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      線圈盤和料理機(jī)的制作方法

      文檔序號(hào):11533789閱讀:507來源:國(guó)知局
      線圈盤和料理機(jī)的制造方法與工藝

      本實(shí)用新型涉及家電技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種線圈盤和包括該線圈盤的料理機(jī)。



      背景技術(shù):

      目前的料理機(jī),例如破壁機(jī),需要高速旋轉(zhuǎn)打碎食物,而容納食物的空間越小,打碎效果越好。為此,破壁機(jī)的杯底通常比較小。而使用電磁加熱方式加熱的破壁機(jī),必須使用線圈盤對(duì)杯底加熱。由于破壁機(jī)具有轉(zhuǎn)軸,為避讓轉(zhuǎn)軸結(jié)構(gòu),線圈盤的中部留有較大的中空區(qū)域,為達(dá)到所需的加熱效果而以較大的繞線直徑盤繞,導(dǎo)致線圈盤的面積大于杯底的面積。這會(huì)使得線圈盤與杯底的電磁感應(yīng)耦合系數(shù)降低,如果在這種情況下想要獲得所需的加熱效果,則需要對(duì)線圈盤加載非常大的電流,導(dǎo)致線圈盤發(fā)熱嚴(yán)重,長(zhǎng)期工作會(huì)因發(fā)熱問題而燒壞。

      因此,現(xiàn)有的料理機(jī)存在無法兼顧杯底小型化和線圈盤有效加熱的問題。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      有鑒于此,本實(shí)用新型旨在提出一種料理機(jī),以提高線圈盤和杯底的電磁感應(yīng)耦合系數(shù)。

      為達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的:

      本實(shí)用新型提供一種線圈盤,其中,所述線圈盤包括中心通孔、線圈盤底和線圈盤邊,所述線圈盤邊從所述線圈盤底的外周沿軸向延伸。

      優(yōu)選地,所述線圈盤底的繞線層數(shù)小于所述線圈盤邊的繞線層數(shù)。

      優(yōu)選地,所述線圈盤底至所述線圈盤邊形成為階梯結(jié)構(gòu)。

      優(yōu)選地,所述線圈盤包括繞線、用于盤繞所述繞線并引出所述繞線的端部的線盤機(jī)架以及磁條,所述磁條為U形并包括形成U形的外側(cè)柱體和內(nèi)側(cè)柱體,所述外側(cè)柱體的高度大于所述內(nèi)側(cè)柱體的高度。

      優(yōu)選地,所述磁條為多個(gè)并沿所述線盤機(jī)架的周向設(shè)置。

      本實(shí)用新型還提供一種料理機(jī),其中,所述料理機(jī)包括杯底、本實(shí)用新型的線圈盤以及穿過所述線圈盤和所述杯底的轉(zhuǎn)軸,所述線圈盤設(shè)置在所述杯底的下方,所述線圈盤底對(duì)應(yīng)于所述杯底的底部并對(duì)所述底部加熱,所述線圈盤邊對(duì)應(yīng)于所述杯底的側(cè)部并對(duì)所述側(cè)部加熱。

      優(yōu)選地,所述杯底包括主體和從所述主體頂部向外凸出的凸緣,所述底部為所述主體的底部,所述側(cè)部包括所述凸緣。

      優(yōu)選地,所述料理機(jī)包括設(shè)置在所述杯底外側(cè)的杯底密封套,所述杯底密封套的兩端分別抵接所述凸緣的底端和所述線圈盤邊的頂端。

      優(yōu)選地,所述線圈盤底到所述底部的距離等于所述線圈盤邊的頂端到所述凸緣的底端的距離。

      優(yōu)選地,所述料理機(jī)包括基座和杯子,所述杯子上設(shè)置有第一轉(zhuǎn)軸,所述基座上設(shè)置有電機(jī),所述電機(jī)包括第二轉(zhuǎn)軸,所述第一轉(zhuǎn)軸和所述第二轉(zhuǎn)軸可拆卸地連接以形成所述轉(zhuǎn)軸,所述杯底與所述杯子固定連接,所述線圈盤安裝于所述基座。

      優(yōu)選地,所述料理機(jī)為破壁機(jī)、加熱攪拌機(jī)、原汁機(jī)、豆?jié){機(jī)中的一種。

      通過上述技術(shù)方案,線圈盤可以分別通過線圈盤底和線圈盤邊對(duì)杯底的底部和側(cè)部加熱,通過增加對(duì)側(cè)部的加熱,可以提高杯底和線圈盤的電磁耦合系數(shù),避免因電磁耦合系數(shù)低導(dǎo)致的加載大電流和由此導(dǎo)致的發(fā)熱嚴(yán)重問題。

