專利名稱：：制備顯示器用陣列板的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：一種制備顯示器用陣列板的方法以及正性型光致抗蝕劑樹脂在制備顯示器用陣列板中的應(yīng)用。
背景技術(shù)：
：平板顯示器正在日益發(fā)展，以代替陰極射線管(CRT)顯示器。它們中，液晶顯示器(LCD)、有機電致發(fā)光顯示器(ELD)等已經(jīng)特別得到了關(guān)注，它們具有比如輕重量、薄膜性質(zhì)或低功率消耗等的優(yōu)點。例如，光透射有源矩陣式液晶顯示器可以包含每一個都具有開關(guān)元件的多個顯示像素的陣列。有源矩陣式液晶顯示器具有通過對齊層(alignment1ayer)在陣列襯底和相反襯底之間設(shè)置的液晶層。陣列襯底在形成于由玻璃、石英等制備的透明板上的格子內(nèi)排列有多根信號線和掃描線。在格子的交點上使用無定形硅半導(dǎo)體薄膜，將每一個格子與薄膜晶體管(下文中，簡寫為TFT)連接。TFT的柵極電極和漏極電極分別電連接掃描線和信號線，同時TFT的漏極電極電連接用于制備像素電極的透明導(dǎo)電材料例如銦-錫-氧化物(ITO)。TFT的可能結(jié)構(gòu)包括正交錯式(頂部柵極式)和負(fù)交錯式(底部柵極式)結(jié)構(gòu)。光致抗蝕劑和光致抗蝕劑膜被用于制備這些LCD,并且還用于制備其它高度集成的半導(dǎo)體比如集成電路(IC)、印刷電路版(PCB)和電子顯示器如陰極射線管(CRT)和有機電致發(fā)光顯示(EL或ELD)。用于這些器件的制備方法采用了光刻法和光制備技術(shù)。光致抗蝕劑膜需要足以形成具有非常細(xì)的線和不大于7pm的小空間區(qū)域的圖案的分辨率。通過化學(xué)改性光致—抗蝕劑樹脂或光致抗蝕劑的分子結(jié)構(gòu)，可以使光致抗蝕劑的物理性質(zhì)在比如在某些溶劑中的溶解性、著色性、固化等性質(zhì)上不同。近年來，采用液體光致抗蝕劑組合物制備TFT-LCD的方法由于襯底尺寸的增大已經(jīng)變得日益復(fù)雜和困難，因此與液體光致抗蝕劑組合物相關(guān)的問題已經(jīng)變得更加突出。正性液體光致抗蝕劑表現(xiàn)出一些問題，比如由于在儲存過程中的沉降而導(dǎo)致分辨率和靈敏度降低、由于在涂布表面上的殘留物而導(dǎo)致圖案設(shè)計較差等。因此，存在研發(fā)新的光致抗蝕劑以解決這些問題的需要。對正性干抗蝕劑技術(shù)的需要起因于與常規(guī)液體正性光致抗蝕劑相關(guān)的缺點。這些缺點導(dǎo)致生產(chǎn)成本升高。例如，將光致抗蝕劑旋涂到半導(dǎo)體晶片上導(dǎo)致昂貴光致抗蝕劑材料的損失。旋涂抗蝕劑的機器體現(xiàn)主要的資本費用，并且與旋涂相關(guān)的時間和處理產(chǎn)生另外的生產(chǎn)成本。與光致抗蝕劑的定點使用(point-of-use)的應(yīng)用相關(guān)的過濾也是成本高昂的。光致抗蝕劑在旋涂處理中的所有點上的浪費也體現(xiàn)出光致抗蝕劑成本的主要部分。而且，正性液體光致抗蝕劑組合物在儲存過程中通常產(chǎn)生不溶性材料(即，經(jīng)歷沉降)，從而導(dǎo)致分辨率和靈敏度的降低。因此，實用的干膜正性光致抗蝕劑技術(shù)變得高度需要。在二十世紀(jì)六十年代期間，傳統(tǒng)的干膜光致抗蝕劑技術(shù)開始發(fā)展，在那時液體負(fù)性光致抗蝕劑適合用于制備大特征、低分辨率器件比如印刷電路版(PCB)圖案的干膜技術(shù)。然而，這些干膜抗蝕劑的差的分辨率抑制了干膜技術(shù)對高分辨率器件比如IC、LCD等的應(yīng)用。正性干膜抗蝕劑首先在二十世紀(jì)八十年代出現(xiàn)，此時，技術(shù)發(fā)展開發(fā)出了熱塑性樹脂的一些性質(zhì)。例如，采用纖維素樹脂作為干膜正性抗蝕劑的基底(美國專利5,981,135)。DuPont開發(fā)出了另外的干膜正性抗蝕劑(美國專利4,193,797和美國專利5,077,174)，這些干膜正性抗蝕劑都是基于丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯樹脂的。因此，這些相關(guān)領(lǐng)域的熱塑性正性干膜光致抗蝕劑同樣具有負(fù)性抗蝕劑的缺點，原因是采用纖維素或丙烯酸類樹脂產(chǎn)生具有低分辨率的厚干膜光致抗蝕劑。因此，這些相關(guān)領(lǐng)域的干膜正性光致抗蝕劑的應(yīng)用已經(jīng)證實了關(guān)于高級半導(dǎo)體制備應(yīng)用需要薄膜的問題。即，由于高分辨率光刻法需要光致抗蝕劑層的寬度變得更薄，因此增加了對均勻薄膜的需要。例如，光致抗蝕劑的薄膜對比如襯底粗糙度之類的外部現(xiàn)象更靈敏。十分不均勻的襯底可能在光致抗蝕劑層產(chǎn)生比如"魚眼"的缺陷。另外，通過光學(xué)器件在短時間內(nèi)導(dǎo)致的光致抗蝕劑樹脂或光致抗蝕劑的分子結(jié)構(gòu)的化學(xué)改性，可以使得光致抗蝕劑樹脂或光致抗蝕劑的物理性質(zhì)變化，比如在某些溶劑中的溶解性(即，溶解性的增加或降低)、著色、固化等的變化。另外地，己經(jīng)開發(fā)出了各種用于改善光致抗蝕劑樹脂組合物的物理性質(zhì)和加工穩(wěn)定性的溶劑，這些溶劑包括例如乙二醇單乙基醚乙酸酯(EGMEA)、丙二醇單乙基醚乙酸酯(PGMEA)、乙酸乙酯(EA)等。然而，這些液體光致抗蝕劑組合物通常在儲存過程中產(chǎn)生不溶材料(即，經(jīng)歷沉降)，從而導(dǎo)致分辨率和靈敏度的降低。例如，如在日本專利公開No.3-249654中公開的，包含堿溶性酚醛清漆樹脂以及作為光酸生成劑的含1,2-萘醌二疊氮基-4-磺酸酯和可酸分解自由基的材料的組合物；以及如在日本專利公開No.6-202320公開的，包含堿溶性酚醛清漆樹脂、1,2-萘醌二疊氮基-4-磺酸多羥基二苯甲酮酯和可酸分解自由基的組合物，都存在問題，比如由于儲存過程中的沉降而導(dǎo)致的分辨率和靈敏度降低、由于在涂布表面上的殘留物而導(dǎo)致的圖案設(shè)計較差等。相關(guān)領(lǐng)域的技術(shù)的另一個實例包括美國專利No.3,666,473，它涉及兩種苯酚-甲醛酚醛清漆樹脂和典型光敏化合物的混合物的應(yīng)用。美國專利No.4,115,128論述了將有機酸的環(huán)酸酐加入到酚樹脂以及萘醌二疊氮化物的敏化劑中，以改善其光敏速度。美國專利No.4,550,069論述了酚醛清漆樹脂、對-苯醌疊氮化物的光敏化合物和作為它們?nèi)軇┑谋紗我一岩宜狨?PGMEA)的應(yīng)用，以提高光敏速度和改善對人類的毒性。日本專利No.189,739涉及用于提高分辨率和耐熱性的酚醛清漆樹脂的分級(fractionation)。因此，在本領(lǐng)域中，強烈需求一種使用改進(jìn)的光致抗蝕劑樹脂產(chǎn)物的顯示器制備技術(shù)，它克服了各種問題比如涂層厚度偏差、差的光滑性、變形、凝結(jié)、發(fā)泡、涂布損耗等，而這些問題都是使用常規(guī)的液體正性型光致抗蝕劑組合物在LCD、有機ELD等上形成微圖案時的必要處理比如旋涂或類似處理的過程中產(chǎn)生的。該技術(shù)應(yīng)當(dāng)同時表現(xiàn)出高的分辨率、優(yōu)異的線寬控制能力、高耐熱性、高靈敏度、高的膜殘留比率，高的耐干蝕刻性和高的顯影性質(zhì)；并且可適用于LCD、有機ELD等的微精加工
