專利名稱：防反射硬膜薄膜、光學元件和圖像顯示裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及在透明塑料薄膜(film)基材的至少一個面依次至少設置了硬膜(hard coat)層、防反射層的防反射硬膜薄膜。進而，本發(fā)明還涉及使用了該防反射硬膜薄膜的偏振片等光學元件。本發(fā)明的防反射硬膜薄膜、光學元件可以適合地用于圖像顯示裝置，特別是CRT、液晶顯示器(LCD)、等離子體顯示器(PDP)和EL顯示器(ELD)等。

背景技術：
作為各種圖像顯示裝置之一，有LCD，但伴隨著與LCD的高視場角化、高精細化、高速應答性、顏色再現(xiàn)性等有關的技術革新，利用LCD的應用也正在從筆記本型個人電腦或監(jiān)視器向電視變化。LCD的基本構成是，在兩個具備透明電極的平板狀玻璃之間，通過隔板設置一定間隔的縫隙，向其中注入液晶材料，密封，在平板狀玻璃的表背面上貼附偏振片。因為偏振片容易受損，所以以前是在LCD表面上安裝由玻璃或塑料構成的蓋板，防止損傷在LCD表面上貼附的偏振片。但是，當安裝蓋板時，在成本和重量方面是不利的，接著開始使用對表面實施了硬膜處理的偏振片。硬膜處理通常是通過在偏振片表面設置將硬膜層設置于透明塑料薄膜基材上而成的硬膜薄膜來進行的。
進而，在將硬膜薄膜貼附于各種圖像顯示裝置時，在顯示器表面、即偏振片表面的光反射導致顯示器的辨識性降低。所以，要求硬膜薄膜的進一步的辨識性提高。特別是衛(wèi)星導航系統(tǒng)用監(jiān)視器、視頻攝像機用監(jiān)視器、手機、PHS等室外使用頻率高的各種便攜式信息終端，其由表面反射而導致的辨識性降低比較明顯。因此通常對偏振片進行防反射處理。特別是在裝載于所述便攜式信息終端設備的偏振片中，防反射處理是必不可少的。
防反射處理可以如下進行設計，即，通常利用真空蒸鍍法、濺射法、CVD法等干式方式、或利用使用有掩?；虬及遢佂糠髾C的濕式方式，制作由折射率不同的材料構成的多個薄膜的多層層疊體或由低折射率材料構成的單層層疊體，以盡可能減少可見光區(qū)域的反射。通常情況下，從工序簡單即可進行制造、或可以實現(xiàn)低成本化方面考慮，工業(yè)上通常使用單層構成的防反射層(低折射率層)。
但是，防反射硬膜薄膜中的防反射層通常由0.1～0.5μm的薄膜構成，由于層間的粘附性弱，因此與硬膜層的界面容易發(fā)生損壞，難以滿足膜強度或耐藥品性等耐久性。
通過將LCD的應用移行至家庭用電視機，一般的家庭用電視機的使用者可以容易地想到即使是使用了LCD的電視機，也進行與利用以往的玻璃制的CRT的電視機同樣的操作。為此，要求防反射硬膜薄膜的進一步的硬度提高、膜強度、耐藥品性的改善。
作為用于提高上述膜強度、耐藥品性的方法，提出利用電暈放電處理等各種表面改性處理提高硬膜層和防反射層的層疊界面的粘附性的方法(專利文獻1)。雖然通過這些改性可以看出涂敷防反射層后的膜強度、耐藥品性的改善，但在硬膜層容易發(fā)生處理不均，在其上涂敷防反射層時，容易發(fā)生涂敷不均，在防反射特性方面有問題。
另外，提出通過以含有反應性有機硅化合物的電離放射線固化性樹脂為主體形成防反射硬膜薄膜的高折射率硬膜層，防反射層相對于高折射率硬膜層具有優(yōu)良的粘附性的防反射硬膜薄膜(專利文獻2)。但是，在專利文獻2中，由于反應性有機硅化合物占硬膜層樹脂成分的10～100重量％，因此，難以同時滿足粘附性和硬度。
專利文獻1特開平9-222503號公報
專利文獻2特開平9-226062號公報

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于，提供一種防反射硬膜薄膜，其是在透明塑料薄膜基材的至少一個面依次分別形成至少一層硬膜層、防反射層的防反射硬膜薄膜，硬膜層與防反射層的粘附性良好，具有高硬度、不影響防反射特性、具有良好的耐擦傷性。
另外，本發(fā)明的目的還在于，提供一種使用防反射硬膜薄膜的光學元件，進而提供一種具有上述薄膜或光學元件的圖像顯示裝置。
本發(fā)明人等為了解決上述問題，進行了潛心研究。結果發(fā)現(xiàn)，可以通過采用下述硬膜薄膜等達成上述目的，以至完成了本發(fā)明。
即，本發(fā)明涉及一種防反射硬膜薄膜，其是在透明塑料薄膜基材的至少一個面依次分別形成至少一層硬膜層、防反射層的防反射硬膜薄膜，其特征在于，在形成硬膜層和防反射層直接接觸的界面的層中，硬膜層形成材料含有具有(甲基)丙烯酸酯基的固化性化合物(A)、相對于固化性化合物(A)100重量份為0.01～3重量份的具有(甲基)丙烯酸酯基的反應性硅酮(B)，而且所述防反射層形成材料含有具有硅氧烷成分的化合物。
上述本發(fā)明通過使用具有(甲基)丙烯酸酯基的固化性化合物(A)作為硬膜層形成材料，可以向硬膜層賦予硬度。而且賦予彈性和撓性(屈曲性)。另外，相對于所述固化性化合物(A)，使其含有具有(甲基)丙烯酸酯基的反應性硅酮(B)，由于設定其比例相對于固化性化合物(A)為所述規(guī)定量的低比例，因此不影響硬膜層的硬度。另一方面，防反射層中含有硅氧烷成分。這樣，可以提高硬膜層和防反射層界面的粘附性，其結果，可以防止防反射層在與硬膜層的界面剝落。根據(jù)這樣的本發(fā)明，由于即使不對硬膜層表面進行電暈處理等表面改性處理等，也可以提高與防反射層的粘附性，因此，硬膜層可以沒有涂敷不均地進行設置，不影響防反射層的防反射特性。另外，由于硬膜層含有規(guī)定量的反應性硅酮(B)，且防反射層含有硅氧烷成分，因此，其耐擦傷性優(yōu)良。進而，防反射層的耐藥品性也優(yōu)良。
在上述防反射硬膜薄膜中，就反應性硅酮(B)而言，可以使用一分子中具有具有硅氧烷結構的硅酮部分、且具有(甲基)丙烯酸酯基的反應性硅酮。
在上述防反射硬膜薄膜中，作為硅氧烷結構，優(yōu)選具有含-(Si(R1)(R2)-O)-重復單元的聚硅氧烷單元(所述R1、R2為碳原子數(shù)為1～6的烷基或苯基)的硅氧烷結構。
在上述防反射硬膜薄膜中，作為聚硅氧烷單元，優(yōu)選具有通式(1)所示的二甲基硅氧烷單元的聚硅氧烷單元。
[化11]
在上述防反射硬膜薄膜中，優(yōu)選反應性硅酮(B)具有活性氫基。反應性硅酮(B)在具有(甲基)丙烯酸酯基的基礎上具有活性氫基時，可以進一步提高硬膜層和防反射層界面的粘附性。而且，從防反射特性、耐擦傷性、耐藥品性方面來看優(yōu)選。優(yōu)選上述活性氫基為羥基。
在上述防反射硬膜薄膜中，作為反應性硅酮(B)，可以例示具有通式(2)所示的甲基，3-丙烯?；?2-羥基丙基硅氧烷單元及/或通式(3)所示的甲基，2-丙烯?；?3-羥基丙基硅氧烷單元的反應性硅酮。
[化12]
[化13]
在上述防反射硬膜薄膜中，作為反應性硅酮(B)，可以例示具有通式(4)所示的甲基，末端丙烯酸酯基的聚乙二醇丙基醚單元(x為1～10的整數(shù))及通式(5)所示的甲基，末端羥基的聚乙二醇丙基醚單元(x為1～10的整數(shù))的反應性硅酮。
