0023]圖1為本發(fā)明實施例提供的噴釉系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0024]圖2為本發(fā)明實施例提供的噴淋式噴釉房的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0025]圖3為本發(fā)明實施例提供的轉(zhuǎn)臂轉(zhuǎn)臺的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0026]圖4為本發(fā)明實施例提供的移載裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0027]圖5為本發(fā)明實施例提供的控制裝置與其他設(shè)備的信號連接示意圖。

【具體實施方式】
[0028]以下結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實施例進行詳細說明。應(yīng)當(dāng)理解的是，此處所描述的【具體實施方式】僅用于說明和解釋本發(fā)明，并不用于限制本發(fā)明。
[0029]如圖1、圖2及圖3所示，圖1示出了本發(fā)明實施例提供的噴釉系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2示出了本發(fā)明實施例提供的噴淋式噴釉房的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3示出了本發(fā)明實施例提供的轉(zhuǎn)臂轉(zhuǎn)臺裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0030]本發(fā)明實施例提供了一種噴釉系統(tǒng)，該噴釉系統(tǒng)包括:
[0031]上料傳輸線10 ；
[0032]設(shè)置在上料傳輸線10側(cè)邊的至少兩個噴釉加工裝置30，每個噴釉加工裝置具有承載陶瓷衛(wèi)具的轉(zhuǎn)盤；
[0033]下料傳輸線20 ；
[0034]設(shè)置在上料傳輸線10和下料傳輸線20之間，并用于將承載在上料傳輸線10上的未加工的陶瓷衛(wèi)具傳送到噴釉加工裝置30內(nèi)以及將加工完成的陶瓷衛(wèi)具傳送到下料傳輸線20上的移載裝置40;其中，
[0035]噴釉加工裝置30中至少一個為噴淋式噴釉房，噴淋式噴釉房包括:
[0036]房體31，位于房體31內(nèi)并用于承載陶瓷衛(wèi)具的轉(zhuǎn)盤53，環(huán)繞轉(zhuǎn)盤53設(shè)置并用于噴涂陶瓷衛(wèi)具外側(cè)壁的至少兩個外壁噴槍34，以及通過伸縮裝置32與房體31固定連接并用于噴涂陶瓷衛(wèi)具內(nèi)壁的內(nèi)壁噴槍35 ;還包括:
[0037]釉料供給單元及清洗液供給單元，其中，外壁噴槍34及內(nèi)壁噴槍35各自與清洗液供給單元及釉料供給單元連通。
