一種防眩光與可見光減反射雙功能鍍膜玻璃及其制備方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種具有可見光減反射和防眩光雙功能鍍膜玻璃及其制備方法，該鍍膜玻璃的膜層結(jié)構(gòu)按順序排列為：玻璃基片/隔離層/凹凸納米-微米復(fù)合孔結(jié)構(gòu)膜層/可見光減反射膜層，采取磁控濺射法鍍膜，防眩光膜層采取弱酸腐蝕法得到；膜層總厚度145～270nm；在380nm至1100nm光譜波長范圍內(nèi)，該雙功能鍍膜玻璃的透射率比未鍍膜玻璃原片的透射率提高2.5～4.5，反射率比玻璃原片（8%）降低3.5%～5.5%；膜層硬度5.0H～6.5H；鍍膜玻璃的霧度由原片的0.2%提升到3.5～6.5%。得到的鍍膜玻璃可以用于電子顯示器面板、封裝玻璃蓋板、櫥窗、鏡框、機車和輪船窗玻璃等領(lǐng)域。
【專利說明】 一種防眩光與可見光減反射雙功能鍍膜玻璃及其制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于顯示器件封裝玻璃蓋板、櫥窗、以及機車和輪船窗玻璃等使用玻璃的領(lǐng)域，具體涉及一種防眩光與可見光減反射雙功能鍍膜玻璃及其制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]在電子顯示器件封裝玻璃蓋板、櫥窗等使用玻璃作為視窗的領(lǐng)域，由于普通玻璃自身存在8%的反射光、以及發(fā)光器件從玻璃視窗透射出強烈的光線，造成在一般環(huán)境中往往產(chǎn)生眩光，使人的視覺產(chǎn)生疲勞。為了克服眩光，減輕視覺疲勞，就需要減少或分散顯示器件發(fā)射出的光強度、以及減少玻璃自身的反射光。
[0003]根據(jù)薄膜光學(xué)理論，減少玻璃反射光的方法就是在玻璃表面上鍍一層低于玻璃折射率的介質(zhì)膜，如果在該低折射率膜層上再形成一定的孔隙率，膜層的折射率還要低，減反射的效果更好；減少玻璃眩光現(xiàn)象的最簡單的方法就是在玻璃表面上形成絨面，使光線形成漫反射/透射，達(dá)到防眩光的目的。
[0004]目前，在玻璃上鍍制減反射膜的方法主要有濺射法、蒸鍍法、濕化學(xué)法，其中成熟的磁控濺射方法鍍膜，具有膜層均一性好、膜層厚度易控制、膜層與玻璃結(jié)合好等特點，已經(jīng)在生產(chǎn)鍍膜玻璃的領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。
[0005]目前，在玻璃上產(chǎn)生防眩光的方法就是采取氫氟酸腐蝕的方法，在玻璃表面腐蝕掉一定量的氧化硅，形成凹凸絨面，形成對光的漫反射。該方法的特點是方法簡單，腐蝕速度快。但是，該方法的缺點也是危害極大的，氫氟酸是腐蝕性極強的酸，對人體、對大氣、對土壤環(huán)境都會產(chǎn)生極大侵害和污染，國家嚴(yán)格控制使用。因此，急需開發(fā)防眩光與減反射效果好并且制作方法簡單環(huán)保的雙功能鍍膜玻璃。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明的目的在于提供一種防眩光與可見光減反射雙功能鍍膜玻璃及其制備方法。
[0007]本發(fā)明為解決上述技術(shù)問題所采用的方案為:
[0008]一種防眩光與可見光減反射雙功能鍍膜玻璃，所述鍍膜玻璃包括玻璃基片以及在玻璃基片上依次形成的隔離層、防眩光膜層及可見光減反射膜層，所述隔離層、防眩光膜層及可見光減反射膜層的總厚度為145?270nm ;所述隔離層的材料為二氧化硅；所述防眩光膜層是利用酸腐蝕氧化鋅或摻雜氧化鋅得到的凹凸納米-微米復(fù)合孔結(jié)構(gòu)絨面膜層，孔尺寸在10?500nm ;所述可見光減反射膜層包括折射率大于二氧化硅折射率且小于2.4的膜層及二氧化硅膜層。