發(fā)明內(nèi)容技術(shù)問題因此，部分地，本發(fā)明的目的是提供一種通過下面的步驟可以解決上述問題使用正性型光致抗蝕劑樹脂膜形成陣列的方法消除當(dāng)將相關(guān)領(lǐng)域的液體光致抗蝕劑組合物用于在用于TFT-LCD、有機ELD等的襯底上形成微電路圖案時所需要的在玻璃襯底上的復(fù)雜涂敷處理(例如，旋涂)。部分地，本發(fā)明屬于制備顯示器用陣列的方法，該方法包括將具有在支持膜上的正性光致抗蝕劑樹脂層的正性干膜抗蝕劑粘附到襯底上，使得光致抗蝕劑樹脂層粘附在所述襯底的表面上；將支持膜從粘附到所述襯底表面的光致抗蝕劑樹脂層上釋放；將該層曝光；以及將在正性型光致抗蝕劑樹脂層中的曝光區(qū)域顯影并除去。部分地，本發(fā)明屬于一種使用光致抗蝕劑樹脂膜制備的陣列，所述光致抗蝕劑樹脂膜具有支持膜以及層疊在所述支持膜上的正性型光致抗蝕劑樹脂層。更具體而言，正性型光致抗蝕劑樹脂層包含堿溶性樹脂、二疊氮化物基光敏化合物、靈敏度提高劑、高沸點溶劑，其中所述的高沸點溶劑沸點足夠高，以可以通過加熱將第二溶劑從組合物中除去，同時將第一溶劑基本上保留在組合物中。技術(shù)方案本發(fā)明的優(yōu)點將從下面給出的詳細(xì)描述中變得更明顯。然而，應(yīng)當(dāng)理解，詳述和具體實施例在表明本發(fā)明的優(yōu)選實施方案的同時，只是作為說明而給出的，因為從這種詳述中，在本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)的各種變化和改進(jìn)對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言是明顯的。下文中，本發(fā)明將進(jìn)行詳細(xì)描述，尤其是關(guān)于其連同附圖的技術(shù)結(jié)構(gòu)進(jìn)行描述。圖1所示為正性型光致抗蝕劑樹脂膜，該樹脂膜包含支持膜la以及層疊在所述支持膜la上的正性型光致抗蝕劑樹脂層lb。有時候，為了改善根據(jù)本發(fā)明的正性型光致抗蝕劑樹脂膜的儲存和運輸?shù)陌踩?，該樹脂膜進(jìn)一步包含在光致抗蝕劑樹脂層lb上的保護(hù)層(未示出)。正性型光致抗蝕劑樹脂層lb可以包含堿溶性樹脂、二疊氮化物基光敏化合物和靈敏度提高劑。正性型光致抗蝕劑樹脂層lb可以任選包含增塑劑和/或能夠用作增塑劑的高沸點溶劑。具有層壓結(jié)構(gòu)的正性型光致抗蝕劑樹脂膜可以消除將光致抗蝕劑旋涂到玻璃襯底上，而將光致抗蝕劑旋涂到玻璃襯底上是使用常規(guī)的液體光致抗蝕劑樹脂組合物時所需要的，因而這樣解決了比如在涂布過程中的厚度偏差、差的平滑度、變形、凝結(jié)、發(fā)泡、溶劑引出等之類的問題。使用干膜抗蝕劑另外有利于提高成品收率。支持膜10的性質(zhì)之一是峰高(Rp)。將峰高(Rp)定義為位于在所選擇區(qū)域的高度剖面圖(z軸方向)中的表面平均高度(MHt)和最高表面峰高度(q)之間的高度差。下文中，我們將"峰高(Rp)"稱為"Rp"。而且，將表面平均高度(MHt)定義為位于所選擇區(qū)域的高度剖面圖(z軸方向)中所有頂峰、低谷和反常峰的平均高度，條件是在該表面中存在反常峰。圖2所示為一種支持膜10的具有大反常的表面。在這種情況下，可以觀察到反常峰q。這種反常峰q的作用是將增加Rp的值，盡管在除去反常峰q的區(qū)域內(nèi)，該表面具有低的頂峰高度和底谷高度。而且，異常q的存在相當(dāng)不利于形成在支持膜10上的光致抗蝕劑膜的性質(zhì)。當(dāng)光致抗蝕劑膜的厚度大時，支持膜的峰的效果最小。然而，當(dāng)光致抗蝕劑膜變得更薄時，表面反常突出在光致抗蝕劑內(nèi)，將導(dǎo)致光致抗蝕劑層20變得不均勻，從而產(chǎn)生被稱作"魚眼"的現(xiàn)象。即，當(dāng)光致抗蝕劑膜20的層被降低到約10iam的厚度時，在支持膜10內(nèi)存在的大反常將趨向于導(dǎo)致形成魚眼。因此，支持膜10的峰高(Rp)應(yīng)當(dāng)不大于約300證。而且，支持膜10的峰高(Rp)可以優(yōu)選為約100nm或更小，但是本發(fā)明在30nm(0.03)am)的峰高(Rp)仍然是有效的。而且，理想地將峰高(Rp)盡可能多地減小，甚至將其減小至10nm(0.01|im)或更小。然而，峰高(Rp)的工作范圍為15至30nm。圖4顯示了取向聚丙烯(OPP)支持膜的表面，從原子力顯微鏡(AFM)中觀察，所述取向聚丙烯(OPP)支持膜相對沒有大的反常。此處，所述表面相對沒有可以導(dǎo)致光致抗蝕劑層的缺陷的大反常峰。相反，圖5顯示了聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜的AFM顯微照片，該照片顯示出存在高于表面平均高度(MHt)的大峰。當(dāng)這些大的峰突出到光致抗蝕劑層內(nèi)時，可以產(chǎn)生不利的缺陷。更具體地，本發(fā)明的支持膜優(yōu)選具有經(jīng)原子力顯微鏡(AFM)測量出的不大于約300nrn的峰高(Rp)，所述峰高(Rp)被定義為位于在所選擇區(qū)域的高度剖面圖(z軸方向)中的表面平均高度(MHt)和最高表面峰的高度(q)之間的高度差。峰高(Rp)更優(yōu)選為不大于約100nm，當(dāng)使用OPP或雙軸OPP(BOPP)膜時可以實現(xiàn)這樣的峰高。通過ParkScientificInstrumentcompanyofUSA制造的原子力顯微鏡(AFM，型號AutoproveM5)測量表面平均高度(MHt)和峰高(Rp)。當(dāng)AFM的微檢測器固定懸臂逐漸靠近支持膜的表面時，根據(jù)檢測器的原子和樣品表面的原子之間的縱向間隔，原子力顯微鏡(AFM)產(chǎn)生吸力或斥力。M:上述現(xiàn)象，可以測量表面平均高度(MHt)和峰高(Rp)。更具體地，測量的區(qū)域(樣品大小)被限定為20X20pm2。AFM的檢測器與支持膜表面的任選選取的10個位置接觸，并且通過光電二極管測量產(chǎn)生的原子力。"