[0038]在上述實施例中，通過上料傳輸線10傳送未加工的陶瓷衛(wèi)具，并通過移載裝置40將未加工的陶瓷衛(wèi)具移載到噴釉加工裝置30內(nèi)，其中的噴釉加工裝置30具體結(jié)構(gòu)如圖2所示，未加工的陶瓷衛(wèi)具放置在轉(zhuǎn)盤53上，該轉(zhuǎn)盤53位于外壁噴槍34之間，并可帶動未加工的陶瓷衛(wèi)具轉(zhuǎn)動；在轉(zhuǎn)盤上承載陶瓷衛(wèi)具轉(zhuǎn)動時，外壁噴槍34跟內(nèi)壁噴槍35給陶瓷衛(wèi)具噴釉；具體的，在陶瓷衛(wèi)具轉(zhuǎn)動時，環(huán)繞在陶瓷衛(wèi)具周邊的外壁噴槍34給陶瓷衛(wèi)具的外壁噴釉，同時，伸縮裝置32伸出使內(nèi)壁噴釉系統(tǒng)處于不同的高度以能夠?qū)μ沾尚l(wèi)具的內(nèi)壁進行噴釉。在上述噴釉過程中，通過內(nèi)壁噴槍35和外壁噴槍34分別對陶瓷衛(wèi)具的不同部位進行噴釉，從而提高了陶瓷衛(wèi)具的噴釉效果，同時，由于有針對性的對陶瓷衛(wèi)具進行噴釉，從而可以減少釉料的浪費。尤其是采用的內(nèi)壁噴槍35通過伸縮裝置32可以進行高度的調(diào)整，從而使得內(nèi)壁噴槍35可以噴淋到陶瓷衛(wèi)具內(nèi)部的邊角，避免出現(xiàn)噴淋死角。在噴釉工作完成后，完成噴釉的陶瓷衛(wèi)具被移出，清洗液供給單元給外壁噴槍34和內(nèi)壁噴槍35提供清洗液，從而實現(xiàn)了通過噴槍自動清洗殘留的釉料，避免了人工清洗給工人帶來的傷害。
[0039]在上述實施例中，未完成的陶瓷衛(wèi)具及加工完成的陶瓷衛(wèi)具是通過傳輸線運送的，其中上料傳輸線10及下料傳輸線20均采用現(xiàn)有技術(shù)中常見的自動化輸送線，如:皮帶傳輸或者鏈條傳輸?shù)?。以上料傳輸線10為例，其能夠?qū)崿F(xiàn):在未加工的陶瓷衛(wèi)具運動到移載裝置40時，能夠阻止后續(xù)的未加工陶瓷衛(wèi)具的運送，以保證陶瓷衛(wèi)具能夠依次被移載裝置40移送到噴釉加工裝置30內(nèi)。具體的，上料傳輸線10末端各設(shè)有產(chǎn)品檢測傳感器，當(dāng)陶瓷衛(wèi)具傳輸?shù)綍捍嫖粫r，如果上料傳輸線10末端檢測到陶瓷衛(wèi)具時，則暫存位處的阻擋氣缸動作、升起，使陶瓷衛(wèi)具停止傳輸；如果上料傳輸線10末端未檢測到陶瓷衛(wèi)具時，則暫存位處的阻擋氣缸沒有動作，使陶瓷衛(wèi)具繼續(xù)傳輸?shù)缴狭蟼鬏斁€10末端，上料傳輸線10末端安裝有阻擋氣缸，阻擋陶瓷衛(wèi)具繼續(xù)傳輸。
[0040]在具體設(shè)置時，噴釉加工裝置30的個數(shù)可以根據(jù)具體的要求設(shè)定。其中的噴釉加工裝置30的個數(shù)為兩個，且分別位于上料傳輸線10的側(cè)邊，具體的，兩個噴釉加工裝置30可以均采用噴淋式噴釉房，或者采用一個為噴淋式噴釉房，另一個采用機械臂噴釉房；該機械臂噴釉房內(nèi)設(shè)置有一六軸機械臂，機械臂上設(shè)置有一噴槍，通過該噴槍完成對陶瓷衛(wèi)具的噴釉加工。由于機械臂噴釉房與噴淋式噴釉房相比具有較好的噴釉效果，因此，在兩個噴釉加工裝置采用一個味噴淋式噴釉房時，另一個選用機械臂噴釉房時，本實施例提供的噴釉系統(tǒng)可以實現(xiàn)針對不同噴釉效果需求的陶瓷衛(wèi)具進行不同的加工，提高了本實施例提供的噴釉系統(tǒng)的適用性。
[0041]其中的噴淋式噴釉房具體結(jié)構(gòu)如圖2所示；房體31內(nèi)設(shè)置有噴槍架33，外壁噴槍34固定在該噴槍架33上，內(nèi)壁噴槍35設(shè)置在房體31內(nèi)的頂部，具體的，外壁噴槍34的個數(shù)可以為三個、四個等不同的個數(shù)。內(nèi)壁噴槍35通過伸縮裝置32設(shè)置在房體31的頂部，且該伸縮裝置32與內(nèi)壁噴槍35轉(zhuǎn)動連接，并且伸縮裝置32上設(shè)置有用于調(diào)整內(nèi)壁噴槍35轉(zhuǎn)動角度的角度驅(qū)動氣缸36，該角度驅(qū)動氣缸36與控制裝置60信號連接，控制裝置60根據(jù)設(shè)定程序控制角度驅(qū)動氣缸36調(diào)整內(nèi)壁噴槍35的噴頭的角度。從而實現(xiàn)了對內(nèi)壁噴槍35高度及噴淋角度的控制，在噴淋時，控制裝置60可以根據(jù)設(shè)定程序控制內(nèi)壁噴頭的噴淋方向，從而避免了在噴淋時出現(xiàn)死角，提高了噴釉的效果。