[0009]上述方案中，所述酸為鹽酸、硫酸、醋酸或硝酸，所述酸的重量濃度為3%?8%。
[0010]上述方案中，所述隔離層的厚度為5?20納米；所述防眩光膜層的厚度為60?IlOnm ;所述折射率大于二氧化硅折射率且小于2.4的膜層厚度為10?20nm ;所述二氧化硅膜層厚度70?120nm。[0011]上述方案中，所述摻雜氧化鋅為鋁、硼、鎵或銦摻雜氧化鋅。
[0012]上述方案中，所述折射率大于二氧化硅折射率且小于2.4的膜層的材料為二氧化鈦、氧化鈮、氧化鋯、氧化錫、氧化鋅或鋁摻雜氧化鋅。
[0013]一種防眩光與可見光減反射雙功能鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于，它包括以下步驟:
[0014]I)用磁控濺射法在玻璃上鍍制隔離層；
[0015]2)用磁控濺射法在隔離層上鍍制氧化鋅或摻雜氧化鋅膜層，然后用重量濃度3%~8%的酸腐蝕10~50秒，形成凹凸納米-微米復(fù)合孔結(jié)構(gòu)絨面的防眩光膜層，孔尺寸在 10 ~500nm ；
[0016]3)用磁控濺射法在凹凸納米-微米復(fù)合孔結(jié)構(gòu)絨面層上鍍制可見光減反射膜層。
[0017]上述方案中，所述步驟I)中用反應(yīng)磁控濺射法沉積二氧化硅隔離層，反應(yīng)條件為:氧氣和氬氣流量比例5~35:100，濺射氣壓2.5X10—1~4.0X KT1Pa,靶材為純硅、硅鋁或娃硼，沉積的二氧化娃膜層厚度5~20nm。
[0018]上述方案中，所述步驟2)用磁控濺射法在隔離層上鍍制氧化鋅或摻雜氧化鋅膜層的工藝條件為:氬氣做工作氣體，濺射氣壓2.5 X KT1~4.0 X KT1Pa,靶材為氧化鋅或者鋁、硼、鎵或銦摻雜氧化鋅，沉積的膜層厚度60~llOnm。
[0019]上述方案中，所述步驟4)鍍制可見光減反射膜層的步驟為:首先用鋁摻雜氧化鋅、二氧化鈦、氧化鈮、氧化鋯、氧化錫、或氧化鋅做濺射鍍膜靶材，用氬氣做工作氣體，濺射氣壓2.5X IO-1~4.0X KT1Pa沉積折射率大于二氧化硅折射率且小于2.4的膜層，所述膜層厚度為10~20nm ;然后在所述折射率大于二氧化硅折射率且小于2.4的膜層上用反應(yīng)磁控濺射法沉積二氧化硅膜層，氧氣和氬氣流量比例5~35:100，濺射氣壓2.5X IO^1~
4.0X KT1Pa,用純硅、硅鋁或硅硼做靶材，二氧化硅膜層厚度70~120nm。
[0020]上述方案中，在步驟I)的鍍膜前將玻璃清洗、干燥得到潔凈玻璃，然后將潔凈玻璃在常壓氮氣氛圍，用500~1000V電壓形成的等離子體處理潔凈玻璃表面。
[0021]本發(fā)明的原理為:本發(fā)明采取了磁控濺射法在玻璃上鍍膜，利用膜層的不耐酸性，用容易處理的弱鹽酸腐蝕膜層形成納米-微米孔結(jié)構(gòu)可控的絨面結(jié)構(gòu)，產(chǎn)生防眩光效果，弱酸廢液用石灰中和，達(dá)到中性無污染排放。然后再在防眩光膜上用磁控濺射法鍍制與該膜層折射率匹配的減反射膜層，由于防眩光膜層的納米孔結(jié)構(gòu)，使得減反射膜層也形成凹凸納米孔結(jié)構(gòu)膜層；二者形成均勻、與玻璃結(jié)合牢固、硬度和耐磨性達(dá)到實用要求、具有防眩光和可見光減反射雙功能鍍膜玻璃。
[0022]本發(fā)明的有益效果為:
[0023]I)在380nm至IlOOnm光譜波長范圍內(nèi)，該雙功能鍍膜玻璃的透射率比未鍍膜玻璃原片的透射率提高2.5%~4.5%，反射率比玻璃原片(8%)降低3.5%~5.5% ;膜層硬度
5.0H~6.5H ;鍍膜玻璃的霧度由原片的0.2%提升到3.5~6.5%。
[0024]2)本發(fā)明的制備工藝簡單、方法成熟；制備過程無污染；并且得到的鍍膜玻璃能夠減少可見光反射率、防眩光。本發(fā)明的鍍膜玻璃可用于電子顯示玻璃面板、封裝玻璃蓋板、櫥窗和像框、機車和輪船窗玻璃等使用玻璃的領(lǐng)域，提高玻璃的可見光透射率、防止眩光，使通過該視窗玻璃觀察的圖像更加清晰、減少人眼的疲勞?！緦＠綀D】