f吏用軟"[牛(ThermoMicroscopesproscansoftwareversion2.0)用二7欠J以合(secondorderfit)的分析由光電二極管測量出的原子所產(chǎn)生的力，獲得表面平均高度(MHt)和峰高(Rp)。此時，Rp是從10個測量值中去除最大值和最小值之后的8個測量值的平均值。如果Rp超過300nm，則當(dāng)在層疊干膜抗蝕劑之后，將襯底膜從光致抗蝕劑層釋放時，可能在光致抗蝕劑層的表面上存在等于最高表面峰的高度的凹痕或魚眼，因而在將膜曝光之后進(jìn)行顯影過程中，可能產(chǎn)生缺陷。另外，由于在膜制備時所加入在的用來改善平滑流動性(smoothrunningproperty)的粒子(比如，有機粒子或無機粒子)和/或在膜制備過程中產(chǎn)生的其它雜質(zhì)，因此也形成了最高表面峰。本發(fā)明的支持膜la應(yīng)當(dāng)具有用于正性型光致抗蝕劑樹脂膜的滿意的物理性質(zhì)。合適支持膜材料的實例包括但不限于聚碳酸酯膜、聚乙烯(PE)膜、聚丙烯(PP)膜、取向聚丙烯(OPP)膜、聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)膜、乙烯乙酸乙烯酯(EVA)膜、聚乙烯基膜、任意合適的聚烯烴膜、環(huán)氧膜等。尤其優(yōu)選的聚烯烴膜是聚丙烯(PP)膜、聚乙烯(PE)膜、乙烯乙酸乙烯酯(EVA)膜等。優(yōu)選的聚乙烯基膜是聚氯乙烯(PVC)膜、聚乙酸乙烯酯(PVA)膜、聚乙烯醇(PVOH)膜等。尤其優(yōu)選的聚苯乙烯類膜是聚苯乙烯(PS)膜、丙烯腈/丁二烯/苯乙烯(ABS)膜等。尤其地，支持膜優(yōu)選是透明的，以允許光穿過支持膜并且輻照光致抗蝕劑樹脂層。支持膜10可以優(yōu)選具有范圍在約10至50mm的厚度，以用作用于支持正性型光致抗蝕劑樹脂膜的形狀的框架，優(yōu)選范圍在約15至50mm的厚度，更優(yōu)選范圍在約15至25mm的厚度。接著，下列論述涵蓋根據(jù)本發(fā)明的正性型光致抗蝕劑樹脂層lb的各種組分。一般而言，樹脂材料可以是熱塑性的或熱固性的。熱塑性是一類重復(fù)在加熱時軟化而冷卻時硬化的塑料或樹脂。加熱時，可以將熱塑性塑料進(jìn)行模制并成型，冷卻時保持該形狀。熱固性樹脂或塑料是通過加熱和/或催化劑將進(jìn)行或已經(jīng)進(jìn)行過化學(xué)反應(yīng)以形成固體的材料。一旦熱固性材料被加熱，它就不返回其原始狀態(tài)，并且再加熱時不軟化。用于制備本發(fā)明的正性型光致抗蝕劑樹脂層lb的堿溶性樹脂優(yōu)選包含但不限于作為苯酚和醛縮合產(chǎn)物的酚醛清漆樹脂，并且最優(yōu)選甲酚酚醛清漆樹脂。酚醛清漆樹脂是通過只酚類本身和酸性催化劑或與醛結(jié)合以及酸性催化劑下根據(jù)已知的反應(yīng)機理進(jìn)行縮聚而獲得的。酚類包括但不限于伯酚比如苯酚、令卩-甲酚、間-甲酚、對-甲酚、2,3-二甲苯酚、2,5-二甲苯酚、3,4-二甲苯酚、3,5-二甲苯酚、2,3,5-三甲基苯酚-二甲苯酚、4-叔丁基苯酚、2-叔丁基苯酚、3-叔丁基苯酚、4-甲基-2-叔丁基苯酚等；以及多元酚，比如2-萘酚、1,3-二羥基萘、1,7-二羥基萘、.1,5-二羥基萘、間苯二酚、焦兒茶酚、氫醌、雙酚A、間苯三酚、連苯三酚等，這些酚可以單獨使用或組合使用。尤其優(yōu)選間-甲酚和對-甲酚的組合。合適的醛包括但不限于甲醛、三噁垸、低聚甲醛、苯甲醛、乙醛、丙醛、苯乙醛、a或p-苯基丙醛、鄰-、間-或?qū)?羥基苯甲醛、戊二醛、對苯二醛等，這些醛可以單獨使用或組合使用。在本發(fā)明中使用的甲酚酚醛清漆樹脂優(yōu)選具有在約2,000至30,000的范圍的重均分子量(基于GPC)。此外，在本發(fā)明中使用的甲酚酚醛清漆樹脂優(yōu)選具有重量混合比在約4:6至6:4的間/對-甲酚含量，因為樹脂取決于間/對-甲酚含量的混合比而具有不同的物理性質(zhì)，比如光敏速度和膜殘留比率。如果在甲酚酚醛清漆樹脂中的間-甲酚含量超過上述范圍，則光敏速度變得更高，同時膜殘留比率快速降低。另一方面，當(dāng)對-甲酚含量超過上述范圍時，光敏速度不適宜地變慢。盡管可單獨使用間/對-甲酚含量的重量混合比在約4:6至6:4的范圍的甲酚酚醛清漆樹脂，但是更優(yōu)選組合使用具有不同分子量的樹脂。在這種情況下，甲酚酚醛清漆樹脂優(yōu)選為(i)重均分子量(基于GPC)在約8,000至30,000范圍的甲酚酚醛清漆樹脂和(ii)重均分子量(基于GPC)在約2,000至8,000范圍的甲酚酚醛清漆樹脂以約7:3至9:1范圍的混合比形成的混合物。此處使用的術(shù)語"重均分子量"指的是由凝膠滲透色譜(GPC)測定的聚苯乙烯等效物的轉(zhuǎn)換值。如果重均分子量小于約2,000，則光致抗蝕劑樹脂膜在該膜顯影之后的未曝光區(qū)域內(nèi)表現(xiàn)出顯著的厚度降低。另一方面，當(dāng)重均分子量超過30,000時，顯影速度降低，由此靈敏度降低。當(dāng)將反應(yīng)產(chǎn)物中存在的低分子量組分除去之后獲得的樹脂具有在所述范圍(約2,000至30,000)的重均分子量時，本發(fā)明的酚醛清漆樹脂可以實現(xiàn)最優(yōu)選的效果。為了從酚醛清漆樹脂中除去低分子量組分，通?？梢允褂迷诒绢I(lǐng)域中己知的常規(guī)技術(shù)，包括分級沉淀、分級溶解、柱色譜等。結(jié)果，改善了光致抗蝕劑樹脂膜的性能，尤其是撇渣(scumming)、耐熱性等。作為堿溶性樹脂，可以在不增加體積的情況下將酚醛清漆樹脂溶解在堿性溶液中，并且當(dāng)采用該樹脂作為蝕刻用的掩模時，提供具有高的耐等離子體蝕刻性的圖像。本發(fā)明的二疊氮化物基光敏化合物被用作光敏材料，此外，起著溶解抑制劑的作用，以降低酚醛清漆樹脂的堿溶解性。然而，當(dāng)用光輻照時，二疊氮化物基光敏化合物被轉(zhuǎn)變成堿溶性材料，由此起著提高酚醛清漆樹脂的堿溶性的作用。因此，由于光輻照導(dǎo)致的堿溶性的變化，光敏化合物尤其有利于正性型光致抗蝕劑樹脂膜。通過多羥基化合物和醌二疊氮磺酸化合物之間的酯化，可以合成二疊氮化物基光敏化合物。用于合成光敏化合物的酯化包括將多羥基化合物和醌二疊氮磺酸化合物溶解在溶劑中，所述溶劑比如有二噁烷、丙酮、四氫呋喃、甲基乙基酮、N-甲基吡咯垸(N-methylpyrolidine)、氯仿、三氯乙烷、三氯乙烯或二氯乙垸；通過將堿性催化劑比如氫氧化鈉、碳酸鈉、碳酸氫鈉、三乙基胺、N-甲基嗎啉、N-甲基哌嗪或4-二甲基氨基吡啶加入溶液中，將所制備的溶液縮合；以及，將所得產(chǎn)物洗滌、純化和干燥?？梢詫⑺璧耐之悩?gòu)體選擇性酯化，并且根據(jù)二疊氮磺酸化合物與多羥基化合物的OH基的酯化，酯化率(平均酯化率)沒有特別的限制，但是優(yōu)選在約20至100%的范圍，更優(yōu)選在約60至90%。當(dāng)酯化率太低時，圖案結(jié)構(gòu)和分辨率劣化。