[化14]
[化15]
在上述防反射硬膜薄膜中，作為反應性硅酮(B)，可以例示通式(6)所示的(至少一個R具有選自具有硅氧烷結構的取代基、具有(甲基)丙烯酸酯基的取代基及具有活性氫基的取代基中的至少一個取代基)化合物的混合物(在該混合物中，R包括具有硅氧烷結構的取代基、具有(甲基)丙烯酸酯基的取代基及具有活性氫基的取代基)。
[化16]
優(yōu)選所述通式(6)所示的化合物具有通式(7)所示的結構。
[化17]
在所述通式(6)所示的化合物中的R中，優(yōu)選具有硅氧烷結構的取代基具有通式(8)所示的單元(x1為1～7)。
[化18]
在所述通式(6)所示的化合物中的R中，優(yōu)選具有活性氫基的取代基具有通式(9)所示的單元。
[化19]
在所述通式(6)所示的化合物中的R中，優(yōu)選具有丙烯酸酯基的取代基具有通式(10)所示的單元(m、n可以相同也可以不同，為1～10的整數(shù)。1為1～5)。
[化20]
在上述防反射硬膜薄膜中，優(yōu)選將硬膜層的厚度控制成2～50μm。
在上述防反射硬膜薄膜中，防反射層形成材料優(yōu)選含有利用乙二醇換算得到的平均分子量為500～10000的硅氧烷低聚物(C)；及利用聚苯乙烯換算得到的數(shù)平均分子量為5000以上、具有氟代烷基結構及聚硅氧烷結構的含氟化合物(D)。
在上述防反射硬膜薄膜中，優(yōu)選在防反射層中含有中空且球狀的氧化硅超微粒子。
在上述防反射硬膜薄膜中，通過將硬膜層的表面形成為凹凸形狀，可以賦予光防眩性。
進而，本發(fā)明涉及一種光學元件，其特征在于，在光學元件的一面或兩面層疊有上述防反射硬膜薄膜。
進而，本發(fā)明涉及一種圖像顯示裝置，其中，具有上述防反射硬膜薄膜或上述光學元件。
本發(fā)明的防反射硬膜薄膜可以適合地用于偏振鏡、偏振片等光學元件，具有高硬度、不影響防反射特性、具有良好的耐擦傷性，可以適合地用于家庭用電視機等的LCD等圖像顯示裝置。



圖1是表示本發(fā)明的防反射硬膜薄膜的截面圖的一個例子。
圖2是表示本發(fā)明的防反射硬膜薄膜的截面圖的一個例子。
符號說明 1……透明塑料薄膜基材 2……硬膜層 3……防反射層 4……防反射硬膜薄膜 5……微粒 6……具有微細凹凸結構的防反射硬膜薄膜
具體實施例方式 關于本發(fā)明的防反射硬膜薄膜，參照附圖進行說明。如圖1所示，本發(fā)明的硬膜薄膜4在透明塑料薄膜基材1的一個面上依次具有硬膜層2、防反射層3。另外，在本發(fā)明中，如圖2所示，可以將硬膜層的表面設定為凹凸狀。圖2的防反射硬膜薄膜6是在硬膜層2中含有微粒5、并將硬膜層的表面設定為凹凸狀的硬膜薄膜，其上具有防反射層3。另外，雖然未在圖1、2中顯示，但也可以在透明塑料薄膜基材1的另一個面上進一步設置硬膜層2及/或防反射層3。另外，在圖1、圖2中，例示了硬膜層2、防反射層3是單層的情況，但它們還可以是2層以上。其中，在形成硬膜層和防反射層直接接觸界面的層中，使用本發(fā)明所述的硬膜層各種形成材料。
作為本發(fā)明的透明塑料基材薄膜，可以沒有特別限制地使用不影響透明性的材料。例如，可以舉出聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯，聚碳酸酯，聚乙烯，聚丙烯，聚苯乙烯，聚丙烯酸酯，環(huán)烯烴、三乙酰纖維素，丙烯酸系樹脂，聚氯乙烯等?？梢允褂脤λ鼈冞M行拉伸加工后的產(chǎn)物。其中，被實施拉伸加工特別是被實施雙向拉伸加工的聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜在機械強度或尺寸穩(wěn)定性方面優(yōu)良，從這一觀點出發(fā)優(yōu)選。另外，從薄膜面內(nèi)的相位差非常少的觀點出發(fā)，也優(yōu)選三乙酰纖維素。根據(jù)被應用的材料適當選擇這樣的透明塑料薄膜基材的厚度，但通常為25～500μm左右，優(yōu)選為40～200μm。透明塑料薄膜基材的折射率沒有特別限制，但通常為1.3～1.8左右，優(yōu)選為1.4～1.7μm。
硬膜層形成材料包括具有(甲基)丙烯酸酯基的固化性化合物(A)、具有(甲基)丙烯酸酯基的反應性硅酮(B)。
本發(fā)明的具有(甲基)丙烯酸酯基的固化性化合物(A)是利用熱、紫外線或電子射線固化的具有(甲基)丙烯酸酯基的化合物，例如，可以舉出硅有機樹脂、聚酯樹脂、聚醚樹脂、環(huán)氧樹脂、聚氨酯樹脂、醇酸樹脂、螺環(huán)縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、多硫醇多烯樹脂、多元醇等多官能化合物的(甲基)丙烯酸酯等的低聚物或預聚物等。(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯，在本發(fā)明中，(甲基)是相同的意思。
另外，固化性化合物(A)可以使用具有(甲基)丙烯酸酯基的反應性稀釋劑。作為反應性稀釋劑，可以舉出環(huán)氧乙烷改性苯酚的(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧丙烷改性苯酚的(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧乙烷改性壬基苯酚的(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧丙烷改性壬基苯酚的(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己基卡必醇酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸四氫糠基酯、(甲基)丙烯酸羥乙酯、(甲基)丙烯酸羥丙酯、(甲基)丙烯酸羥丁酯、(甲基)丙烯酸羥己酯、一(甲基)丙烯酸二乙二醇酯、一(甲基)丙烯酸三乙二醇酯、一(甲基)丙烯酸三丙二醇酯等單官能(甲基)丙烯酸酯；二(甲基)丙烯酸二乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸三乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸二丙二醇酯、二(甲基)丙烯酸三丙二醇酯、二(甲基)丙烯酸四丙二醇酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸1，4-丁二醇酯、二(甲基)丙烯酸新戊二醇酯、二(甲基)丙烯酸1，6-己二醇酯、環(huán)氧乙烷改性新戊二醇的二(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧乙烷改性雙酚A的二(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧丙烷改性雙酚A的二(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧乙烷改性氫化雙酚A的二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷烯丙基醚二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧乙烷改性三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧丙烷改性三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、四(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯等多官能(甲基)丙烯酸酯等。