【附圖說明】
[0025]圖1為本發(fā)明實施例的鍍膜玻璃膜層的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0026]圖中，1-玻璃基片，2-隔離層，3-防眩光膜層；4_可見光減反射層。
【具體實施方式】
[0027]以下結(jié)合附圖和實施例進(jìn)一步對本發(fā)明進(jìn)行說明，但本發(fā)明的內(nèi)容不僅僅局限于下面的實施例。
[0028]在鍍膜之前，首先對玻璃基片進(jìn)行處理，處理步驟如下:首先將待鍍膜玻璃基片用去離子水進(jìn)行清洗、干燥，得到清潔樣品；然后將潔凈玻璃放到濺射鍍膜的真空箱體中，在常壓氮氣氣氛下，用500~1000V電壓形成的等離子體處理玻璃表面；然后把真空箱體的氣壓抽到 3.5X 10-4 ~8.5 X IO^4Pa0
[0029]實施例1[0030]本發(fā)明的防眩光與可見光減反射雙功能鍍膜玻璃的制備方法包括以下步驟:
[0031]1、鍍制隔離層:真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例5:100，濺射氣壓2.5X 10?,用純硅做靶材，沉積的氧化硅膜層厚度5nm。
[0032]2、鍍制凹凸納米-微米復(fù)合孔結(jié)構(gòu)絨面膜層:真空箱體中，氬氣做工作氣體，濺射氣壓2.5 X KT1Pa,用氧化鋅做靶材，沉積的膜層厚度60nm。
[0033]3、在大氣環(huán)境下，用重量濃度3%的鹽酸腐蝕鍍制的玻璃10秒，氧化鋅膜層形成凹凸納米-微米復(fù)合孔結(jié)構(gòu)絨面，孔尺寸在10~500nm ;鹽酸廢液用石灰中和，廢水排放符合環(huán)保要求。
[0034]4、鍍制減反射層:真空箱體中，用氬氣做工作氣體，濺射氣壓2.5 X KT1Pa,在凹凸納米-微米復(fù)合孔結(jié)構(gòu)絨面上，用二氧化鈦做濺射鍍膜靶材，鍍制折射率大于二氧化硅折射率且小于2.4的的膜層(以下稱高折射率膜層)，沉積的高折射率膜層厚度IOnm ;然后用硅鋁做靶材，氧氣和氬氣流量比例5: 100，濺射氣壓2.5 X KT1Pa反應(yīng)濺射沉積二氧化硅膜，膜層厚度70nm。
[0035]得到的防眩光與可見光減反射雙功能鍍膜玻璃在380nm至IlOOnm光譜波長范圍內(nèi)，透射率比未鍍膜玻璃原片的透射率提高2.5，反射率比玻璃原片(8%)降低3.5% ;膜層硬度5.0H ;霧度由玻璃原片的0.2%提升到3.5%，鍍制的膜層總厚度145nm。鍍膜玻璃的理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測試標(biāo)準(zhǔn)”中規(guī)定的國家標(biāo)準(zhǔn)。
[0036]實施例2
[0037]本發(fā)明的防眩光與可見光減反射雙功能鍍膜玻璃的制備方法包括以下步驟:
[0038]1、鍍制隔離層:真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例12:100，濺射氣壓3.0X KT1Pa,用硅鋁做靶材，沉積的氧化硅膜層厚度10nm。
[0039]2、鍍制凹凸納米-微米復(fù)合孔結(jié)構(gòu)絨面膜層:真空箱體中，氬氣做工作氣體，濺射氣壓3.0X KT1Pa,用鋁摻雜氧化鋅做靶材，沉積的膜層厚度80nm。
[0040]3、在大氣環(huán)境下，用重量濃度5%的鹽酸腐蝕鍍制的玻璃20秒，鍍制的摻雜氧化鋅膜層形成凹凸納米-微米復(fù)合孔結(jié)構(gòu)絨面，孔尺寸在10~500nm ;鹽酸廢液用石灰中和，廢水排放符合環(huán)保要求。