相反，如果酯化率太高時，出現(xiàn)靈敏度變差。醌二疊氮磺酸化合物包括例如鄰-醌二疊氮化合物，比如1，2-苯醌二疊氮-4-磺酸、1，2-萘醌二疊氮-4-磺酸、1,2-苯醌二疊氮-5-磺酸和1，2-萘醌二疊氮-5-磺酸；和其它醌二疊氮磺酸衍生物。二疊氮化物基光敏化合物優(yōu)選為1,2-苯醌二疊氮-4-磺酰氯、1，2-萘醌二疊氮-4-磺酰氯和1，2-萘醌二疊氮-5-磺酰氯中的至少一種。醌二疊氮磺酸化合物起著溶解抑制劑的作用，以降低酚醛清漆樹脂在堿性溶液中的溶解性。然而，該化合物在曝光處理過程中分解產(chǎn)生堿溶性樹脂，由此具有促進(jìn)酚醛清漆樹脂在堿性溶液中溶解的特性。作為多羥基化合物，優(yōu)選的實例為三羥基二苯甲酮類，比如2,3,4-三羥基二苯甲酮、2,2'，3-三羥基二苯甲酮、2,3，4'-三羥基二苯甲酮；四羥基二苯甲酮類，比如2,3,4,4-四羥基二苯甲酮、2，2',4，4'-四羥基二苯甲酮、STAS-四羥基二苯甲酮；五羥基二苯甲酮類，比如2，2',3,4,4'-五羥基二苯甲酮、2,2',3,4,5-五羥基二苯甲酮；六羥基二苯甲酮類，比如2,3，3',4,4',5'-六羥基二苯甲酮、2，2,3，3'，4，5'-六羥基二苯甲酮；沒食子酸烷基酯；羥基黃垸(oxyflavans)等。在本發(fā)明中使用的二疊氮化物基光敏化合物優(yōu)選為選自2,3,4，4-四羥基二苯甲酮-l,2-萘醌二疊氮-磺酸酯、2,3,4-三羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯和(l-[l-(4-羥基苯基)異丙基]-4-[l，l-二(4-羥基苯基)乙基]苯)-l,2-萘醌二疊氮-5-磺酸酯中的至少一種。另外，可以使用將多羥基二苯甲酮和二疊氮化物基化合物比如1，2-萘醌二疊氮化物、2-重疊基-l-萘酚-5-磺酸反應(yīng)制備的二疊氮化物基光敏化合物。二疊氮化物基光敏化合物在LightSensitiveSystems第7章，Kosar,J;JohnWiley&Sons,NewYork,1965中有描述。用作根據(jù)本發(fā)明的正性型光致抗蝕劑樹脂層的構(gòu)成組分的這種二疊氮化物基光敏化合物(即，敏化劑)選自在正性型光致抗蝕劑樹脂組合物中通常使用的取代萘醌二疊氮化合物基敏化劑，例如，在美國專利Nos.2,797,213;3,106,465;3,148,983;3,201,329;3,785，825;和3,802,885等中有公開。上述的二疊氮化物基光敏化合物可單獨使用或者以基于約100重量份的堿溶性樹脂為約30至80重量份的量組合使用。如果使用小于約30重量份的二疊氮化物基光敏化合物，則該化合物在顯影溶液中不進(jìn)行顯影，并且表現(xiàn)為光致抗蝕劑膜的殘留比率急劇降低。相反，如果該量超過約80重量份，則成本太高，因此經(jīng)濟上不利，此外，在溶劑中的溶解性變低。通過包含例如下面的步驟，這種二疊氮化物基光敏化合物能夠控制根據(jù)本發(fā)明的正性型光致抗蝕劑樹脂膜的光敏速度控制光敏化合物的量以及控制多羥基化合物如2，3,4-三羥基二苯甲酮和醌二疊氮磺酸化合物如2-重疊-1-萘酚-5-磺酸之間的酯化。二疊氮化物基光敏化合物將堿溶性樹脂在堿性顯影水溶液中的溶解性降低至約為曝光之前的1/100。然而，在曝光之后，該化合物被轉(zhuǎn)變成可溶于堿性溶液的羧酸，由此相比于非曝光正性型光致抗蝕劑組合物，表現(xiàn)出將溶解性增加了約1000至1500倍。優(yōu)選將上述特征應(yīng)用于形成比如LCD、有機ELD等之類的器件用的微電路圖案中。更具體而言，涂敷在硅晶片或玻璃襯底上的光致抗蝕劑經(jīng)受穿過電路形式的半導(dǎo)體掩模的UV輻照，然后，使用顯影溶液處理，從而將所需的電路圖案留在硅晶片或玻璃襯底上。靈敏度提高劑可以用于改善正性型光致抗蝕劑樹脂膜的靈敏度。靈敏度提高劑包含含有約2至7個酚式羥基并且具有相對于聚苯乙烯為小于約1,000的重均分子量的多羥基化合物。優(yōu)選實例為選自2,3,4-三羥基二苯甲酮、2,3,4,4-四羥基二苯甲酮或l-[l-(4-羥基苯基)異丙基]-4-[l，l-二(4-羥基苯基)乙基]苯中的至少一種?；诩s100重量份的堿溶性樹脂，用作靈敏度提高劑的多羥基化合物優(yōu)選以約3至15重量份的量使用。如果使用小于約3重量份的多羥基化合物，則它表現(xiàn)出的無顯著的光敏效果并且表現(xiàn)出令人不滿意的分辨率和靈敏度。當(dāng)該量超過約15重量份時，它表現(xiàn)出高的靈敏度，但是窗口處理余量(windowprocessingmargin)窄。在本發(fā)明的一個實施方案中，正性型光致抗蝕劑樹脂層20包含高沸點溶劑(第一溶劑)，所述的高沸點溶劑具有足夠高沸點，以使可以通過加熱從組合物中將第二溶劑(低沸點溶劑)除去，而將第一溶劑基本上留在組合物中。第一溶劑和第二溶劑之間的沸點差不低于30°C，更優(yōu)選不低于5(TC。第一溶劑和第二溶劑選自由乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇單乙基醚乙酸酯、二甘醇單乙基醚乙酸酯及丙二醇單乙基醚乙酸酯、丙酮、甲基乙基酮、乙醇、甲醇、丙醇、異丙醇、苯、甲苯、環(huán)戊酮、環(huán)己酮、乙二醇、二甲苯、乙二醇單乙基醚和二甘醇單乙基醚組成的組中的至少一種。第一溶劑和第二溶劑選自由乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇單乙基醚乙酸酯、二甘醇單乙基醚乙酸酯及丙二醇單乙基醚乙酸酯、丙酮、甲基乙基酮、乙醇、甲醇、丙醇、異丙醇、苯、甲苯、環(huán)戊酮、環(huán)己酮、乙二醇、二甲苯、乙二醇單乙基醚和二甘醇單乙基醚組成的組中的至少一種。然而，第一溶劑(高沸點溶劑)沒有限制，可以使用任意合適的溶劑或溶劑的混合物。這種高沸點溶劑在正性型光致抗蝕劑樹脂層起著增塑劑的作用，從而降低了脆性，所述脆性是正性型光致抗蝕劑樹脂膜固有的物理性質(zhì)之一，由此改善了膜的形成以及在進(jìn)一步處理中的層疊性質(zhì)。當(dāng)將正性型光致抗蝕劑樹脂膜層疊在玻璃襯底上，將支持膜從樹脂膜中釋放并且將釋放的光致抗蝕劑樹脂進(jìn)行烘焙處理時，高沸點溶劑在蒸發(fā)的同時，增強了對襯底的粘附。第一溶劑(高沸點溶劑)溶劑具有不低于IO(TC的沸點，并且第二溶劑具有低于IO(TC的沸點。第一溶劑的優(yōu)選實例為選自由甲苯、乙酸丁酯、環(huán)戊酮、乙二醇單乙基醚、二甲苯、環(huán)己酮、乙二醇、二甘醇單乙基醚、乙二醇單乙基醚乙酸酯、二甘醇單乙基醚乙酸酯和丙二醇單乙基醚乙酸酯組成的組中的至少一種。然而，高沸點溶劑沒有限制，可以使用任意合適的溶劑或溶劑的混合基于100重量份的堿溶性樹脂，高沸點溶劑的含量優(yōu)選在約30至120重量份的范圍。