      本實(shí)用新型的其它特征和優(yōu)點(diǎn)將在隨后的具體實(shí)施方式部分予以詳細(xì)說明。

      附圖說明

      構(gòu)成本實(shí)用新型的一部分的附圖用來提供對(duì)本實(shí)用新型的進(jìn)一步理解,本實(shí)用新型的示意性實(shí)施方式及其說明用于解釋本實(shí)用新型,并不構(gòu)成對(duì)本實(shí)用新型的不當(dāng)限定。在附圖中:

      圖1為本實(shí)用新型的料理機(jī)的一種實(shí)施方式的分解示意圖;

      圖2為說明圖1中的杯底與線圈盤的優(yōu)選設(shè)計(jì)尺寸的示意圖;

      圖3為本實(shí)用新型的料理機(jī)的線圈盤的一種實(shí)施方式的立體圖;

      圖4為圖3的線圈盤的爆炸圖。

      附圖標(biāo)記說明:

      10-杯底,11-主體,12-凸緣,20-線圈盤,21-線圈盤底,22-線圈盤邊,23-繞線,24-線盤機(jī)架,25-磁條,30-杯底密封套,40-基座,50-杯子,51-第一轉(zhuǎn)軸,60-電機(jī),61-第二轉(zhuǎn)軸,70-刀片。

      具體實(shí)施方式

      需要說明的是,在不沖突的情況下,本實(shí)用新型中的實(shí)施方式及實(shí)施方式中的特征可以相互組合。

      在本實(shí)用新型中,在未作相反說明的情況下,使用的方位詞如“上、下、左、右”通常是指參考附圖所示的上、下、左、右;“內(nèi)、外”是指相對(duì)于各部件本身的輪廓的內(nèi)、外。

      下面將參考附圖并結(jié)合實(shí)施方式來詳細(xì)說明本實(shí)用新型。

      根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)方面,提供一種線圈盤,其中,所述線圈盤20包括中心通孔、線圈盤底21和線圈盤邊22,所述線圈盤邊22從所述線圈盤底21的外周沿軸向延伸。

      根據(jù)本實(shí)用新型的另一方面,提供一種料理機(jī),其中,所述料理機(jī)包括杯底10、本實(shí)用新型的線圈盤20以及穿過所述線圈盤20和所述杯底10的轉(zhuǎn)軸,所述線圈盤20設(shè)置在所述杯底10的下方,所述線圈盤底21對(duì)應(yīng)于所述杯底10的底部并對(duì)所述底部加熱,線圈盤邊22對(duì)應(yīng)于所述杯底10的側(cè)部并對(duì)所述側(cè)部加熱。

      本實(shí)用新型的料理機(jī)中,線圈盤20可以分別通過線圈盤底21和線圈盤邊22對(duì)杯底10的底部和側(cè)部加熱,通過增加對(duì)側(cè)部的加熱,可以提高杯底10和線圈盤20的電磁耦合系數(shù),避免因電磁耦合系數(shù)低導(dǎo)致的加載大電流和由此導(dǎo)致的發(fā)熱嚴(yán)重問題。

      本實(shí)用新型中,線圈盤20可以設(shè)置為各種適當(dāng)?shù)男问剑灰哂心軌驅(qū)?yīng)杯底10的底部的線圈盤底21和對(duì)應(yīng)杯底10的側(cè)部的線圈盤邊22即可。例如,可以將線圈盤20形成為中心下陷的凹槽形,以對(duì)應(yīng)杯底10的外圍輪廓。

      為便于設(shè)置,優(yōu)選地,所述線圈盤底21的繞線層數(shù)小于所述線圈盤邊22的繞線層數(shù)。例如,將線圈盤20的對(duì)應(yīng)杯底10的底部的區(qū)域上繞線3層以形成線圈盤底21,并在繞線盤底21外側(cè)的區(qū)域繞線6層以形成繞線圈盤邊22??梢岳斫獾模瑸檫_(dá)到使線圈盤底21的繞線層數(shù)小于線圈盤邊22的繞線層數(shù)的目的,并獲得本實(shí)用新型的技術(shù)效果,可以根據(jù)需要設(shè)定線圈盤底21和線圈盤邊22的繞線層數(shù),本實(shí)用新型對(duì)此不作限定。