[0041]4、鍍制減反射層:真空箱體中，用氬氣做工作氣體，濺射氣壓3.0X KT1Pa,用氧化鈮做濺射鍍膜靶材，濺射沉積高折射率膜層，沉積的高折射率膜層厚度15nm。用氬氣做工作氣體、氧氣做反應(yīng)氣體，二者流量比例12:100，濺射氣壓3.0 X KT1Pa,在高折射率膜層上反應(yīng)濺射沉積二氧化硅膜層，膜層厚度80nm。
[0042]得到的可見光減反射和防眩光雙功能鍍膜玻璃在380nm至IlOOnm光譜波長范圍內(nèi)，透射率比未鍍膜玻璃原片的透射率提高3.0,反射率比玻璃原片(8%)降低3.5% ;膜層硬度5.5H ;鍍膜玻璃的霧度由原片的0.2%提升到4.5%。鍍制的膜層總厚度185nm。鍍膜玻璃的理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測試標(biāo)準(zhǔn)”中規(guī)定的國家標(biāo)準(zhǔn)。
[0043]實施例3
[0044]本發(fā)明的防眩光與可見光減反射雙功能鍍膜玻璃的制備方法包括以下步驟:
[0045]1、鍍制隔離層:真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例20:100，濺射氣壓3.5X KT1Pa,用硅硼做靶材，沉積的氧化硅膜層厚度15nm。
[0046]2、鍍制凹凸納米-微米復(fù)合孔結(jié)構(gòu)絨面膜層:真空箱體中，氬氣做工作氣體，濺射氣壓3.5 X KT1Pa,用鎵摻雜氧化鋅做靶材，沉積的膜層厚度95nm。
[0047]3、在大氣環(huán)境下，用重量濃度6%的鹽酸腐蝕鍍制的玻璃20秒，鍍制的摻雜氧化鋅膜層形成凹凸納米-微米復(fù)合孔結(jié)構(gòu)絨面，孔尺寸在10?500nm ;鹽酸用石灰中和，廢水排放符合環(huán)保要求，達(dá)到中性。
[0048]4、鍍制減反射層:真空箱體中，用氬氣做工作氣體，濺射氣壓3.5 X KT1Pa,用氧化鋯做濺射鍍膜靶材，鍍制高折射率膜層，沉積的高折射率膜層厚度20nm ;用氬氣做工作氣體、氧氣做反應(yīng)氣體，二者流量比例20: 100，濺射氣壓3.5 X KT1Pa沉積二氧化硅膜，膜層厚度 90nm。
[0049]得到的可見光減反射和防眩光雙功能鍍膜玻璃的透射率比未鍍膜玻璃原片的透射率提高3.5，反射率比玻璃原片(8%)降低3.0% ;膜層硬度6.0H ;鍍膜玻璃的霧度由原片的0.2%提升到5.0%。鍍制的膜層總厚度220nm。鍍膜玻璃的理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測試標(biāo)準(zhǔn)”中規(guī)定的國家標(biāo)準(zhǔn)。
[0050]實施例4
[0051]本發(fā)明的防眩光與可見光減反射雙功能鍍膜玻璃的制備方法包括以下步驟:
[0052]1、鍍制隔離層:真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例30:100，濺射氣壓4.0XKT1Pa,用純硅做靶材，沉積的氧化硅膜層厚度20nm。
[0053]2、鍍制凹凸納米-微米復(fù)合孔結(jié)構(gòu)絨面膜層:真空箱體中，氬氣做工作氣體，濺射氣壓4.0X KT1Pa,用銦摻雜氧化鋅做靶材，沉積的膜層厚度llOnm。
[0054]3、在大氣環(huán)境下，用重量濃度6%的鹽酸腐蝕鍍制的玻璃30秒，鍍制的摻雜氧化鋅膜層形成凹凸納米-微米復(fù)合孔結(jié)構(gòu)絨面，孔尺寸在10?500nm ;鹽酸用石灰中和，廢水排放符合環(huán)保要求，達(dá)到中性。
[0055]4、鍍制減反射層:真空箱體中，用氬氣做工作氣體，濺射氣壓4.0X KT1Pa,用氧化錫做濺射鍍膜靶材，鍍制高折射率膜層，沉積的高折射率膜層厚度30nm ;用氬氣做工作氣體、氧氣做反應(yīng)氣體，二者流量比例30:100，濺射氣壓4.0X KT1Pa沉積二氧化硅膜，膜層厚度 lOOnm。