另外，作為固化性化合物(A)，可以舉出丁二醇二甘油醚二丙烯酸酯、三聚異氰酸的(甲基)丙烯酸酯等。
上述固化性化合物(A)可以是一種，還可以并用2種以上。使用反應性稀釋劑作為上述固化性化合物(A)時，優(yōu)選三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、四(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯等多官能(甲基)丙烯酸酯等3官能以上的(甲基)丙烯酸酯。這些物質(zhì)在使硬膜層的硬度更出色方面優(yōu)選。
具有(甲基)丙烯酸酯基的反應性硅酮(B)可以沒有特別限制地使用一分子中具有含硅氧烷結構的硅酮部分、且具有(甲基)丙烯酸酯基的反應性硅酮。
對硅氧烷結構沒有特別限制，可以舉出具有-(Si(R1)(R2)-O)-的重復單元的聚硅氧烷結構。硅氧烷結構通常具有這些重復的聚硅氧烷單元。所述R1、R2可以舉出碳原子數(shù)為1～6的烷基或苯基等。作為聚硅氧烷結構，可以舉出通式(1)所示的二甲基硅氧烷單元。
[化21]
另外，反應性硅酮(B)優(yōu)選具有活性氫基。作為活性氫基，可以舉出羥基、氨基、羧基等。其中，優(yōu)選羥基。另外，反應性硅酮(B)可以使用在具有(甲基)丙烯酸酯基的基礎上具有烯丙基醚基的反應性硅酮。
反應性硅酮(B)中的(甲基)丙烯酸酯基及羥基例如，可以通過將上述硅氧烷結構中的R1、R2設定為具有含上述官能團的取代基的物質(zhì)而引入。上述取代基可以分別具有含(甲基)丙烯酸酯基或羥基的取代基，也可以是一個取代基具有(甲基)丙烯酸酯基及羥基。另外，可以將這些取代基組合，將(甲基)丙烯酸酯基及羥基引入反應性硅酮(B)中。
例如，作為一個取代基具有(甲基)丙烯酸酯基及羥基的硅氧烷單元，可以例示具有通式(2)所示的甲基，3-丙烯?；?2-羥基丙基硅氧烷單元、或通式(3)所示的甲基，2-丙烯?；?3-羥基丙基硅氧烷單元。
[化22]
[化23]
例如，作為具有(甲基)丙烯酸酯基的硅氧烷單元，可以例示具有通式(4)所示的甲基，末端丙烯酸酯基的聚乙二醇丙基醚單元。通式(4)中的x為1～10的整數(shù)。
[化24]
例如，作為具有羥基的硅氧烷單元，可以例示具有通式(5)所示的甲基，末端羥基的聚乙二醇丙基醚單元。通式(5)中的x為1～10的整數(shù)。
[化25]
反應性硅酮(B)具有上述通式(1)的二甲基硅氧烷單元、和通式(2)及/或通式(3)所示的具有(甲基)丙烯酸酯基及羥基的硅氧烷單元時，通式(1)∶通式(2)及/或通式(3)的成分比例(摩爾比)通常優(yōu)選為100∶1～50，進而優(yōu)選為100∶3～30。
反應性硅酮(B)具有上述通式(1)的二甲基硅氧烷單元、和通式(4)所示的具有(甲基)丙烯酸酯基的硅氧烷單元及通式(5)所示的具有羥基的硅氧烷單元時，通式(1)∶通式(4)∶通式(5)的成分比例(摩爾比)通常優(yōu)選為100∶1～20∶0～20，進而優(yōu)選為100∶3～10∶3～10。
另外，作為反應性硅酮(B)，可以使用在引入上述硅氧烷結構、并且引入(甲基)丙烯酸酯基、進而引入了活性氫基的化合物。例如，可以使用在由二異氰酸酯化合物得到的三聚異氰酸中引入硅氧烷結構、并且引入(甲基)丙烯酸酯基、進而引入了活性氫基制成的化合物。作為該化合物，例如，可以舉出下述通式(6)所示的(其中，在通式(6)中，至少一個R具有選自具有硅氧烷結構的取代基、具有(甲基)丙烯酸酯基的取代基及具有活性氫基的取代基中的至少一個取代基)化合物的混合物(在該混合物中，R包括具有硅氧烷結構的取代基、具有(甲基)丙烯酸酯基的取代基及具有活性氫基的取代基)。
[化26]
就三聚異氰酸而言，6-異氰酸酯己基三聚異氰酸的骨架單元可以將例如通式(7)所示的結構表示為單元(b)。
[化27]
在所述R中，作為具有硅氧烷結構的取代基，例如，可以例示通式(8)所示的單元。就通式(8)而言，聚二甲基硅氧烷單元(d)和局部具有甲基、羥丙基硅氧烷單元(c)的化合物的羥基一起與作為單元(b)的一部分的6-異氰酸酯己基三聚異氰酸的末端異氰酸酯基尿烷鍵合。聚二甲基硅氧烷單元(d)中的x1為1～7。
[化28]
在所述R中，作為具有活性氫基的取代基，例如，可以例示具有通式(9)所示的單元。就通式(9)而言，作為單元(b)的一部分的6-異氰酸酯己基三聚異氰酸的末端異氰酸酯基羧基化?；蛘咂涿撎妓岢蔀榘被?。
[化29]
←(b)單元的一部分→ 在所述R中，作為具有丙烯酸酯基的取代基，例如，可以例示具有通式(10)所示的單元。就通式(10)而言，具有作為單元(b)的一部分的6-異氰酸酯己基三聚異氰酸的末端異氰酸酯基和脂肪族聚酯尿烷鍵合，進而將末端二醇被丙烯酸酯化的單元(a)。單元(a)中的m、n可以相同也可以不同，為1～10的整數(shù)。1為1～5。
[化30]
在反應性硅酮(B)為上述通式(7)～(10)所示的6-異氰酸酯己基三聚異氰酸的衍生物時，就上述單元(a)∶單元(b)∶單元(c)∶單元(d)的成分比例(摩爾比)而言，當設定單元(b)為100時，單元(a)通常為10～100，優(yōu)選為30～60；單元(c)通常為5～80，優(yōu)選為10～60；單元(d)通常為10～400，優(yōu)選為100～300。
另外，反應性硅酮(B)的各成分的比例(摩爾比)由1H-NMR譜的積分曲線求得。另外，反應性硅酮(B)的重均分子量利用GPC進行測定。重均分子量優(yōu)選為500～150000，更優(yōu)選為2000～100000。
相對于固化性化合物(A)100重量份，反應性硅酮(B)的用量為0.01～3重量份。優(yōu)選為0.05～2重量份，進一步優(yōu)選為0.1～1重量份。當反應性硅酮(B)的用量低于0.01重量份時，不能得到硬膜層和防反射層的足夠的粘附性改善效果。另外，從改善提高耐擦傷性的觀點出發(fā)，也不優(yōu)選。從耐藥品性的觀點出發(fā)，也不優(yōu)選。另一方面，當其用量超過3重量份時，硬膜層的硬度降低，從耐擦傷性的觀點出發(fā)，也不優(yōu)選。