[0042]繼續(xù)參考圖1，該噴釉系統(tǒng)還包括控制裝置60，控制裝置60分別與內(nèi)壁噴槍35、夕卜壁噴槍34、釉料供給單元、清洗液供給單元及伸縮裝置32信號連接，且在陶瓷衛(wèi)具位于外壁噴槍34之間時，控制伸縮裝置32驅(qū)動內(nèi)壁噴槍35按照設(shè)定行程伸出，并按照設(shè)定時間控制釉料供給單元給內(nèi)壁噴槍35及外壁噴槍34供釉；在達到設(shè)定時間后，控制釉料供給單元停止供釉料，并控制清洗液供給單元給內(nèi)壁噴槍35及外壁噴槍34供清洗液清洗房體內(nèi)部。通過控制裝置60的對內(nèi)壁噴槍35、外壁噴槍34、釉料供給單元、清洗液供給單元及伸縮裝置32的控制，實現(xiàn)了噴釉及清洗的自動化更換，提高了噴釉的效率，同時避免了人工清洗給工人帶來的傷害。更佳的，還包括檢測位于房體內(nèi)的轉(zhuǎn)盤上的陶瓷衛(wèi)具的傳感器；控制裝置60與傳感器信號連接，并通過傳感器獲取位于房體31內(nèi)的轉(zhuǎn)盤53上的陶瓷衛(wèi)具的位置。
[0043]如圖3所示，為了提高工作效率，該噴釉系統(tǒng)還包括與每個噴釉加工裝置對應(yīng)設(shè)置的轉(zhuǎn)臂轉(zhuǎn)臺裝置50，轉(zhuǎn)臂轉(zhuǎn)臺裝置50包括底座51，與底座51轉(zhuǎn)動連接的轉(zhuǎn)臂52，以及驅(qū)動轉(zhuǎn)臂52轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)臂驅(qū)動電機54 ;轉(zhuǎn)盤53的個數(shù)為兩個，且兩個轉(zhuǎn)盤53分別設(shè)置在轉(zhuǎn)臂52的兩端，轉(zhuǎn)臂52上還固定有用于驅(qū)動轉(zhuǎn)盤53轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)盤驅(qū)動電機55，且在轉(zhuǎn)臂52轉(zhuǎn)動到設(shè)定位置時，其中一個轉(zhuǎn)盤53位于外壁噴槍34之間。在具體工作時，設(shè)置在轉(zhuǎn)臂52兩端的轉(zhuǎn)盤53均可用于承載陶瓷衛(wèi)具，為了方便描述，兩個轉(zhuǎn)盤53分別命名為第一轉(zhuǎn)盤和第二轉(zhuǎn)盤；在初始狀態(tài)時，當(dāng)轉(zhuǎn)臂52轉(zhuǎn)動到設(shè)定位置時，第一轉(zhuǎn)盤位于外壁噴槍34之間，放置在該轉(zhuǎn)盤53上的陶瓷衛(wèi)具可通過外壁噴槍34及內(nèi)壁噴槍35對其進行噴釉加工，同時，移載裝置40可將未加工的陶瓷衛(wèi)具放置到第二轉(zhuǎn)盤上，當(dāng)?shù)谝晦D(zhuǎn)盤上的陶瓷衛(wèi)具加工完成時，轉(zhuǎn)臂52轉(zhuǎn)動設(shè)定的角度(為180° )，第二轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動至外壁噴槍34之間，第一轉(zhuǎn)盤被移出噴淋式噴釉房，同時，移載裝置40可將完成噴釉的陶瓷衛(wèi)具取下并放置到下料傳輸線20上，之后，再取下一個未加工的陶瓷衛(wèi)具放置到第一轉(zhuǎn)盤上，并在整個加工工程中，移載裝置40及轉(zhuǎn)臂轉(zhuǎn)臺裝置50不斷重復(fù)上述工作。