[0056]得到的可見光減反射和防眩光雙功能鍍膜玻璃的透射率比未鍍膜玻璃原片的透射率提高4.5，反射率比玻璃原片(8%)降低4.5% ;膜層硬度5.5H ;鍍膜玻璃的霧度由原片的0.2%提升到6.5%，鍍制的膜層總厚度260nm。鍍膜玻璃的理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測試標(biāo)準(zhǔn)”中規(guī)定的國家標(biāo)準(zhǔn)。
[0057]實施例5
[0058]本發(fā)明的防眩光與可見光減反射雙功能鍍膜玻璃的制備方法包括以下步驟:
[0059]1、鍍制隔離層:真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例25:100，濺射氣壓3.0X KT1Pa,用硅硼做靶材，沉積的氧化硅膜層厚度15nm。
[0060]2、鍍制凹凸納米-微米復(fù)合結(jié)構(gòu)絨面膜層:真空箱體中，氬氣做工作氣體，濺射氣壓3.0X KT1Pa,用硼摻雜氧化鋅做靶材，沉積的膜層厚度llOnm。
[0061]3、鍍制的玻璃在大氣環(huán)境，用重量濃度8%的鹽酸腐蝕50秒，鍍制的摻雜氧化鋅膜層形成凹凸納米-微米復(fù)合孔結(jié)構(gòu)絨面，孔尺寸在10~500nm ;弱鹽酸用石灰中和，廢水排放符合環(huán)保要求，達(dá)到中性。[0062]4、鍍制減反射層:真空箱體中，用氬氣做工作氣體，濺射氣壓3.0X KT1Pa,鍍制高折射率膜層，用氧化鋅做濺射鍍膜靶材，沉積的高折射率膜層厚度20nm。二氧化硅膜層用氬氣做工作氣體、氧氣做反應(yīng)氣體，二者流量比例25:100，濺射氣壓3.0X KT1Pa沉積二氧化硅膜，膜層厚度llOnm。
[0063]得到的可見光減反射和防眩光雙功能鍍膜玻璃的透射率比未鍍膜玻璃原片的透射率提高4.5，反射率比玻璃原片(8%)降低5.5% ;膜層硬度6.0H ;鍍膜玻璃的霧度由原片的0.2%提升到6.5%。膜層厚度255nm。鍍膜玻璃的理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測試標(biāo)準(zhǔn)”中規(guī)定的國家標(biāo)準(zhǔn)。
[0064]實施例6
[0065]本發(fā)明的防眩光與可見光減反射雙功能鍍膜玻璃的制備方法包括以下步驟:
[0066]1、鍍制隔離層:真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例25:100，濺射氣壓3.0X KT1Pa,用硅鋁做靶材，沉積的氧化硅膜層厚度15nm。
[0067]2、鍍制凹凸納米-微米復(fù)合結(jié)構(gòu)絨面膜層:真空箱體中，氬氣做工作氣體，濺射氣壓3.0X KT1Pa,用鎵摻雜氧化鋅做靶材，沉積的膜層厚度llOnm。
[0068]3、鍍制的玻璃在大氣環(huán)境，用重量濃度8%的鹽酸腐蝕50秒，鍍制的膜層形成凹凸納米-微米復(fù)合孔結(jié)構(gòu)絨面，孔尺寸在10~500nm ;鹽酸用石灰中和，廢水排放符合環(huán)保要求，達(dá)到中性。
[0069]4、鍍制減反射層:真空箱體中，用氬氣做工作氣體，濺射氣壓3.0X KT1Pa,鍍制高折射率膜層，用二氧化鈦做濺射鍍膜靶材，沉積的高折射率膜層厚度20nm。二氧化硅膜層用氬氣做工作氣體、氧氣做反應(yīng)氣體，二者流量比例25:100,濺射氣壓2.5X 10?沉積二氧化硅膜，膜層厚度llOnm。