硬膜形成材料的固化可以進行熱固化、紫外線等電離放射線固化，根據(jù)固化方法，可以使用各種聚合引發(fā)劑。固化方法使用紫外線時，可以使用現(xiàn)有公知的光聚合引發(fā)劑。例如可以例示為苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻異丙醚、N，N，N，N-四甲基-4，4’-二氨基二苯甲酮、芐基甲基縮酮等苯偶姻及其烷基醚類苯乙酮、3-甲基苯乙酮、4-氯二苯甲酮、4，4’-二甲氧基二苯甲酮、2，2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、1-羥基環(huán)己基苯酮等苯乙酮類；甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-戊基蒽醌等蒽醌類；呫噸酮；噻噸酮、2，4-二乙基噻噸酮、2，4-二異丙基噻噸酮等噻噸酮類；乙酰苯二甲基縮酮、芐基二甲基縮酮等縮酮類；二苯甲酮、4，4-雙甲基氨基二苯甲酮等二苯甲酮類；此外，還有1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮等。它們可以單獨使用，也可以作為2種以上的混合物使用。聚合引發(fā)劑的使用量，相對于硬膜形成材料的總樹脂成分{成分(A)和成分(B)的總量}100優(yōu)選為10重量份以下程度，進而優(yōu)選為1～7重量份。
硬膜形成材料中可以添加無機超微粒子。作為無機超微粒子，例如，可以舉出氧化鈦、氧化硅、氧化鋁、氧化鋅、氧化錫、氧化鋯、氧化鈣、氧化銦、氧化銻等。另外，也可以使用它們的復合物。其中，優(yōu)選氧化鈦、氧化硅(二氧化硅)、氧化鋁、氧化鋅、氧化錫、氧化鋯。這些超微粒子可以單獨使用1種，也可以并用2種以上。
無機的超微粒子的平均粒徑優(yōu)選為100nm以下。當平均粒徑超過100nm時，發(fā)生光的散射，硬膜層的透光率降低或者著色，從透明性的觀點出發(fā)不優(yōu)選。無機的超微粒子的平均粒徑優(yōu)選為50nm以下，進一步優(yōu)選為30nm以下。
無機超微粒子具有根據(jù)其配合量調(diào)節(jié)硬膜層的表觀折射率的功能。透明塑料薄膜基材的折射率和硬膜層的折射率優(yōu)選相互近似。為此，在調(diào)制硬膜層形成材料時，優(yōu)選適當調(diào)整無機超微粒子的配合量，以使上述透明塑料薄膜基材的折射率和硬膜層的折射率的差(d)減小。如果上述折射率差(d)大，已入射到硬膜薄膜的外光的反射光發(fā)生呈現(xiàn)虹彩色的色相的稱之為干涉條紋的現(xiàn)象，會使顯示質(zhì)量劣化。特別是在使用具備硬膜薄膜的圖像顯示裝置的頻率高的辦公室中，作為熒光燈，三波長熒光燈增加顯著。三波長熒光燈具有特定波長的發(fā)光強度較強且可以看清東西的特征，但在該三波長熒光燈下，可以更加顯著地顯現(xiàn)干涉條紋。
上述折射率差(d)優(yōu)選為0.04以下。更優(yōu)選為0.02以下。例如，當使用聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜作為透明塑料薄膜基材時，在實施例的硬膜形成材料中，使用氧化鈦作為無機超微粒子，通過相對于硬膜形成材料的總樹脂成分配合氧化鈦30～40％左右，可以將相對于聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜的折射率約1.64的折射率差(d)控制在0.02以下，可以抑制干涉條紋的產(chǎn)生。作為透明塑料薄膜基材，當使用三乙酰纖維素薄膜時，作為無機超微粒子使用氧化硅，通過相對于硬膜形成材料的總樹脂成分配合氧化硅約35～45％左右，可以與上述一樣將相對于三乙酰纖維素薄膜的折射率約1.48的折射率差(d)控制在0.02以下，可以抑制干涉條紋的產(chǎn)生。
另外，在硬膜形成材料中，可以添加各種流平劑。作為流平劑，優(yōu)選適當選擇使用氟系或硅酮系的流平劑。更優(yōu)選硅酮系的流平劑。作為硅酮系流平劑，可以舉出聚二甲基硅氧烷、聚醚改性聚二甲基硅氧烷、聚甲基烷基硅氧烷等。氟系或硅酮系的流平劑的配合量，相對于硬膜層形成材料的總樹脂成分100重量份優(yōu)選為5重量份以下，更優(yōu)選為0.01～5重量份的范圍。
當在硬膜形成材料的固化方法中使用紫外線時，在硬膜形成材料中配合上述流平劑，在預干燥和溶劑干燥時該流平劑滲出到空氣界面，所以可以防止氧阻礙紫外線固化性樹脂的固化，可以得到即使在最表面也具有足夠硬度的硬膜層。另外，硅酮系的流平劑通過向硬膜層的表面的滲出來賦予潤滑性，所以也可以改善耐擦傷性。
在上述硬膜形成材料中，可以在不影響性能的范圍內(nèi)，根據(jù)需要使用顏料、填充劑、分散劑、增塑劑、紫外線吸收劑、表面活性劑、抗氧化劑、觸變劑等。這些添加劑可以單獨使用，還可以并用2種以上。
就硬膜層而言，通過在透明塑料薄膜基材的至少一面上涂敷上述硬膜形成材料隨后使其固化形成作為固化涂膜層的硬膜層，從而進行制造。硬膜形成材料可以在涂敷時作為溶解于溶劑的溶液進行涂敷。當將硬膜形成材料作為溶液進行涂敷時，在干燥后固化。
作為溶劑，可以舉出丙酮、甲基乙基甲酮、甲基異丁基甲酮、環(huán)戊酮、環(huán)己酮等酮類；醋酸乙酯、醋酸丁酯等酯類；異丙醇、乙醇等醇類；苯、甲苯、二甲苯、甲氧基苯、1，2-二甲氧基苯等芳香族烴類；苯酚、對氯苯酚等酚類；氯仿、二氯甲烷、二氯乙烷、四氯乙烷、三氯乙烯、四氯乙烯、氯苯等鹵化烴類等。這些溶劑可以單獨使用1種，也可以混合2種以上使用。溶液的固體成分濃度通常優(yōu)選為70重量％以下，更優(yōu)選為30～60％重量。
作為在透明塑料薄膜基材上涂敷上述硬膜形成材料的方法，可以使用公知的噴射(fountain)涂布、口模式涂布、旋涂、噴涂、凹版涂布、輥涂、棒涂等涂敷法。
對上述硬膜形成材料的固化方法沒有特別限制，但優(yōu)選電離放射線固化?？梢栽谠摲椒ㄖ惺褂酶鞣N活性能量，但紫外線比較合適。作為能量線源，例如優(yōu)選高壓水銀燈、鹵素燈、氙燈、金屬鹵化物燈、氮激光器、電子射線加速裝置、放射性元素等線源。就能量線源的照射量而言，作為在紫外線波長365nm處的累積曝光量，優(yōu)選50～5000mJ/cm2。當照射量不到50mJ/cm2時，固化不充分，所以有時硬膜層的硬度降低。另外，當其超過5000mJ/cm2時，硬膜層著色而透明性降低。
對通過上述硬膜形成材料的固化得到的作為固化涂膜層的硬膜層的厚度沒有特別限制，如上所述，優(yōu)選為2～50μm。硬膜層的厚度更優(yōu)選為5～30μm，進一步優(yōu)選為15～25μm。厚度如果與2μm相比過薄，硬度容易降低，如果與50μm相比過厚，有時硬膜層自身會發(fā)生裂紋，或者通過硬膜層的固化收縮引起硬膜薄膜在硬膜面卷起，實用上存在問題。