通過上述描述可以看出，當(dāng)轉(zhuǎn)臂轉(zhuǎn)臺裝置50將完成的陶瓷衛(wèi)具移出時，未加工的陶瓷衛(wèi)具即可移入到噴淋式噴釉房內(nèi)，減少了陶瓷衛(wèi)具移入和移出的時間，提高了整個設(shè)備的加工效率。
[0044]此外，為了方便對整個設(shè)備的控制，上述轉(zhuǎn)臂轉(zhuǎn)臺的轉(zhuǎn)臂驅(qū)動電機54及轉(zhuǎn)盤驅(qū)動電機55分別與控制裝置60信號連接，在未加工的陶瓷衛(wèi)具放置在轉(zhuǎn)盤53上時，控制裝置60控制轉(zhuǎn)臂驅(qū)動電機54轉(zhuǎn)動，使轉(zhuǎn)臂52轉(zhuǎn)動到設(shè)定位置，未加工的陶瓷衛(wèi)具被送入到房體31內(nèi)，同時，控制轉(zhuǎn)盤驅(qū)動電機55轉(zhuǎn)動。通過控制裝置60對轉(zhuǎn)臂轉(zhuǎn)臺的控制，實現(xiàn)了控制裝置60對外壁噴槍34、內(nèi)壁噴槍35及轉(zhuǎn)臂轉(zhuǎn)臺的整體控制，從而方便各個設(shè)備之間的協(xié)調(diào)工作。具體的，控制裝置60通過對轉(zhuǎn)臂轉(zhuǎn)臺的控制過程中，既可以采用在控制裝置60內(nèi)設(shè)置特定程序來控制轉(zhuǎn)臂驅(qū)動電機54及轉(zhuǎn)盤驅(qū)動電機55的工作，如用時間參數(shù)控制轉(zhuǎn)臂驅(qū)動電機54及轉(zhuǎn)盤驅(qū)動電機55的轉(zhuǎn)動，其中設(shè)定的時間參數(shù)應(yīng)該與外壁噴槍34的噴淋裝置相對應(yīng)；或者采用感應(yīng)器反饋的信號來進行控制，即設(shè)置不同的傳感器來進行檢測，控制裝置60通過傳感器檢測的信息來控制轉(zhuǎn)臂驅(qū)動電機54及轉(zhuǎn)盤驅(qū)動電機55動作。具體的，在轉(zhuǎn)盤53上設(shè)置傳感器，當(dāng)轉(zhuǎn)盤53被移動到噴淋式噴釉房內(nèi)時，傳感器反饋信號，控制裝置60控制轉(zhuǎn)盤驅(qū)動電機55驅(qū)動轉(zhuǎn)盤53開始轉(zhuǎn)動；同時，在轉(zhuǎn)臂52上設(shè)置傳感器，傳感器檢測到外壁噴槍34完成噴釉時，控制裝置60控制轉(zhuǎn)臂52轉(zhuǎn)動設(shè)定角度(180° )，完成陶瓷衛(wèi)具的移換。
[0045]在兩個噴釉加工裝置30采用一個噴淋式噴釉房，另一個采用機械臂噴釉房時，機械臂噴釉房也具有上述轉(zhuǎn)臂轉(zhuǎn)臺裝置50，其結(jié)構(gòu)與上述結(jié)構(gòu)相同，在此不再一一贅述。