高沸點溶劑的另一優(yōu)選范圍為基于100重量份的堿溶性樹脂的約50至100重量份。如果使用低于約30重量份的高沸點溶劑，則光致抗蝕劑樹脂層可能在膜形成和層疊性質(zhì)上改善較小。如果該含量超過約120重量份，則光致抗蝕劑樹脂層變得太粘又太差。通過加入低沸點溶劑，部分地，可以認(rèn)為正性型光致抗蝕劑樹脂組合物不同于正性型光致抗蝕劑樹脂層。用于形成正性型光致抗蝕劑樹脂組合物的低沸點溶劑可以以恒定速度蒸發(fā)，以在蒸發(fā)之后形成均勻且柔軟的涂布膜，并且優(yōu)選包含至少一種沸點低于約100。C的酮溶劑。然而，用于本發(fā)明中的低沸點溶劑沒有特別的限制，并且可以進(jìn)一步包含例如丙酮、甲醇、乙酸乙酯、甲基乙基酮、苯和異丙醇中的單獨的至少一種或包含任意相對比的上述溶劑的混合物。可以注意到，選擇溶劑時，根據(jù)相對沸點溫度，一些溶劑可以被用作低沸點溶劑或高沸點溶劑。將低沸點溶劑用來均勻地混合光致抗蝕劑樹脂組合物的各種組分，并且用來將組合物的粘度控制為足以被容易地涂敷到支持膜上?；?00重量份的堿溶性樹脂，低沸點溶劑優(yōu)選以約150至400重量份的范圍使用。低沸點溶劑的備選優(yōu)選范圍是基于100重量份的堿溶性樹脂為約200至300重量份。此外，除上述組分外，本發(fā)明的正性型光致抗蝕劑樹脂層還可以進(jìn)--步包括釋放劑，以提高層疊之后支持膜的釋放性質(zhì)。釋放劑的優(yōu)選實例是硅樹脂、氟樹脂、烯烴樹脂、蠟等。這些中，尤其優(yōu)選粘度在約1,000至10,000cps的范圍的氟樹脂。基于100重量份的堿溶性樹脂，釋放劑的含量優(yōu)選在約0.5至4重量份的范圍。當(dāng)支持膜IO是取向聚丙烯(OPP)膜時，不將釋放劑加入正性型光致抗蝕劑樹脂層中，原因是取向聚丙烯(OPP)膜由于其疏水性質(zhì)而具有優(yōu)異的釋放性質(zhì)。但是，支持膜IO為聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜時，將釋放劑加入正性型光致抗蝕劑樹脂層中，原因是聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜由于其親水性而具有差的釋放性質(zhì)。除上述構(gòu)成組成之外，當(dāng)然，根據(jù)本發(fā)明的正性型光致抗蝕劑樹脂層中可以包含通常已知的組分比如其它添加劑，這些添加劑包括在常規(guī)光致抗蝕劑樹脂組合物中使用的勻化劑、染料、顏料、表面活性劑、填料等。根據(jù)本發(fā)明，正性型光致抗蝕劑樹脂層lb是通過這樣制備的將含有均為上面所述的堿溶性樹脂、二疊氮化物基光敏化合物和靈敏度提高劑與恒定量的包括高沸點溶劑和低沸點溶劑的溶劑進(jìn)行混合，并且將混合物涂敷至支持膜10上，形成約5至100pm的厚度。在支持膜上形成正性型光致抗蝕劑樹脂層的方法包括使用輥、輥涂布機、照相凹版、邁耶棒、噴霧器等，通過通常已知的涂布方法，用本發(fā)明的組合物和一種或多種溶劑涂布支持膜；以及將涂布膜干燥，以使溶劑揮發(fā)。必要時，可以通過加熱和固化處理涂敷的組合物。正性型光致抗蝕劑樹脂膜通常通過層疊粘附到襯底表面，以及在釋放支持膜之前迸行光輻照，之后釋放支持膜。否則，在層疊正性型樹脂膜并且釋放支持膜之后，可以將正性型光致抗蝕劑樹脂膜進(jìn)行光輻照。然而，輻照可以在除去支持膜之前或之后進(jìn)行。而且，所制備的正性型光致抗蝕劑樹脂膜可以進(jìn)一步包含形成在正性型光致抗蝕劑樹脂層頂上的保護(hù)層。這種保護(hù)層用來阻礙空氣的滲透，并且保護(hù)正性型光致抗蝕劑樹脂層免受雜質(zhì)或污染物的傷害，并且優(yōu)選為聚乙烯膜、聚對苯二甲酸乙二醇酯膜、聚丙烯膜等。保護(hù)層優(yōu)選具有約15至30i^m的范圍的厚度。圖6所示為根據(jù)本發(fā)明使用4個掩模制備的液晶顯示器用陣列襯底的橫截面結(jié)構(gòu)。首先，通過第一掩模處理，將柵極電極12形成在下部襯底IO上，并且將柵極絕緣膜14、由無定形硅制備的活性層16、由雜質(zhì)無定形硅構(gòu)成的歐姆層18和金屬層順序?qū)盈B。接著，將使用衍射和部分曝光的第一掩模處理應(yīng)用于形成源極電極20a和漏極電極20b的區(qū)域A。隨后，進(jìn)行干蝕刻，以形成活性層16、歐姆層18、源極電極20a和漏極電極20b，由此產(chǎn)生薄膜晶體管T。將絕緣層23沉積在其上，然后，進(jìn)行第三掩模處理，以在漏極電極20b的頂部上形成接觸孔。然后，將透明導(dǎo)電金屬沉積在其上，再進(jìn)行第四掩模處理，以形成穿過接觸孔與漏極電極20b接觸的像素電極24，從而完成陣列板。接著，在上部襯底的頂上形成濾色層和黑底(未示出)。更具體地，將共用電極層疊在上部襯底的頂上，并且與含有TFT和數(shù)據(jù)金屬線的下部襯底結(jié)合。然后，將液晶層放置在兩個襯底之間，由此完成液晶顯示器。上述的陣列襯底可以使用光致抗蝕劑膜形成。使用本發(fā)明的光致抗蝕劑樹脂膜形成圖案的方法可以包括(1)形成光致抗蝕劑樹脂膜的步驟，所述光致抗蝕劑樹脂膜是通過將光致抗蝕劑樹脂層涂敷到在玻璃襯底上的支持膜上，并且任選地將支持膜從光致抗蝕劑樹脂膜釋放而制備的；(2)用穿過掩模的UV照射輻照所制備的涂層或使用沒有經(jīng)過掩模的UV輻射直接輻照所制備的涂層，以產(chǎn)生所需的圖案的步驟；以及(3)形成抗蝕劑形成圖案的涂層的步驟，該步驟包括在支持膜沒有從光致抗蝕劑樹脂膜釋放的情況下，通過釋放支持膜之后的顯影，將在UV照射部分的正性型光致抗蝕劑樹脂涂層除去。顯影溶液的優(yōu)選實例是約2.38M的氫氧化四甲基銨(TMAH)，以用于對根據(jù)本發(fā)明的正性型光致抗蝕劑樹脂膜進(jìn)行顯影。在步驟(l)中，將正性型光致抗蝕劑樹脂膜粘附到襯底上，將光致抗蝕劑樹脂層靠近支持膜放置，由此完成正性型光致抗蝕劑樹脂涂層的形成。支持膜不需要釋放。此外，形成在襯底上的光致抗蝕劑樹脂涂層不需要干燥。因此，通過步驟(l)、(2)和(3)，形成所需的抗蝕劑形成圖案的涂層。所制備的含有在支持膜上的光致抗蝕劑樹脂層的正性型光致抗蝕劑樹脂膜解決了比如在使用常規(guī)液體光致抗蝕劑樹脂組合物時典型產(chǎn)生的組合物儲存過程中分辨率或靈敏度降低的問題，或者消除了當(dāng)將組合物涂敷到玻璃、硅或其它襯底上時常規(guī)所需的旋涂和/或干燥處理，因而本發(fā)明可以解聚干燥處理時的厚度偏差和發(fā)泡的缺陷，提高成品收率，尤其是顯著地降低處理成本。采用根據(jù)本發(fā)明的正性型光致抗蝕劑樹脂膜形成的微電路圖案表現(xiàn)出相當(dāng)于約2至7pm的高分辨率，基本上類似于或優(yōu)于常規(guī)的液體正性型光致抗蝕劑樹脂組合物的分辨率，因此，能夠用于制備微電路比如LCD、有機ELD等。