另外，硬膜層通常使用熱固化性樹脂、或紫外線固化性樹脂等電離放射線固化性樹脂，在透明塑料薄膜基材上形成2～10μm左右的較薄的涂膜而形成。但是，就上述厚度而言，硬膜層的厚度不夠充分，所以即使是具有在玻璃上涂敷時的鉛筆硬度為4H以上的特性的硬膜樹脂，受到作為基底的透明塑料薄膜基材的影響，在透明塑料薄膜基材上形成的硬膜層的表面硬度以鉛筆硬度計通常為2H以下。需要硬度為3H以上時，優(yōu)選將硬膜層的膜厚設定為15～25μm。
硬膜層的表面作成微細凹凸結構可以賦予防眩性。在表面形成微細凹凸結構的方法沒有特別限制，可以采用適當?shù)姆椒?。例如，可以舉出如下方法，即，利用將形成上述硬膜層使用的薄膜表面預先通過噴砂或浮雕輥軋、化學蝕刻等適當?shù)姆椒ㄟM行粗糙化處理，賦予薄膜表面微細凹凸結構的方法等，使形成硬膜層的材料自身的表面形成微細凹凸結構的方法。另外，可以舉出在硬膜層上另行涂敷加成硬膜層，通過利用金屬模的轉(zhuǎn)印方式等對該樹脂被膜層表面賦予微細凹凸結構的方法等。另外，可以舉出如圖2所示使硬膜層分散含有微粒賦予微細凹凸結構的方法等。對于這些形成微細凹凸結構的方法，可以使兩種以上的方法組合，形成使不同狀態(tài)的微細凹凸結構表面復合而成的層。在上述硬膜層的形成方法中，從微細凹凸結構表面的形成性等觀點出發(fā)，優(yōu)選設置分散含有微粒4的硬膜層的方法。
下面，對設置分散含有微粒4的硬膜層的方法進行說明。作為微粒4，可以沒有特別限制地使用各種金屬氧化物、玻璃、塑料等具有透明性的微粒。例如，可以舉出二氧化硅、氧化鋯、氧化鈦、氧化鈣等金屬氧化物或具有導電性的氧化鋁、氧化錫、氧化銦、氧化鎘、氧化銻等無機類導電性微粒，聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氨酯、丙烯酸-苯乙烯共聚物、苯代三聚氰二胺、三聚氰胺、聚碳酸酯等由各種聚合物構成的交聯(lián)或未交聯(lián)的有機類微?；蚬柰愇⒘５?。另外，這些微粒的形狀沒有特別限制，可以是珠狀的球形，也可以是粉末等無定形的形狀。這些微粒4可以適當選擇1種或2種以上進行使用。微粒的平均粒徑為1～30μnm、優(yōu)選2～20μnm。另外，在微粒中，為了控制折射率、賦予導電性，將金屬氧化物的超微粒子等分散、浸漬即可。微粒的比例，可以根據(jù)微粒的平均粒徑、硬膜層的厚度等適當確定，通常情況下，相對于樹脂100重量份為2～60重量份左右，進而優(yōu)選為5～40重量份。
上述防反射層形成材料含有具有硅氧烷成分的化合物。該化合物可以例舉例如水解性烷氧基硅烷。作為其實例，可以舉出四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、四丁氧基硅烷等四烷氧基硅烷；甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、丙基三甲氧基硅烷、丙基三乙氧基硅烷、丁基三甲氧基硅烷、丁基三乙氧基硅烷、戊基三甲氧基硅烷、戊基三乙氧基硅烷、庚基三甲氧基硅烷、庚基三乙氧基硅烷、辛基三甲氧基硅烷、辛基三乙氧基硅烷、十二烷基三甲氧基硅烷、十二烷基三乙氧基硅烷、十六烷基三甲氧基硅烷、十六烷基三乙氧基硅烷、十八烷基三甲氧基硅烷、十八烷基三乙氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、γ-氨丙基三甲氧基硅烷、γ-氨丙基三乙氧基硅烷、γ-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-環(huán)氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-甲基酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-甲基酰氧基丙基三乙氧基硅烷等三烷氧基硅烷；二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷等二烷氧基硅烷等。其中，從提高固化膜的耐擦傷性的觀點出發(fā)，優(yōu)選四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷。
作為防反射層形成材料，可以使用含有通過乙二醇換算的平均分子量為500～10000的硅氧烷低聚物(C)、和通過聚苯乙烯換算的數(shù)平均分子量為5000以上且具有氟代烷基結構以及聚硅氧烷結構的含氟化合物(D)的固化性樹脂組合物。該固化性樹脂組合物可以使用特開2004-167827號公報所述的材料。另外，也可以單獨使用硅氧烷低聚物(C)或具有氟代烷基結構以及聚硅氧烷結構的含氟化合物(D)。
硅氧烷低聚物(C)可以沒有特別限制地使用上述平均分子量的范圍的硅氧烷低聚物。硅氧烷低聚物(C)可以通過使水解性烷氧基硅烷聚合來調(diào)制，也可以直接使用市售的硅氧烷低聚物。硅氧烷低聚物(C)可以通過如下方法得到，即，將水解性烷氧基硅烷加入大量的醇溶劑(例如，甲醇、乙醇等)中，在水和酸催化劑(鹽酸、硝酸等)的存在下，在室溫下使其反應數(shù)小時，使其部分水解后進行縮聚，從而得到硅氧烷低聚物(C)。硅氧烷低聚物(C)的聚合度可以利用水解性烷氧基硅烷和水的添加量來控制。水解性烷氧基硅烷可以使用上述例示的水解性烷氧基硅烷。
具有氟代烷基結構以及聚硅氧烷結構的含氟化合物(D)可以沒有特別限制地使用通過聚苯乙烯換算的數(shù)平均分子量為5000以上的含氟化合物(D)。含氟化合物(D)可以通過如下方法得到，即，例如，將通過溶膠-凝膠反應可以縮聚的具有烷氧基甲硅烷基的全氟代烷基烷氧基硅烷和以通式(I)Si(OR1)4(式中，R1表示碳原子數(shù)為1～5的烷基)所示的四烷氧基硅烷為主要成分的水解性烷氧基硅烷，在醇溶劑(例如，甲醇、乙醇等)中，在有機酸(例如，草酸等)和酯類的存在下，進行加熱使其縮聚，從而得到含氟化合物(D)。在得到的含氟化合物(D)中，引入聚硅氧烷結構。
另外，這些反應成分的比率沒有特別限制，通常情況下，相對于全氟代烷基烷氧基硅烷1摩爾，水解性烷氧基硅烷優(yōu)選為1～100摩爾左右，進而優(yōu)選為2～10摩爾。
作為全氟代烷基烷氧基硅烷，例如可以舉出用通式(II)CF3(CF2)nCH2CH2Si(OR2)3(式中，R2表示碳原子數(shù)為1～5的烷基，n表示0～12的整數(shù))所示的化合物。具體來講，例如可以舉出三氟丙基三甲氧基硅烷、三氟丙基三乙氧基硅烷、十三氟辛基三甲氧基硅烷、十三氟辛基三乙氧基硅烷、十七氟癸基三甲氧基硅烷、十七氟癸基三乙氧基硅烷等。其中，優(yōu)選上述n是2～6的化合物。