[0046]上述實施例中的移載裝置40在工作時，交替給兩個噴釉加工裝置30輸送未加工的陶瓷衛(wèi)具，并可將兩個噴釉加工裝置30加工完成的陶瓷衛(wèi)具輸送到下料傳輸線20上。其具體結(jié)構(gòu)如圖4所示，包括:支承座41，與支承座41通過升降氣缸42連接的水平托臺46，與水平托臺46滑動連接的陶瓷衛(wèi)具托架45，固定在水平托臺46并用于推動陶瓷衛(wèi)具托架45的移載氣缸44 ;還包括驅(qū)動水平托臺46轉(zhuǎn)動的托臺驅(qū)動電機43。具體的，移載裝置40通過設(shè)置的托臺驅(qū)動電機43、升降氣缸42、移載氣缸44實現(xiàn)了從上料傳輸線10取下未加工的陶瓷衛(wèi)具，并將其送到轉(zhuǎn)臂轉(zhuǎn)臺裝置50的轉(zhuǎn)盤53上，以及將完成噴釉的陶瓷衛(wèi)具從轉(zhuǎn)臂轉(zhuǎn)臺的轉(zhuǎn)盤53上轉(zhuǎn)移到下料傳輸線20的整個工作。在具體工作時可以通過手動對上述移載氣缸44、升降氣缸42及托臺驅(qū)動電機43的控制實現(xiàn)上述功能，更佳的，升降氣缸42、移載氣缸44及托臺驅(qū)動電機43分別與控制裝置60信號連接；在具體工作時，以移載裝置40給噴淋式噴釉房提供陶瓷衛(wèi)具為例:在移載裝置40將上料傳輸線10上的未加工的陶瓷衛(wèi)具傳送到噴釉加工裝置內(nèi)時，控制裝置60控制升降氣缸42、移載氣缸44及托臺驅(qū)動電機43工作，將位于上料傳輸線10上的未加工的陶瓷衛(wèi)具移至轉(zhuǎn)盤53上；在將加工完成的陶瓷衛(wèi)具傳送到下料傳輸線20上時，控制裝置60控制升降氣缸42、移載氣缸44及托臺驅(qū)動電機43工作，將位于轉(zhuǎn)盤53上的加工完成的陶瓷衛(wèi)具移至下料傳輸線20。具體的:
[0047]在移載裝置40將上料傳輸線10上的未加工的陶瓷衛(wèi)具傳送到噴釉加工裝置30內(nèi)時，控制裝置60控制托臺驅(qū)動電機43驅(qū)動水平托臺46轉(zhuǎn)動到朝向未加工的陶瓷衛(wèi)具，控制升降氣缸42升降使陶瓷衛(wèi)具托架45的高度低于未加工的陶瓷衛(wèi)具的高度，并控制移載氣缸44推動陶瓷衛(wèi)具托架45滑出使其位于未加工的陶瓷衛(wèi)具的下方，之后，控制裝置60控制升降氣缸42上升設(shè)定高度，使陶瓷衛(wèi)具托架45將未加工的陶瓷衛(wèi)具托起；控制裝置60控制托臺驅(qū)動電機43驅(qū)動陶瓷衛(wèi)具托架45轉(zhuǎn)動設(shè)定角度，使未加工的陶瓷衛(wèi)具位于轉(zhuǎn)盤53的上方，控制升降氣缸42下降設(shè)定高度，在下降時，未加工的陶瓷衛(wèi)具與陶瓷衛(wèi)具托架45脫離并被轉(zhuǎn)盤53承載；
[0048]在將升降氣缸42的陶瓷衛(wèi)具傳送到下料傳輸線20上時，控制裝置60控制托臺驅(qū)動電機43驅(qū)動水平托臺46轉(zhuǎn)動到朝向加工完成的陶瓷衛(wèi)具，控制升降氣缸42升降使陶瓷衛(wèi)具托架45的高度低于轉(zhuǎn)盤53的高度，并控制移載氣缸44推動陶瓷衛(wèi)具托架45滑出使其位于加工完成的陶瓷衛(wèi)具的下方，之后，控制裝置60控制升降氣缸42上升設(shè)定高度，使陶瓷衛(wèi)具托架45將加工完成的陶瓷衛(wèi)具托起；控制裝置60控制托臺驅(qū)動電機43驅(qū)動陶瓷衛(wèi)具托架45轉(zhuǎn)動設(shè)定角度，使加工完成的陶瓷衛(wèi)具位于下料傳輸線20的上方，控制升降氣缸42下降設(shè)定高度，在下降時，加工完成的陶瓷衛(wèi)具與陶瓷衛(wèi)具托架45脫離并被下料傳輸線20承載。