      優(yōu)選地,如圖2所示,所述線圈盤底21至所述線圈盤邊22可以形成為階梯結(jié)構(gòu),以便設(shè)置繞線以及能夠與下文所述的杯底10的形狀匹配并更加適于對(duì)杯底10的電磁加熱。

      線圈盤20可以采用各種具體的結(jié)構(gòu)以用于電磁加熱(IH),例如,如圖3和圖4所示,所述線圈盤20可以包括繞線23、用于盤繞所述繞線23并引出所述繞線23的端部的線盤機(jī)架24以及磁條25,所述磁條25為U形并包括形成U形的外側(cè)柱體和內(nèi)側(cè)柱體,為適應(yīng)本實(shí)用新型的線圈盤20,靠近線圈盤邊22的所述外側(cè)柱體的高度大于靠近線圈盤底21的所述內(nèi)側(cè)柱體的高度。其中,繞線23可以設(shè)置在磁條25的U形槽內(nèi)。相比現(xiàn)有的線圈盤,為適應(yīng)本實(shí)用新型的線圈盤邊22的結(jié)構(gòu),線盤機(jī)架24的外側(cè)部分也可以適應(yīng)性增加高度方向的尺寸。另外,如圖4所示,所述磁條25可以為多個(gè)并沿所述線盤機(jī)架24的周向設(shè)置。

      另外,根據(jù)杯底10的形式,可以將線圈盤20設(shè)置為以不同形式對(duì)杯底10的底部和側(cè)部加熱。例如,可以將線圈盤20設(shè)置為套設(shè)在杯底10外側(cè)的形式。但為了減小線圈盤20的尺寸,優(yōu)選地,如圖1和圖2所示,所述杯底10包括主體11和從所述主體11頂部向外凸出的凸緣12,所述底部為所述主體11的底部,所述側(cè)部包括所述凸緣12。在這種優(yōu)選實(shí)施方式中,線圈盤邊22可以對(duì)應(yīng)凸緣12并對(duì)凸緣12加熱,而不是如上述套設(shè)的方式對(duì)主體11的側(cè)部加熱。這一方面能夠利用凸緣12作為側(cè)部加熱,另一方面能夠避免將線圈盤20的尺寸設(shè)置太大,兼顧了效率和成本。

      另外,如圖1所示,所述料理機(jī)可以包括設(shè)置在所述杯底10外側(cè)的杯底密封套30,所述杯底密封套30的兩端分別抵接所述凸緣12的底端和所述線圈盤邊22的頂端。杯底密封套30可以對(duì)杯底提供密封效果。

      優(yōu)選地,為使杯底10的底部和側(cè)部的受熱盡可能均勻,如圖2所示,所述線圈盤底21到所述底部的距離d1等于所述線圈盤邊22的頂端到所述凸緣12的底端的距離d2。

      另外,如圖1所示,所述料理機(jī)包括基座40和杯子50,所述杯子50上設(shè)置有第一轉(zhuǎn)軸51,所述基座40上設(shè)置有電機(jī)60,所述電機(jī)60包括第二轉(zhuǎn)軸61,所述第一轉(zhuǎn)軸51和所述第二轉(zhuǎn)軸61可拆卸地連接以形成所述轉(zhuǎn)軸,所述杯底10與所述杯子50固定連接,所述線圈盤20安裝于所述基座40。由此,當(dāng)?shù)谝晦D(zhuǎn)軸51和第二轉(zhuǎn)軸61連接時(shí),杯子50能夠通過電機(jī)60驅(qū)動(dòng)而高速旋轉(zhuǎn),以進(jìn)行食物處理;當(dāng)處理完成時(shí),可以將第一轉(zhuǎn)軸51從第二轉(zhuǎn)軸61拆卸,以使杯子50能夠與基座40分離。

      可以理解的,本實(shí)用新型的料理機(jī)可以是具有轉(zhuǎn)軸的各種適當(dāng)?shù)念愋?,例如,所述料理機(jī)可以為破壁機(jī)、加熱攪拌機(jī)、原汁機(jī)、豆?jié){機(jī)中的一種。另外,根據(jù)需要,轉(zhuǎn)軸(例如第一轉(zhuǎn)軸51)上還可以設(shè)置刀片70,以便進(jìn)行粉碎操作。

      以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施方式而已,并不用以限制本實(shí)用新型,凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。

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