作為通式(I)Si(OR1)4(式中，R1表示碳原子數(shù)為1～5的烷基)所示的四烷氧基硅烷，可以舉出四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、四丁氧基硅烷等。其中，優(yōu)選四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷等。另外，在調(diào)制含氟化合物(D)時，通常將上述通式(I)例示的四烷氧基硅烷設定為水解性烷氧基硅烷的80摩爾％以上，其中可以使用通式(I)沒有包括的上述水解性烷氧基硅烷。
優(yōu)選含氟化合物(D)具有羥基及/或環(huán)氧基。含氟化合物(D)的羥基及/或環(huán)氧基與硅氧烷低聚物(C)或含氟化合物(D)的聚硅氧烷結構發(fā)生反應，固化膜的被膜強度增強，可以進一步提高耐擦傷性。羥基及/或環(huán)氧基可以引入氟代烷基結構中，也可以引入聚硅氧烷結構中。通過共聚具有這些官能團的化合物可以引入羥基及/或環(huán)氧基。
本發(fā)明的固化性樹脂組合物中的上述硅氧烷低聚物(C)或含氟化合物(D)的混合比例，可以根據(jù)由該組合物得到的固化膜的用途適當調(diào)制。當硅氧烷低聚物(C)的比例增多時，含氟化合物(D)的比例減少，有可能會導致固化膜的折射率上升，或者防污染性下降。另一方面，當硅氧烷低聚物(C)的比例減少時，有可能會導致固化膜的被膜強度減弱，耐擦傷性下降。從該觀點出發(fā)，在固化性樹脂組合物中，硅氧烷低聚物(C)的比例，相對于硅氧烷低聚物(C)和含氟化合物(D)的總量，以固體成分計，通常優(yōu)選為5～90重量％，更優(yōu)選為30～75重量％。
固化性樹脂組合物中可以配合交聯(lián)性化合物。作為交聯(lián)性化合物，可以舉出三聚氰胺樹脂、二醇類、丙烯酸類樹脂、疊氮化合物類、異氰酸酯類等。其中，從固化性樹脂組合物的保存穩(wěn)定性方面考慮，優(yōu)選羥甲基化三聚氰胺、烷氧基甲基化三聚氰胺或這些的衍生物等三聚氰胺樹脂。交聯(lián)性化合物的使用比例，相對于含氟化合物(D)100重量份，優(yōu)選為70重量份以下。更優(yōu)選為30重量份以下，進一步優(yōu)選為5～30重量份。
固化性樹脂組合物中可以配合酸發(fā)生劑。就酸發(fā)生劑而言，優(yōu)選在固化性樹脂組合物中均勻溶解、且既分解固化性樹脂組合物，又不降低固化膜的透明性的酸發(fā)生劑。作為酸發(fā)生劑，可以舉出對甲苯磺酸、安息香酸等有機酸、或三嗪類化合物等光酸發(fā)生劑等。酸發(fā)生劑的使用比例，相對于含氟化合物(D)100重量份，優(yōu)選為10重量份以下。更優(yōu)選為5重量份以下，進一步優(yōu)選為0.1～5重量份。
在防反射層形成材料中，為了改善膜強度而可以添加無機溶膠。無機溶膠的平均粒徑優(yōu)選為2～50nm，更優(yōu)選為5～30nm。作為無機溶膠，可以舉出二氧化硅、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯、氟化鎂、二氧化鈰等。其中，優(yōu)選二氧化硅溶膠。無機溶膠的添加量為防反射層形成材料的全部固體成分的80重量％以下、優(yōu)選為10～80重量％。
以上對濕式方式使用的防反射層形成材料進行了說明，但也可以采用干式方式形成防反射層。作為上述防反射層形成材料，可以使用氧化鈦、氧化鋯、氧化硅、氟化鎂等。為了更大地體現(xiàn)出防反射功能，優(yōu)選使用氧化鈦層和氧化硅層的層疊體，通過進行適當?shù)墓鈱W設計，可以均勻地降低可見光線的波長區(qū)域(380～780nm)的反射。其中，和硬膜層直接接觸的防反射層的防止層形成材料使用具有硅氧烷成分的化合物。
對防反射層的一般機理進行說明。在光照射到物體時，重復所謂在其界面的反射、在內(nèi)部的吸收、散射的現(xiàn)象，而向物體的背面透過。當在圖像顯示裝置中安裝硬膜薄膜時，作為使圖像的辨識性降低的主要原因之一，可以舉出空氣和硬膜層界面的光的反射。防反射層使其表面反射降低。
作為防反射層，可以舉出在硬膜層表面層疊了已嚴格控制厚度和折射率的光學薄膜(防反射層)而成的層。這是通過相互消除已利用光的干涉效果的入射光和反射光的逆轉(zhuǎn)的相位來體現(xiàn)防反射功能的方法。
在基于光的干涉效果的防反射層的設計中，為了提高其干涉效果，增大防反射層和硬膜層的折射率差。例如，就在基材上層疊2～5層的光學薄膜(嚴格控制上述厚度和折射率的薄膜)的多層防反射層而言，通過只以規(guī)定的厚度形成多層折射率不同的成分，可以在防反射層的光學設計方面增加自由度，可以進一步改善防反射效果，分光反射特性也在可見光區(qū)域變平。因為要求光學薄膜的各層的厚度精度，所以通常采用作為干式方式的真空蒸鍍、濺射、CVD等進行各層的形成。
另外，通過在硬膜層基材上層疊單層的光學薄膜，可以體現(xiàn)出防反射效果。即使在將防反射層作成單層的設計中，為了最大限度地引出防反射功能，有必要增大防反射層和硬膜層的折射率差。當將上述防反射層的膜厚設為d、將折射率設為n、將入射光的波長設為λ時，在防反射層的膜厚和其折射率之間成立nd＝λ/4的關系式。當防反射層的折射率小于基材的折射率時，在上述關系式成立的條件下，反射率達到最小。例如，當防反射層的折射率為1.45時，相對于可見光線中的550nm的波長的入射光，反射率成為最小時的防反射層的膜厚成為95nm。
體現(xiàn)出防反射功能的可見光線的波長區(qū)域為380～780nm，特別是可見度高的波長區(qū)域為450～650nm的范圍，通常進行的是將作為其中心波長的550nm的反射率設計成最小。
當單層設計防反射層時，其厚度精度沒有多層防反射膜的厚度精度那樣嚴格，當相對于設計厚度在±10％的范圍，即設計波長為95nm時，只要在86nm～105nm的范圍內(nèi)，就可以沒有問題地使用。由此，通常在形成單層的防反射層時，可以采用作為濕式方式的噴射涂布、口模式涂布、旋涂、噴涂、凹版涂布、輥涂、棒涂等涂敷法。需要說明的是，在涂敷時，上述防反射層形成材料可以用甲苯、醋酸乙酯、醋酸丁酯、甲基乙基甲酮、甲基異丁基甲酮、異丙醇、乙醇等普通溶劑進行稀釋，也可以不進行稀釋直接進行涂敷。
形成防反射層時的干燥及固化的溫度沒有特別限制，通常為60～150℃、優(yōu)選70～130℃，通常為1～30分鐘，考慮生產(chǎn)性時優(yōu)選進行1～10分鐘左右。另外，在進行干燥及固化后，進一步進行加熱處理，由此可以得到更高硬度的防反射硬膜薄膜。加熱處理的溫度沒有特別限制，通常為40～130℃、優(yōu)選50～100℃，通常為1分鐘～100小時，為了提高耐擦傷性，優(yōu)選進行10小時以上。需要說明的是，溫度、時間并不限制于上述范圍，可以適當進行調(diào)整。可以適當采用利用加熱板、烘箱、帶式爐等的方法進行加熱。