[0049]通過控制裝置60對上述移載氣缸44、升降氣缸42及托臺驅(qū)動電機43的控制實現(xiàn)了對整個移載裝置40的自動化控制。其中控制裝置60對移載裝置40的控制可以采用設(shè)定程序控制，或者通過設(shè)置的傳感器反饋的信息對移載裝置40進行控制，在此不做限定，生產(chǎn)者可以根據(jù)實際情況選擇不同的控制方式。在采用傳感器時，已在設(shè)備上分別設(shè)置有用于檢測檢測轉(zhuǎn)動角度的傳感器、用于檢測檢測升降高度的傳感器以及用于檢測移載氣缸44推動幅度的傳感器，控制裝置60根據(jù)設(shè)定的程序以及傳感器檢測的信號來控制移載裝置40的工作。
[0050]上述實施例中的控制裝置60可以為PLC、工控電腦或單片機等常見的控制裝置，具有良好的控制功能。較佳的，該控制裝置60采用PLC ;在上述上料傳輸線10采用自動化控制時，PLC與上述上料傳輸線10信號連接；此時，PLC與整個噴釉系統(tǒng)中其他部件的連接如圖5所示:PLC與觸摸屏HMI之間通過通信總線R232信號連接，PLC與上料傳輸線10、下料傳輸線20、移載裝置40、轉(zhuǎn)臂轉(zhuǎn)臺裝置50、六軸機械臂以及一些外圍裝置均實現(xiàn)信號連接，并對其動作進行控制，從而實現(xiàn)了整個噴釉系統(tǒng)的自動化，提高了噴釉的效率。
[0051]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種嗔軸系統(tǒng)，其特征在于，包括: 上料傳輸線； 設(shè)置在所述上料傳輸線側(cè)邊的至少兩個噴釉加工裝置，每個噴釉加工裝置具有用于承載陶瓷衛(wèi)具的轉(zhuǎn)盤； 下料傳輸線； 設(shè)置在所述上料傳輸線和下料傳輸線之間，并用于將承載在所述上料傳輸線上的未加工的陶瓷衛(wèi)具傳送到所述噴釉加工裝置內(nèi)以及將加工完成的陶瓷衛(wèi)具傳送到所述下料傳輸線上的移載裝置；其中， 所述噴釉加工裝置中至少一個為噴淋式噴釉房，所述噴淋式噴釉房包括: 房體，所述轉(zhuǎn)盤設(shè)置在所述房體內(nèi)，環(huán)繞所述轉(zhuǎn)盤設(shè)置并用于噴涂所述陶瓷衛(wèi)具外側(cè)壁的至少兩個外壁噴槍，以及通過伸縮裝置與所述房體固定連接并用于噴涂陶瓷衛(wèi)具內(nèi)壁的內(nèi)壁噴槍；還包括: 釉料供給單元及清洗液供給單元，其中，所述外壁噴槍及所述內(nèi)壁噴槍各自與所述清洗液供給單元及釉料供給單元連通。
2.如權(quán)利要求1所述的噴釉系統(tǒng)，其特征在于，所述伸縮裝置與所述內(nèi)壁噴槍轉(zhuǎn)動連接，且所述伸縮裝置上設(shè)置有用于調(diào)整所述內(nèi)壁噴槍轉(zhuǎn)動角度的角度驅(qū)動氣缸。
3.如權(quán)利要求1所述的噴釉系統(tǒng)，其特征在于，所述噴釉系統(tǒng)還包括與每個噴釉加工裝置對應(yīng)設(shè)置的轉(zhuǎn)臂轉(zhuǎn)臺裝置，所述轉(zhuǎn)臂轉(zhuǎn)臺裝置包括底座，與所述底座轉(zhuǎn)動連接的轉(zhuǎn)臂，以及驅(qū)動所述轉(zhuǎn)臂轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)臂驅(qū)動電機；所述轉(zhuǎn)盤的個數(shù)為兩個，且兩個轉(zhuǎn)盤分別設(shè)置在所述轉(zhuǎn)臂的兩端，所述轉(zhuǎn)臂上還設(shè)置有用于驅(qū)動所述轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)盤驅(qū)動電機。
