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      一種用于去除集成電路光刻膠的清洗液的制作方法

      文檔序號:2759057閱讀:392來源:國知局
      專利名稱:一種用于去除集成電路光刻膠的清洗液的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體晶片的清洗液,特別是一種用于去除集成電路光刻膠的清洗液。
      背景技術(shù)
      在集成電路加工過程中,需要使用光刻膠,加工過程完成后,再將光刻膠去除。集成電路光刻膠的去除,通常先進(jìn)行等離子灰化,然后再采用濕式清洗,以便清除由于等離子灰化產(chǎn)生的有機(jī)物和聚合物殘留。目前濕式清洗使用的清洗液有兩種SPM和SPM。SPM清洗液是硫酸和過氧化氫的混合物;APM清洗液是氫氧化銨、過氧化氫和水的混合物。清洗設(shè)備一般采用批處理沉浸設(shè)備或批處理噴霧設(shè)備;采用上述設(shè)備清洗時,清洗液通常經(jīng)過過濾后循環(huán)使用。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的飛速發(fā)展,在適應(yīng)器件設(shè)計的多變性、低成本和無環(huán)境污染等方面,對清洗液提出了更高的要求。以半導(dǎo)體器件為例,在設(shè)計65納米及其以下節(jié)點(diǎn)的集成電路時,需要更薄的柵介電層,目前正朝著高介電材料的方向發(fā)展,這就要求更高的清洗效果,特別是極少的的金屬離子污染物。而傳統(tǒng)的清洗液,無論是SPM清洗液還是APM清洗液,都含有金屬離子,它們對新式柵結(jié)構(gòu)的電學(xué)性能有負(fù)面影響,清洗后金屬離子污染物的含量,遠(yuǎn)遠(yuǎn)達(dá)不到標(biāo)準(zhǔn)的要求;同時傳統(tǒng)的清洗液還會造成較多的氧化物損失和硅損失。此外,由于清洗液經(jīng)過濾后循環(huán)使用,從開始使用到被替換時其組分在不斷變化,對清洗效果和器件電學(xué)性能均會產(chǎn)生不利影響。傳統(tǒng)的清洗液在去除集成電路光刻膠的清洗中,消耗水量極大,其含有的化學(xué)試劑成分會造成環(huán)境污染。

      發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是針對上述傳統(tǒng)清洗液的缺點(diǎn),提供一種具有高性能、不含金屬離子、無污染和良好清洗效果的用于去除集成電路光刻膠的清洗液本發(fā)明的技術(shù)方案一種用于去除集成電路光刻膠的清洗液,其特征在于由復(fù)合型螯合劑、雙氧水和去離子水組成;各種成分所占重量百分比為復(fù)合型螯合劑5~10%;雙氧水3~8%;去離子水為余量。
      本發(fā)明所述復(fù)合型螯合劑為羥胺和醇胺的混合物;其混合比例為(2~10)∶1。
      本發(fā)明所述雙氧水的濃度為3~30%。
      本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是1、該清洗液使用的螯合劑不含金屬離子,不會造成金屬離子污染,而對金屬離子有較強(qiáng)的去除功能;2、減少了氧化物損失和硅損失;3、清洗液成分穩(wěn)定,確保良好的清洗效果4、降低水耗,有利于環(huán)保;5、工藝簡單,成本低。
      具體實(shí)施方式
      實(shí)施例1一種用于去除集成電路光刻膠的清洗液,由乙羥基乙二胺與三乙醇胺混合而成的復(fù)合型螯合劑、濃度為10%的雙氧水和去離子水組成;各種成分所占重量百分比復(fù)合型螯合劑占8%;雙氧水6%;去離子水為余量;復(fù)合型螯合劑中,乙羥基乙二胺與三乙醇胺混合比例為4∶1。使用該清洗液去除集成電路光刻膠,清洗效果良好。
      實(shí)施例2一種用于去除集成電路光刻膠的清洗液,由四羥基乙基乙二胺與二乙醇胺混合而成的復(fù)合型螯合劑,濃度為15%的雙氧水和去離子水組成;各種成分所占重量百分比復(fù)合型螯合劑5%;雙氧水8%;去離子水為余量;復(fù)合型螯合劑中,四羥基乙基乙二胺與二乙醇胺混合比例為8∶1。使用該清洗液去除集成電路光刻膠,清洗效果良好。
      權(quán)利要求
      1.一種用于去除集成電路光刻膠的清洗液,其特征在于由復(fù)合型螯合劑、雙氧水和去離子水組成;各種成分所占重量百分比為復(fù)合型螯合劑5~10%;雙氧水3~8%;去離子水為余量。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于去除集成電路光刻膠的清洗液,其特征在于復(fù)合型螯合劑為羥胺和醇胺的混合物;其混合比例為(2~10)∶1。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于去除集成電路光刻膠的清洗液,其特征在于雙氧水的濃度為3~30%。
      全文摘要
      一種用于去除集成電路光刻膠的清洗液,由復(fù)合型螯合劑、雙氧水和去離子水組成;各種成分所占重量百分比為復(fù)合型螯合劑5~10%;雙氧水3~8%;去離子水為余量。復(fù)合型螯合劑為羥胺和醇胺的混合物;其混合比例為(2~10)∶1;雙氧水的濃度為3~30%。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是1.該清洗液使用的螯合劑不含金屬離子,不會造成金屬離子污染,而對金屬離子有較強(qiáng)的去除功能;2.減少了氧化物損失和硅損失;3.清洗液成分穩(wěn)定,確保良好的清洗效果;4.降低水耗,有利于環(huán)保;5.工藝簡單,成本低。
      文檔編號G03F7/42GK101093363SQ20061001441
      公開日2007年12月26日 申請日期2006年6月23日 優(yōu)先權(quán)日2006年6月23日
      發(fā)明者仲躋和, 李家榮, 周云昌, 李薇薇, 楊文靜 申請人:天津晶嶺電子材料科技有限公司
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