[0070]得到的可見光減反射和防眩光雙功能鍍膜玻璃的透射率比未鍍膜玻璃原片的透射率提高4.5，反射率比玻璃原片(8%)降低5.5% ;膜層硬度6.5H ;鍍膜玻璃的霧度由原片的0.2%提升到6.5%。膜層厚度255nm。鍍膜玻璃的理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測試標(biāo)準(zhǔn)”中規(guī)定的國家標(biāo)準(zhǔn)。
[0071]實施例7
[0072]本發(fā)明的防眩光與可見光減反射雙功能鍍膜玻璃的制備方法包括以下步驟:
[0073]1、鍍制隔離層:真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例25:100，濺射氣壓3.0X KT1Pa,用純硅做靶材，沉積的氧化硅膜層厚度15nm。
[0074]2、鍍制凹凸納米-微米復(fù)合結(jié)構(gòu)絨面膜層:真空箱體中，氬氣做工作氣體，濺射氣壓3.0X KT1Pa,用氧化鋅做靶材，沉積的膜層厚度llOnm。
[0075]3、鍍制的玻璃在大氣環(huán)境，用重量濃度7%的硫酸腐蝕50秒，鍍制的膜層形成凹凸納米-微米復(fù)合孔結(jié)構(gòu)絨面，孔尺寸在10?500nm ;硫酸用堿中和，廢水排放符合環(huán)保要求，達(dá)到中性。
[0076]4、鍍制減反射層:真空箱體中，用氬氣做工作氣體，濺射氣壓3.0X KT1Pa,鍍制高折射率膜層，用氧化錫做濺射鍍膜靶材，沉積的高折射率膜層厚度20nm。二氧化硅膜層用氬氣做工作氣體、氧氣做反應(yīng)氣體，二者流量比例25:100，濺射氣壓3.0X KT1Pa沉積二氧化硅膜，膜層厚度llOnm。
[0077]得到的可見光減反射和防眩光雙功能鍍膜玻璃的透射率比未鍍膜玻璃原片的透射率提高4.0,反射率比玻璃原片(8%)降低5.0% ;膜層硬度6.5H ;鍍膜玻璃的霧度由原片的0.2%提升到5.0%。膜層厚度255nm。鍍膜玻璃的理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測試標(biāo)準(zhǔn)”中規(guī)定的國家標(biāo)準(zhǔn)。
[0078]實施例8
[0079]本發(fā)明的防眩光與可見光減反射雙功能鍍膜玻璃的制備方法包括以下步驟:
[0080]1、鍍制隔離層:真空箱體中，氧氣和氬氣流量比例20:100，濺射氣壓2.5X KT1Pa,用純硅做靶材，沉積的氧化硅膜層厚度15nm。
[0081]2、鍍制凹凸納米-微米復(fù)合結(jié)構(gòu)絨面膜層:真空箱體中，氬氣做工作氣體，濺射氣壓2.5X KT1Pa,用鋁摻雜氧化鋅做靶材，沉積的膜層厚度llOnm。
[0082]3、鍍制的玻璃在大氣環(huán)境，用重量濃度7%的醋酸腐蝕40秒，鍍制的摻雜氧化鋅膜層形成凹凸納米-微米復(fù)合孔結(jié)構(gòu)絨面，孔尺寸在10?500nm ;醋酸用堿中和，廢水排放符合環(huán)保要求，達(dá)到中性。
[0083]4、鍍制減反射層:真空箱體中，用氬氣做工作氣體，濺射氣壓2.5 X KT1Pa,鍍制高折射率膜層，用鋁摻雜氧化鋅做濺射鍍膜靶材，沉積的高折射率膜層厚度30nm。二氧化硅膜層用氬氣做工作氣體、氧氣做反應(yīng)氣體，二者流量比例25:100，濺射氣壓2.5X KT1Pa沉積二氧化硅膜，膜層厚度lOOnm。
[0084]得到的可見光減反射和防眩光雙功能鍍膜玻璃的透射率比未鍍膜玻璃原片的透射率提高4.5，反射率比玻璃原片(8%)降低5.0% ;膜層硬度6.5H ;鍍膜玻璃的霧度由原片的0.2%提升到5.5%。膜層厚度255nm。鍍膜玻璃的理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測試標(biāo)準(zhǔn)”中規(guī)定的國家標(biāo)準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種防眩光與可見光減反射雙功能鍍膜玻璃，其特征在于，所述鍍膜玻璃包括玻璃基片以及在玻璃基片上依次形成的隔離層、防眩光膜層及可見光減反射膜層，所述隔離層、防眩光膜層及可見光減反射膜層的總厚度為145?270nm ;所述隔離層的材料為二氧化硅；所述防眩光膜層是利用酸腐蝕氧化鋅或摻雜氧化鋅得到的凹凸納米-微米復(fù)合孔結(jié)構(gòu)絨面膜層，孔尺寸在10?500nm ;所述可見光減反射膜層包括折射率大于二氧化硅折射率且小于2.4的膜層及二氧化硅膜層。