作為用作上述防反射層的形成材料的無機微粒，優(yōu)選使用中空且球狀的氧化硅超微粒子。中空且球狀的氧化硅超微粒子的平均粒徑優(yōu)選為5～300nm左右，該超微粒子是在具有細孔的外殼內(nèi)部形成空洞而成的中空球狀，在該空洞內(nèi)包含有調(diào)制該微粒時的溶劑和/或氣體而成。優(yōu)選用于形成上述空洞的前體物質(zhì)殘存在該空洞內(nèi)而成。上述外殼的厚度優(yōu)選在1～50nm左右的范圍內(nèi)，且在平均粒徑的1/50～1/5左右的范圍內(nèi)。優(yōu)選上述外殼由多個覆蓋層構成。優(yōu)選上述細孔被密閉且上述空洞被上述外殼密封而成。在防反射層中，維持多孔質(zhì)或空洞，可以降低防反射層的折射率，所以可以優(yōu)選使用。
中空且球狀的氧化硅超微粒子的平均粒徑為5～300nm左右。這是因為，當平均粒徑低于5nm時，有球狀微粒中的外殼的體積比例增加、空洞的容積的比例降低的趨勢，另一方面，當平均粒徑超過300nm時，難以得到穩(wěn)定的分散液，另外，含有該超微粒子的防反射層的透明性容易降低。中空且球狀的氧化硅超微粒子的優(yōu)選平均粒徑為10～200nm的范圍。另外，上述平均粒徑可以通過動態(tài)光散射法求出。
中空且球狀的氧化硅超微粒子的制造方法具有例如下述工序(a)～工序(c)。中空且球狀的氧化硅超微粒子作為分散液而獲得。作為這樣的中空且球狀的氧化硅超微粒子的制造方法，例如，可以適當采用特開2000-233611號公報中公開的氧化硅系微粒的制造方法。即， (a)調(diào)制如下所述的核粒子分散液的工序，所述的核粒子分散液是在pH為10以上的堿水溶液、或根據(jù)需要已分散有種粒子的pH為10以上的堿水溶液中同時添加硅酸鹽的水溶液和/或酸性硅酸液、堿溶性的無機化合物水溶液，用SiO2表示氧化硅、用MOX表示氧化硅以外的無機化合物，此時摩爾比(MOX/SiO2)在0.3～1.0的范圍內(nèi)； (b)在所述核粒子分散液中添加氧化硅源而在核粒子上形成第1氧化硅覆蓋層的工序； (c)在上述分散液中添加酸來除去構成上述核粒子的元素的一部分或全部的工序。
上述的中空且球狀的氧化硅超微粒子分散液可以通過與各種基質(zhì)成分混合而作成防反射形成用涂敷液。各種基質(zhì)成分是指可以在硬膜層的表面上形成被膜的成分，可以從適合于和硬膜層的粘附性或硬度、涂敷性等條件的樹脂等中選擇使用。例如，可以舉出一直以來使用的聚酯樹脂、丙烯酸樹脂、聚氨酯樹脂、氯乙烯樹脂、環(huán)氧樹脂、三聚氰胺樹脂、氟樹脂、硅酮樹脂、丁縮醛樹脂、酚醛樹脂、醋酸乙烯酯樹脂、紫外線固化樹脂、電子射線固化樹脂、乳液法樹脂、水溶性樹脂、親水性樹脂、這些樹脂的混合物，進而還可以舉出這些樹脂的共聚物或改性體等有機樹脂。另外，作為上述以單層形成防反射層的材料，可以將例示的溶膠-凝膠系材料等作為基質(zhì)成分使用。
當將有機樹脂用作基質(zhì)成分時，例如，使用適當?shù)挠袡C溶劑，對已利用醇等有機溶劑置換了作為上述中空且球狀的氧化硅超微粒子的分散介質(zhì)的水而成的有機溶劑分散液、進而是根據(jù)需要用公知的偶合劑對上述超微粒子進行處理之后分散于有機溶劑中的有機溶劑分散液和基質(zhì)進行稀釋，可以制成防反射形成用涂敷液。
另一方面，當使用溶膠-凝膠系材料作為基質(zhì)成分時，例如，通過在烷氧基硅烷等金屬醇鹽和醇的混合液中添加水和作為催化劑的酸或堿，得到烷氧基硅烷等部分水解產(chǎn)物，在其中混合上述分散液，根據(jù)需要用有機溶劑進行稀釋，可以制成涂布液。
涂敷液中的、上述氧化硅超微粒子和基質(zhì)成分的重量比例優(yōu)選為氧化硅超微粒子/基質(zhì)＝1/99～9/1的范圍。當上述重量比例超過9/1時，有時防反射層的強度不足而缺乏實用性。另一方面，當上述重量比例低于1/99時，上述氧化硅超微粒子的添加效果有時難以顯現(xiàn)。
在上述硬膜層的表面形成的防反射層的折射率，因氧化硅超微粒子和基質(zhì)成分等的混合比率和使用的基質(zhì)的折射率而不同，但為1.2～1.42的低折射率。另外，本發(fā)明的氧化硅超微粒子自身的折射率為1.2～1.38。
已在硬膜薄膜的硬膜層上設置了防反射層的防反射硬膜薄膜，在鉛筆硬度這一點上優(yōu)選。含有上述超微粒子的硬膜層表面形成微小凹凸不平，這影響到鉛筆的滑動(鉛筆容易掛住，力容易傳遞)。
因為防反射層安裝在圖像顯示裝置的最表面的頻率較高，容易受到來自外部環(huán)境的污染。特別是在身邊容易附著指紋或手垢、汗或理發(fā)材料等污染物，因該附著使表面反射率發(fā)生變化或者附著物發(fā)白浮起，看起來顯示內(nèi)容不清楚等等，與單純的透明板等的情況相比，污染更明顯。在這樣的情況下，為了賦予與上述防附著性、易除去性有關的功能，可以在防反射層上層疊含氟基的硅烷系化合物或含氟基的有機化合物等。
在制作硬膜薄膜、防反射硬膜薄膜時，通過對透明塑料薄膜基材、進而對硬膜層進行各種表面處理，可以改善透明塑料薄膜基材和硬膜層、硬膜層和防反射層的粘接性。作為其表面處理，可以使用低壓等離子體處理、紫外線照射處理、電暈處理、火焰處理、酸或堿處理。另外，作為將三乙酰纖維素用作透明塑料薄膜基材時的表面處理，優(yōu)選堿皂化處理。堿皂化處理優(yōu)選以在將三乙酰纖維素薄膜表面浸漬于堿溶液中之后進行水洗并干燥的循環(huán)進行。作為堿溶液，可以舉出氫氧化鉀溶液、氫氧化鈉溶液，氫氧根離子的規(guī)定濃度優(yōu)選為0.1N～3N，更優(yōu)選為0.5N～2N。堿溶液溫度優(yōu)選在25～90℃的范圍內(nèi)，更優(yōu)選為40～70℃。隨后，進行水洗處理、干燥處理，可以得到已實施表面處理的三乙酰纖維素。
防反射硬膜薄膜通?？梢酝ㄟ^粘合劑或膠粘劑將其透明塑料薄膜基材側貼合在CRT、LCD、PDP、ELD的表面上而使用。
硬膜薄膜、防反射硬膜薄膜通?？梢酝ㄟ^粘合劑或膠粘劑將其透明塑料薄膜基材側貼合在被用于LCD或ELD的光學元件上。當進行貼合時，可以對透明塑料薄膜基材實施上述同樣的表面處理。
作為光學元件，例如可以舉出偏振鏡或偏振片。偏振片通常使用在偏振鏡的一側或兩側具有透明保護薄膜的偏振片。當在偏振鏡的兩面設置透明保護薄膜時，內(nèi)外的透明保護薄膜可以是相同的材料，還可以是不同的材料。偏振片通常被配置在液晶單元的兩側。通常情況下，偏振片是以使兩片偏振片的吸收軸大致相互正交的方式配置的。
對偏振鏡沒有特別限制，可以使用各種偏振鏡。作為偏振鏡，例如可以舉出，在聚乙烯醇系薄膜、部分甲縮醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜上，吸附碘或二色性染料等二色性物質(zhì)后單向拉伸而成的材料；聚乙烯醇的脫水處理物或聚氯乙烯的脫鹽酸處理物等聚烯系取向薄膜等。其中，優(yōu)選由聚乙烯醇系薄膜和碘等二色性物質(zhì)組成的偏振鏡。對這些偏振鏡的厚度沒有特別限制，但是通常為5～80μm左右。