然而，當(dāng)制備上述光致抗蝕劑樹脂膜時，由于所述組合物具有高的Tg(玻璃化轉(zhuǎn)變溫度)，并且抑制了層疊后支持膜的釋放，因此可能變成難于制備光致抗蝕劑樹脂膜。即，高Tg材料的粘附性可以防止支持膜的清潔釋放。在相關(guān)領(lǐng)域中，美國專利4,550,069可以提及使用了增塑劑作為對正性光致抗蝕劑的添加劑，但是這種技術(shù)用于常規(guī)的旋涂抗蝕劑，并且沒有涉及襯底背襯(backing)的干凈清潔去除的問題。在本發(fā)明中，高沸點溶劑起著增塑劑的作用。然而，可以向組合物中加入另一種增塑劑化合物，以作為對低沸點溶劑的增塑效果的輔助。這種輔助增塑劑可以優(yōu)選為鄰苯二甲酸二丁酯(DBP)、鄰苯二甲酸二辛酯(DOP)、鄰苯二甲酸二甲酯(DMP)、聚乙二醇(PEG)和硅氧烷基油中的至少一種。然而，在本發(fā)明中，可以使用任何合適的增塑劑作為對低沸點溶劑的輔助增塑劑，包括鄰苯二甲酸酯、癸二酸酯、偏苯三酸酯、乙酸酯、馬來酸酯、甲基二乙醇胺(MDEA)和環(huán)氧乙烷衍生物。這些中，尤其優(yōu)選重均分子量在1,400至4,600的范圍并且其兩端帶有環(huán)氧基團(tuán)的硅氧烷基油。基于100重量份的堿溶性樹脂，輔助增塑劑的含量可以優(yōu)選在高達(dá)約0.01至35重量份的范圍。在本發(fā)明的一個優(yōu)選實施方案中，可以包括使用本發(fā)明的光致抗蝕劑樹脂膜形成圖案的方法可以包括(I)形成光致抗蝕劑樹脂膜的步驟，所述光致抗蝕劑樹脂膜是通過將光致抗蝕劑樹脂層涂敷到在襯底上的支持膜上，并且任選地將支持膜從光致抗蝕劑樹脂膜釋放而制備的；(II)用穿過掩模的UV照射輻照所制備的涂層或使用沒有經(jīng)過掩模的UV輻射直接輻照所制備的涂層，以產(chǎn)生所需圖案的步驟；以及(m)形成抗蝕劑形成圖案的涂層的步驟，該步驟包括在支持膜沒有從光致抗蝕劑樹脂膜釋放的情況下，通過釋放支持膜之后的顯影，將在UV照射部分的正性型光致抗蝕劑樹脂涂層除去。為了將光致抗蝕劑樹脂層靠近支持膜安置，步驟(I)用于通過將正性型光致抗蝕劑樹脂膜粘附到襯底上，從而形成正性型光致抗蝕劑樹脂涂層。任選地，在步驟(II)之前或之后需要烘焙處理，以增加對襯底的粘附，以使抗蝕劑形成圖案的涂層在步驟(ni)的顯影過程中不被沖洗掉。更具體而言，在進(jìn)行步驟(II)之前，將正性型光致抗蝕劑樹脂涂層形成在襯底上，將支持膜從光致抗蝕劑樹脂膜上釋放，然后，將釋放膜進(jìn)行烘焙處理，以增強對襯底的粘附性。備選地，在進(jìn)行步驟(n)之后，將支持膜從光致抗蝕劑樹脂上釋放，并且將釋放膜進(jìn)行烘焙處理，以增強對襯底的粘附性。即，根據(jù)光致抗蝕劑膜的需要以及溶劑系統(tǒng)的復(fù)雜性和沸點差的指示，可以進(jìn)行加熱步驟的反復(fù)操作(iteration)。因此，通過步驟(i)、(n)和(ni)，形成所需的抗蝕劑形成圖案的涂層。所制備的含有在支持膜上的光致抗蝕劑樹脂層的正性型光致抗蝕劑樹脂膜解決了比如在使用常規(guī)液體光致抗蝕劑樹脂組合物時典型產(chǎn)生的組合物儲存過程中分辨率或靈敏度降低的問題，或者解決了比如厚度偏差和在干燥處理時的發(fā)泡的問題，以及提高了成品收率。附圖簡述-本發(fā)明的其它目的和方面將從參考附圖對實施方案的詳細(xì)描述中變得明顯，其中圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的正性型光致抗蝕劑樹脂膜的結(jié)構(gòu)。圖2顯示具有大反常的襯底膜。圖3顯示沒有大反常的襯底膜。圖4顯示沒有大反常的襯底膜的原子力顯微鏡(AFM)顯微照片。圖5顯示具有大反常的襯底膜的AFM顯微照片。圖6所示為說明液晶顯示器的橫截面視圖。本發(fā)明的實施方式實施例本發(fā)明的上述特征和其它優(yōu)點將從下列非限制實施例變得更加明顯。然而，應(yīng)當(dāng)理解，這些實施例是為了以實際的實施方案更完全地說明本發(fā)明，而不是為了限制本發(fā)明的范圍。實施例1制備包含如下的溶液作為堿溶性樹脂的甲酚酚醛清漆樹脂；均基于100重量份的上述堿溶性樹脂計，34重量份的作為光敏化合物的1,2-萘醌-2-二疊氮-5-磺酰氯；3.5重量份的作為靈敏度提高劑的2，3,4-三羥基二苯甲酮；165重量份的作為低沸點溶劑的甲基乙基酮；55重量份的作為高沸點溶劑的二甘醇單乙基醚乙酸酯；以及0.5重量份的作為釋放劑的氟基硅樹脂。所制備的溶液通過0.2pm的MilliporeTeflon過濾器進(jìn)行過濾，以除去不溶性材料。以5pm厚度將所得溶液涂敷到聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)支持膜(19pm厚)上，以形成光致抗蝕劑樹脂層，由此制備出正性型光致抗蝕劑樹脂膜。接著，在110。C并且在70psi的加熱輥壓力下，以2m/min的層疊速度，將所得正性型光致抗蝕劑樹脂膜粘附到玻璃襯底上，以使正性型光致抗蝕劑樹脂層位于玻璃襯底的表面上。將聚合物支持膜從粘附到玻璃襯底表面的光致抗蝕劑樹脂膜上釋放，使正性型光致抗蝕劑樹脂層在100°C的熱板上烘焙120秒，使用光掩模暴露于UV輻射-，在2.38%氫氧化四甲基銨(TMAH)堿性顯影劑中進(jìn)行120秒的顯影，洗滌并干燥30秒，以除去在正性型光致抗蝕劑樹脂層中的曝光部分，從而形成微圖案。根據(jù)下列方法評價所形成圖案的物理性質(zhì)，并且結(jié)果示出在表1中。實施例2制備包含如下的溶液作為堿溶性樹脂的甲酚酚醛清漆樹脂；均基于100重量份的上述堿溶性樹脂計，34重量份的作為光敏化合物的1,2-萘醌-2-二疊氮-5-磺酰氯；3.5重量份的作為靈敏度提高劑的2,2',4,4'-四羥基二苯甲酮；165重量份的作為低沸點溶劑的甲基乙基酮；55重量份的作為高沸點溶劑的二甘醇單乙基醚乙酸酯；以及0.5重量份的作為釋放劑的氟基硅樹脂。所制備的溶液通過0.2pm的MilliporeTeflon過濾器進(jìn)行過濾，以除去不溶性材料。以5pm厚度將所得溶液涂敷到聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)支持膜(19pm厚)上，以形成光致抗蝕劑樹脂層lb，由此制備出正性型光致抗蝕劑樹脂膜。接著，在110。C并且在70psi的加熱輥壓力下，以2m/min的層疊速度，將所得正性型光致抗蝕劑樹脂膜粘附到玻璃襯底上，以使正性型光致抗蝕劑樹脂層位于玻璃襯底的表面上。將聚合物支持膜從粘附到玻璃襯底表面的光致抗蝕劑樹脂膜上釋放，使正性型光致抗蝕劑樹脂層在100。C的熱板上烘焙120秒，使用光掩模暴露于UV輻射，在2.38。/。TMAH堿性顯影劑中進(jìn)行120秒的顯影，洗滌并干燥30秒，以除去在正性型光致抗蝕劑樹脂層中的曝光部分，從而形成微圖案。根據(jù)下列方法評價所形成圖案的物理性質(zhì)，并且結(jié)果示出在表1中。