2.如權(quán)利要求1所述的防眩光與可見光減反射雙功能鍍膜玻璃，其特征在于，所述酸為鹽酸、硫酸、醋酸或硝酸，所述酸的重量濃度為3%?8%。
3.如權(quán)利要求1所述的防眩光與可見光減反射雙功能鍍膜玻璃，其特征在于，所述隔離層的厚度為5?20納米；所述防眩光膜層的厚度為60?IlOnm ;所述折射率大于二氧化硅折射率且小于2.4的膜層厚度為10?20nm ;所述二氧化硅膜層厚度70?120nm。
4.如權(quán)利要求1所述的防眩光與可見光減反射雙功能鍍膜玻璃，其特征在于，所述摻雜氧化鋅為招、硼、鎵或銦摻雜氧化鋅。
5.如權(quán)利要求1所述的防眩光與可見光減反射雙功能鍍膜玻璃，其特征在于，所述折射率大于二氧化硅折射率且小于2.4的膜層的材料為二氧化鈦、氧化鈮、氧化鋯、氧化錫、氧化鋅或鋁摻雜氧化鋅。
6.如權(quán)利要求1所述的防眩光與可見光減反射雙功能鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于，它包括以下步驟: 1)用磁控濺射法在玻璃上鍍制隔離層； 2)用磁控濺射法在隔離層上鍍制氧化鋅或摻雜氧化鋅膜層，然后用重量濃度3%?8%的酸腐蝕10?50秒，形成凹凸納米-微米復(fù)合孔結(jié)構(gòu)絨面的防眩光膜層，孔尺寸在10?500nm ； 3)用磁控濺射法在凹凸納米-微米復(fù)合孔結(jié)構(gòu)絨面層上鍍制可見光減反射膜層。
7.如權(quán)利要求6所述的制備方法，其特征在于，所述步驟I)中用反應(yīng)磁控濺射法沉積二氧化硅隔離層，反應(yīng)條件為:氧氣和氬氣流量比例5?35:100，濺射氣壓2.5X KT1?4.0X KT1Pa,靶材為純硅、硅鋁或硅硼，沉積的二氧化硅膜層厚度5?20nm。
8.如權(quán)利要求6所述的制備方法，其特征在于，所述步驟2)用磁控濺射法在隔離層上鍍制氧化鋅或摻雜氧化鋅膜層的工藝條件為:氬氣做工作氣體，濺射氣壓2.5 X KT1?4.0X KT1Pa,靶材為氧化鋅或者鋁、硼、鎵或銦摻雜氧化鋅，沉積的膜層厚度60?llOnm。
9.如權(quán)利要求6所述的制備方法，其特征在于，所述步驟4)鍍制可見光減反射膜層的步驟為:首先用鋁摻雜氧化鋅、二氧化鈦、氧化鈮、氧化鋯、氧化錫、或氧化鋅做濺射鍍膜靶材，用氬氣做工作氣體，濺射氣壓2.5 X KT1?4.0X KT1Pa沉積折射率大于二氧化硅折射率且小于2.4的膜層，所述膜層厚度為10?20nm ;然后在所述折射率大于二氧化硅折射率且小于2.4的膜層上用反應(yīng)磁控濺射法沉積二氧化硅膜層，氧氣和氬氣流量比例5?35:100，濺射氣壓2.5 X 10—1?4.0 X KT1Pa,用純硅、硅鋁或硅硼做靶材，二氧化硅膜層厚度70 ?120nm。
10.如權(quán)利要求6所述的制備方法，其特征在于，在步驟I)的鍍膜前將玻璃清洗、干燥得到潔凈玻璃，然后將潔凈玻璃在常壓氮氣氛圍，用500?1000V電壓形成的等離子體處理潔凈玻璃表面。
【文檔編號】B32B17/00GK103921487SQ201410137855
【公開日】2014年7月16日 申請日期:2014年4月4日 優(yōu)先權(quán)日:2014年4月4日
【發(fā)明者】趙青南, 繆燈奎, 趙杰, 董玉紅, 趙修建 申請人:武漢理工大學(xué)