4.如權(quán)利要求3所述的噴釉系統(tǒng)，其特征在于，所述移載裝置包括:支承座，與所述支承座通過升降氣缸連接的水平托臺，與所述水平托臺滑動連接的陶瓷衛(wèi)具托架，固定在所述水平托臺并用于推動所述陶瓷衛(wèi)具托架的移載氣缸；還包括驅(qū)動所述水平托臺轉(zhuǎn)動的托臺驅(qū)動電機。
5.如權(quán)利要求4所述的噴釉系統(tǒng)，其特征在于，還包括控制裝置，所述控制裝置分別與所述內(nèi)壁噴槍、外壁噴槍、釉料供給單元、清洗液供給單元及伸縮裝置信號連接，且在所述陶瓷衛(wèi)具位于所述外壁噴槍之間時，控制所述伸縮裝置驅(qū)動所述內(nèi)壁噴槍按照設(shè)定行程伸出，并按照設(shè)定時間控制所述釉料供給單元給所述內(nèi)壁噴槍及外壁噴槍供釉；在達到設(shè)定時間后，控制所述釉料供給單元停止供釉料，并控制所述清洗液供給單元給所述內(nèi)壁噴槍及外壁噴槍供清洗液清洗房體內(nèi)部。
6.如權(quán)利要求5所述的噴釉系統(tǒng)，其特征在于，還包括檢測位于房體內(nèi)的轉(zhuǎn)盤上的陶瓷衛(wèi)具的傳感器；所述控制裝置與所述傳感器信號連接，并通過所述傳感器獲取位于房體內(nèi)的轉(zhuǎn)盤上的陶瓷衛(wèi)具的位置信息。
7.如權(quán)利要求5所述的噴釉系統(tǒng)，其特征在于，所述角度驅(qū)動氣缸與所述控制裝置信號連接，所述控制裝置控制所述角度驅(qū)動氣缸調(diào)整所述內(nèi)壁噴槍的噴頭的角度。
8.如權(quán)利要求5所述的噴釉系統(tǒng)，其特征在于，所述轉(zhuǎn)臂驅(qū)動電機及所述轉(zhuǎn)盤驅(qū)動電機分別與所述控制裝置信號連接，在所述未加工的陶瓷衛(wèi)具放置在所述轉(zhuǎn)盤上時，所述控制裝置控制所述轉(zhuǎn)臂驅(qū)動電機轉(zhuǎn)動，使所述轉(zhuǎn)臂轉(zhuǎn)動到設(shè)定位置，所述未加工的陶瓷衛(wèi)具被送入到所述房體內(nèi)，控制所述轉(zhuǎn)盤驅(qū)動電機轉(zhuǎn)動。
9.如權(quán)利要求6所述的噴釉系統(tǒng)，其特征在于，所述升降氣缸、所述移載氣缸及所述托臺驅(qū)動電機分別與所述控制裝置信號連接； 在所述移載裝置將所述上料傳輸線上的未加工的陶瓷衛(wèi)具傳送到所述噴釉加工裝置內(nèi)時，所述控制裝置控制所述升降氣缸、移載氣缸及所述托臺驅(qū)動電機工作，將位于所述上料傳輸線上的未加工的陶瓷衛(wèi)具移至所述轉(zhuǎn)盤上； 在將加工完成的陶瓷衛(wèi)具傳送到所述下料傳輸線上時，所述控制裝置控制所述升降氣缸、移載氣缸及所述托臺驅(qū)動電機工作，將位于所述轉(zhuǎn)盤上的加工完成的陶瓷衛(wèi)具移至所述下料傳輸線。
10.如權(quán)利要求1?9任一項所述的噴釉系統(tǒng)，其特征在于，所述噴釉加工裝置的個數(shù)為兩個，且所述兩個噴釉加工裝置均為噴淋式噴釉房，或所述兩個噴釉加工裝置中一個為噴淋式噴釉房，另一個為機械臂噴釉房。
【文檔編號】C04B41/86GK104291865SQ201410453619
【公開日】2015年1月21日 申請日期:2014年9月5日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月5日
【發(fā)明者】孫利平, 金棲震, 高金榮, 李鳳明, 蔣長洪, 鄭振糧 申請人:深圳市科松電子有限公司