實施例3制備包含如下的溶液作為堿溶性樹脂的甲酚酚醛清漆樹脂；均基于100重量份的上述堿溶性樹脂計，34重量份的作為光敏化合物的1,2-萘醌-2-二疊氮-4-磺酰氯；3.5重量份的作為靈敏度提高劑的l-[l(4-羥基苯基)異丙基]-4-[1,1-二(4-羥基苯基)乙基]苯；165重量份的作為低沸點溶劑的甲基乙基酮；55重量份的作為高沸點溶劑的二甘醇單乙基醚乙酸酯；以及0.5重量份的作為釋放劑的氟基硅樹脂。所制備的溶液通過D.2pm的MilliporeTeflon過濾器進(jìn)行過濾，以除去不溶性材料。以5pm厚度將所得溶液涂敷到聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)支持膜(191im厚)上，以形成光致抗蝕劑樹脂層，由此制備出正性型光致抗蝕劑樹脂膜。接著，在110。C并且在70psi的加熱輥壓力下，以2m/min的層疊速度，將所得正性型光致抗蝕劑樹脂膜粘附到玻璃襯底上，以使正性型光致抗蝕劑樹脂層位于玻璃襯底的表面上。將聚合物支持膜從粘附到玻璃襯底表面的光致抗蝕劑樹脂膜上釋放，使正性型光致抗蝕劑樹脂層在100。C的熱板上烘焙120秒，使用光掩模暴露于UV輻射，在2.38n/。TMAH堿性顯影劑中進(jìn)行120秒的顯影，洗滌并干燥30秒，以除去在正性型光致抗蝕劑樹脂層中的曝光部分，從而形成微圖案。實施例4如實施例1的方式制備正性型光致抗蝕劑膜，不同之處在于支持膜是厚度為30|am的取向聚丙烯(OPP)膜，并且沒有向溶液中加入釋放劑。實施例5如實施例2的方式制備正性型光致抗蝕劑膜，不同之處在于支持膜是厚度為30pm的取向聚丙烯(OPP)膜，并且沒有向溶液中加入釋放劑。實施例6如實施例3的方式制備正性型光致抗蝕劑膜，不同之處在于支持膜是厚度為30pm的取向聚丙烯(OPP)膜，并且沒有向溶液中加入釋放劑。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage23</column></row><table>(PET物理性質(zhì)表示在實施例1至3中使用的PET的物理性質(zhì)，OPP物理性質(zhì)表示在實施例4至6中使用的OPP的物理性質(zhì))表2在實施例1至3中使用的PET支持膜的MHt和Rp的測量結(jié)果<table>tableseeoriginaldocumentpage24</column></row><table>表3在實施例46中使用的BOPP支持膜的MHt和Rp的測量結(jié)果。<table>tableseeoriginaldocumentpage25</column></row><table>在表23中，Rp-v是位于所選擇區(qū)域的高度剖面圖(z軸的方向)中的最大峰高和最小谷高之間的距離。Rms近似是具有8個數(shù)的數(shù)據(jù)相對于表面平均高度(MHt)的標(biāo)準(zhǔn)偏差，而Ave近似是具有8個數(shù)的數(shù)據(jù)相對于表面平均高度(MHt)的平均偏差。谷(Rv)是位于所選擇區(qū)域的高度剖面圖(z軸的方向)中的最小谷高度和表面平均高度(MHt)之間的距離。Rp和MHt的定義已經(jīng)描述。比較例1通過將18.23重量％的作為堿溶性樹脂的甲酚酚醛清漆樹脂、6.17重量％的含1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸多羥基二苯甲酮酯的光敏化合物、74.19重量％的作為溶劑的丙二醇單乙基醚乙酸酯以及1.0重量％的作為靈敏度提高劑的2,2',4，4'-四羥基二苯甲酮混合，并且將0.41重量％的染料加入混合物中；并且將所得混合物攪拌2小時，從而制備形成光致抗蝕劑樹脂層的溶液。利用旋涂，將所制備的光致抗蝕劑樹脂組合物以1.5)im的厚度涂敷到大小為10cmx10cm的玻璃襯底。將涂布的襯底使用光掩模曝光于UV輻射，在2.38%TMAH的堿性顯影劑中進(jìn)行120秒的顯影，洗滌，并且干燥30秒，從而形成微圖案。根據(jù)下列方式評價所形成圖案的物理性質(zhì)，并且結(jié)果示出在表4中。物理性質(zhì)的評價在本發(fā)明中使用的支持膜的物理性質(zhì)根據(jù)下列方法評價。[熔點]使用示差掃描量熱計對樣品和惰性參考材料應(yīng)用相同的溫度程序，通過熱流動差測量所制備膜的熔點。[突出的高度]對所制備膜使用AFM，利用微探針進(jìn)行原子間斥力的分析三次，由此計算最高表面點和最低表面點的平均值，并且測定膜的表面粗糙度。[膜的釋放性質(zhì)]在110°C的溫度、10至卯psi的加熱輥壓力下，以2m/min的層壓速度將所制備的正性型光致抗蝕劑干膜層疊到涂布有ITO的玻璃襯底上至2000A的深度并且100xl00mn^的寬度之后，將支持膜從光致抗蝕劑層上剝離。使用UTM(UniversalTestMachine;InstronInc.)評價該干膜的釋放性質(zhì)，通過UTM測定在釋放過程中的膜的剝離強度。[靈敏度]在用變化的光量曝光層疊襯底之后，使用2.38質(zhì)量y。TMAH溶液于常溫將膜顯影60秒，洗滌30秒，然后干燥。使用光學(xué)顯微鏡測量所得膜的曝光量。'[耐熱性]在通過評價靈敏度的相同方式形成抗蝕劑圖案之后，將抗蝕劑圖案放置在150。C的熱板上，并且進(jìn)行2分鐘的加熱。在采用用于觀察抗蝕劑圖案表面的步驟(a-step)的同時，使用掃描電子顯微鏡(SEM)觀察抗蝕劑圖案的橫截面?？刮g劑圖案的狀態(tài)如下評價當(dāng)加熱后，在抗蝕劑圖案的形狀和表面上的變化相對于該圖案的厚度為不大于3%時，評價為"良好"；當(dāng)變化的范圍在3至5%時評價為"一般"；并且變化大于10%時，評價為"差"。[分辨率]在110。C的溫度并且在10至90psi的加熱輥壓力下，以2.0m/min的層壓速度，將所制備膜層疊到襯底上之后，將該層疊膜使用掩模進(jìn)行UV輻照，并且將作為支持膜的PET膜剝離。隨后，使用2.38%TMAH堿顯影劑，對處理膜顯影，由此產(chǎn)生具有未曝光區(qū)域的微電路。使用掃描電子顯微鏡觀察所得微電路的分辨率。[膜形成]將樹脂組合物涂敷到支持膜之后，對膜的形成進(jìn)行可見觀察和評價。表4靈敏度(mJ/cm3)分辨率膜形成膜釋放性(Kg謂xlOOmm2)實施例165.14.5o0.0686實施例263.25.2o0.0692實施例361.54.8〇0.0729實施例464.04.3o0.0547實施例562.75,2〇0.0561實施例660.84.7o0.0564比較例145.54.1XX相比于常規(guī)的液體光致抗蝕劑樹脂組合物的使用，本發(fā)明在比如LCD、有機ELD等的器件中使用的襯底上形成微電路圖案時表現(xiàn)出等于或優(yōu)于常規(guī)組合物物理性質(zhì)的物理性質(zhì)，比如光敏速度、顯影對比度、分辨率、對襯底的粘附性、膜殘留比率、電路線寬均勻性(CD均勻性)等。本發(fā)明可以消除使用常規(guī)液體光致抗蝕劑樹脂組合物形成微電路圖案時需要的旋涂處理和干燥處理。因此，本發(fā)明可以解決上述方法的典型問題，比如厚度偏差、差的平滑性、變形、凝結(jié)、干燥時發(fā)泡以及溶劑引出等，尤其是由于不需要旋涂和干燥處理，因此可以簡化制備方法，由此提高了可加工性和經(jīng)濟效益，以及將光致抗蝕劑樹脂組合物的損耗降低到最低水平。應(yīng)當(dāng)理解，本文所所示的上述描述和具體實施方案都只是對本發(fā)明的最佳方式及其原理的說明，并且在不背離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以容易的進(jìn)行改進(jìn)和添加，因此應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明只受后附權(quán)利要求的范圍的限制。權(quán)利要求1.一種用于制備顯示器用陣列的方法，所述方法包括將在支持膜上具有正性光致抗蝕劑樹脂層的正性干膜抗蝕劑粘附到襯底上，使得光致抗蝕劑樹脂層粘附在所述襯底的表面上；將所述支持膜從粘附到所述襯底表面的光致抗蝕劑樹脂層上釋放；將所述層曝光；以及將在所述正性型光致抗蝕劑樹脂層中的曝光區(qū)域顯影并除去。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，該方法還包括烘焙所述正性型光致抗蝕劑樹脂層，所述烘焙在將所述層曝光的步驟之前或之后進(jìn)行。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中在將所述光致抗蝕劑樹脂膜曝光之后，將所述聚合物支持膜從所述光致抗蝕劑樹脂膜上釋放，并且將所述光致抗蝕劑樹脂層進(jìn)行烘焙處理。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述正性光致抗蝕劑樹脂層是由組合物形成的，所述組合物包含熱固性樹脂；正性光敏化合物；和第一溶劑，其具有足夠高的沸點，以使通過加熱可以將第二溶劑從所述組合物中除去，同時將第一溶劑基本上留在所述組合物中。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中第一溶劑和第二溶劑之間的沸點差為不低于3CTC。6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中第一溶劑和第二溶劑之間的沸點差為不低于50°C。7.根據(jù)權(quán)利要求46所述的方法，其中第一溶劑和第二溶劑是選自由乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇單乙基醚乙酸酯、二甘醇單乙基醚乙酸酯和丙二醇單乙基醚乙酸酯、丙酮、甲基乙基酮、乙醇、甲醇、丙醇、異丙醇、苯、甲苯、環(huán)戊酮、環(huán)己酮、乙二醇、二甲苯、乙二醇單乙基醚和二甘醇單乙基醚組成的組中的至少一種。8.根據(jù)權(quán)利要求46所述的方法，其中第一溶劑具有不低于IO(TC的沸點，并且第二溶劑具有低于IO(TC的沸點。9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中第一溶劑是選自由-甲苯、乙酸丁酯、環(huán)戊酮、乙二醇單乙基醚、二甲苯、環(huán)己酮、乙二醇、二甘醇單乙基醚、乙二醇單乙基醚乙酸酯、二甘醇單乙基醚乙酸酯和丙二醇單乙基醚乙酸酯組成的組中的至少一種，并且第二溶劑是選自由丙酮、甲醇、乙酸乙酯、甲基乙基酮、苯和異丙醇組成的組中的至少一種。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中基于100重量份的所述堿溶性樹脂，所述光致抗蝕劑樹脂層包含約30至80重量份的二疊氮化物基化合物、約3至15重量份的靈敏度化合物和約30至120重量份的所述溶劑。11.根據(jù)權(quán)利要求IO所述的方法，其中所述堿溶性樹脂是酚醛清漆樹脂。12.根據(jù)權(quán)利要求IO所述的方法，其中所述二疊氮化物基光敏化合物是選自由1,2-苯醌二疊氮-4-磺酰氯、1,2-萘醌二疊氮-4-磺酰氯和1,2-萘醌二疊氮-5-磺酰氯組成的組中的至少一種。13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中所述靈敏度提高劑是由2,3,4-三羥基二苯甲酮、2,2',4，4'-四羥基二苯甲酮和(1-[1-(4-羥基苯基)異丙基]-4-[l,l-二(4-羥基苯基)乙基]苯)組成的組中的至少一種。14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中所述正性型光致抗蝕劑樹脂層還包含釋放劑。15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中基于100重量份的所述堿溶性樹脂，所述正性型光致抗蝕劑樹脂層包含約0.5至4重量份的所述釋放劑。16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中所述釋放劑是氟基硅氧垸。17.—種顯示器用陣列，其包含多根信號線和掃描線，它們排列在透明襯底上的格子內(nèi)，并且每一個所述格子都與薄膜晶體管連接，所述顯示器通過包括如下步驟的方法形成:將在支持膜上具有正性光致抗蝕劑樹脂層的正性干膜抗蝕劑粘附到襯底上，使得光致抗蝕劑樹脂層粘附在所述襯底的表面上；將所述支持膜從粘附到所述襯底表面的光致抗蝕劑樹脂層上釋放；將所述層曝光；以及將在所述正性型光致抗蝕劑樹脂層中的曝光區(qū)域顯影并除去。18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的陣列，所述方法還包括烘焙所述正性型光致抗蝕劑樹脂層，所述烘焙在將所述層曝光的步驟-之前或之后進(jìn)行。19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的陣列，其中在將所述光致抗蝕劑樹脂膜曝光之后，將所述聚合物支持膜從所述光致抗蝕劑樹脂膜上釋放，并且將所述光致抗蝕劑樹脂層進(jìn)行烘焙處理。全文摘要一種顯示器用陣列通過如下步驟形成將在支持膜上具有正性光致抗蝕劑樹脂層的正性干膜抗蝕劑粘附到襯底上，使得光致抗蝕劑樹脂層粘附在所述襯底的表面上。然后，將所述支持膜從粘附到所述襯底表面的光致抗蝕劑樹脂層上釋放；將所述層曝光；以及將在所述正性型光致抗蝕劑樹脂層中的曝光區(qū)域顯影并除去。文檔編號G02F1/136GK101111798SQ200680003671公開日2008年1月23日申請日期2006年2月1日優(yōu)先權(quán)日2005年2月2日發(fā)明者卞達(dá)錫,宋錫政,樸世炯,樸鐘旼,金炳基申請人:可隆株式會社