將聚乙烯醇系薄膜用碘染色后經(jīng)單向拉伸而成的偏振鏡，例如，可以通過將聚乙烯醇浸漬于碘的水溶液進行染色后，拉伸至原長度的3～7倍來制作。根據(jù)需要，也可以浸漬于硼酸或碘化鉀等的水溶液中。此外，根據(jù)需要，也可以在染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬于水中進行水洗。通過水洗聚乙烯醇系薄膜，除了可以洗去聚乙烯醇系薄膜表面上的污物或防粘連劑之外，還可通過使聚乙烯醇系薄膜溶脹，防止染色斑等不均勻現(xiàn)象。拉伸既可以在用碘染色之后進行，也可以一邊染色一邊進行拉伸，或者也可以在拉伸之后用碘進行染色。也可以在硼酸或碘化鉀等的水溶液中或水浴中進行拉伸。
所述偏振鏡通常在一面或兩面設置透明保護薄膜而作為偏振片使用。透明保護薄膜優(yōu)選在透明性、機械強度、熱穩(wěn)定性、水分屏蔽性、各向同性等各方面優(yōu)良的材料。作為形成上述透明保護薄膜的材料，例如可以舉出由聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系樹脂；二乙酰纖維素、三乙酰纖維素等纖維素系樹脂；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系樹脂；聚苯乙烯、丙烯腈-苯乙烯共聚物、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物、丙烯腈-乙烯-苯乙烯共聚物、苯乙烯-馬來酰亞胺共聚物、苯乙烯-馬來酸酐共聚物等苯乙烯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂等透明樹脂構成的薄膜。此外，還可以舉出由聚乙烯、具有環(huán)狀或降冰片烯結構的聚烯烴、乙烯-丙烯共聚物等烯烴系樹脂；氯乙烯系樹脂；尼龍或芳香族聚酰胺等酰胺系樹脂等透明樹脂構成的薄膜。此外，還可以舉出由芳香族聚酰亞胺、或聚酰亞胺酰胺等酰亞胺系樹脂；砜系樹脂；聚醚砜系樹脂；聚醚醚酮系樹脂；聚苯硫醚系樹脂；乙烯基醇系樹脂，偏氯乙烯系樹脂；聚乙烯醇縮丁醛系樹脂；丙烯酸酯系樹脂；聚甲醛系樹脂；環(huán)氧系樹脂；或者所述樹脂的混合物等透明樹脂構成的薄膜等。
此外，可以舉出在特開2001-343529號公報(WO01/37007)中記載的聚合物薄膜，例如包含(A)在側鏈具有取代和/或未取代亞氨基的熱塑性樹脂、和(B)在側鏈具有取代和/或未取代苯基和腈基的熱塑性樹脂的樹脂組合物。作為具體實例，可以舉例為含有由異丁烯和N-甲基馬來酰亞胺構成的交替共聚物和丙烯腈-苯乙烯共聚物的樹脂組合物的薄膜。作為薄膜可以使用由樹脂組合物的混合擠出制品等構成的薄膜。這些薄膜的相位差小，光彈性模量小，所以當應用于偏振片等的保護薄膜時，可以消除由變形引起的不均勻等不良情形，另外，透濕度較小，所以加濕耐久性出色。
作為所述透明保護薄膜，從偏振特性或耐久性等觀點來看，可以舉出三乙酰纖維素等纖維素系樹脂、降冰片烯系樹脂等。作為纖維素系樹脂，可以舉出富士膠片(株)制的產(chǎn)品名“フジタツク”，作為降冰片烯系樹脂，可以舉出日本Zeon(株)制的產(chǎn)品名“ZEONOR”、JSR(株)制的產(chǎn)品名“Artone”等。
透明保護薄膜的厚度可以適當確定，但是從強度或處理性等操作性、薄層性等觀點來看，一般約為1～500μm左右。更優(yōu)選為5～200μm。特別優(yōu)選10～150μm。如果在上述范圍內(nèi)，能夠機械地保護偏振鏡，即使暴露在高溫高濕下偏振鏡也不收縮，確保穩(wěn)定的光學特性。
另外，透明保護薄膜最好不要著色。因此，優(yōu)選使用用Rth＝(nx-nz)·d(其中，nx是薄膜平面內(nèi)的滯相軸方向的折射率，nz是薄膜厚度方向的折射率，d是薄膜厚度)表示的薄膜厚度方向的相位差值為-90nm～+75nm的保護薄膜。通過使用該厚度方向的相位差值(Rth)為-90nm～+75nm的保護薄膜，可以大致消除由保護薄膜引起的偏振片的著色(光學著色)。厚度方向相位差值(Rth)進一步優(yōu)選為-80nm～+60nm，特別優(yōu)選-70nm～+45nm。
就上述透明保護薄膜而言，其薄膜面內(nèi)的相位差值和厚度方向的相位差值有時給液晶顯示裝置的視場角特性帶來影響，所以優(yōu)選使用相位差值最佳化的透明保護薄膜。其中，有望最佳化相位差值的透明保護薄膜是指在液晶單元近側的偏振鏡的表面上層疊的透明保護薄膜，而在液晶單元遠側的偏振鏡的表面上層疊的透明保護薄膜由于沒有使液晶顯示裝置的光學特性發(fā)生變化，所以不在此限。
作為在上述液晶單元近側的偏振鏡的表面上層疊的透明保護薄膜的相位差值，優(yōu)選薄膜面內(nèi)的相位差值(Re(nx-ny)·d)為0～5nm。更優(yōu)選為0～3nm。進一步優(yōu)選0～1nm。厚度方向的相位差值(Rth)優(yōu)選為0～15nm。更優(yōu)選為0～12nm。進一步優(yōu)選0～10nm。特別優(yōu)選0～5nm。最優(yōu)選0～3nm。
已層疊硬膜薄膜等的偏振片，可以在硬膜薄膜等上順次層疊透明保護薄膜、偏振鏡、透明保護薄膜，還可以在硬膜薄膜等上順次層疊偏振鏡、透明保護薄膜。
另外，在透明保護薄膜的沒有粘接偏振鏡的面上，還可以實施以硬膜層或防粘連為目的的處理。實施硬膜處理的目的是防止偏振片表面的損壞等，例如可以通過在透明保護薄膜的表面上附加由丙烯酸系、硅酮系等適當?shù)淖贤饩€固化性樹脂構成的硬度或滑動特性等出色的固化被膜的方式等形成。此外，實施防粘連處理的目的是防止與相鄰層的粘附。其中，上述硬膜層、防粘連層等除了可以設置在透明保護薄膜自身上以外，還可以作為其他光學層與透明保護薄膜分開設置。
另外，在偏振片的層間，例如可以插入硬膜層、底涂層、膠粘劑層、粘合劑層、防靜電層、導電層、阻氣層、水蒸氣阻斷層、水分阻斷層等，或者將其層疊到偏振片表面。另外，在作成偏振片的各層的階段，例如可以將導電性粒子或防靜電劑、各種微粒、增塑劑等向各層的形成材料中添加、混合等，由此可以根據(jù)需要進行改進。
對上述透明保護薄膜和偏振鏡的層疊方法沒有特別限制，例如可以通過由丙烯酸系聚合物或乙烯基醇系聚合物構成的膠粘劑、或者至少由硼酸或硼砂、戊二醛或三聚氰胺或草酸等乙烯基醇系聚合物的水溶性交聯(lián)劑構成的膠粘劑等進行。由此，能夠成為難以在濕度或熱的影響下剝離且透光率或偏光度出色的透明保護薄膜。作為所述的膠粘劑，從與作為偏振鏡的原料的聚乙烯醇之間的粘接性出色的觀點來看，優(yōu)選使用聚乙烯醇系膠粘劑。
將含有所述降冰片烯系樹脂的高分子薄膜作為透明保護薄膜，作為與偏振鏡層疊時的粘合劑，優(yōu)選透明性出色、雙折射等小且即使用作薄層也能夠充分發(fā)揮粘合力的粘合劑。作為這樣的粘合劑，例如可以使用混合聚氨酯系樹脂溶液和聚異氰酸酯樹脂溶液的干式層疊用膠粘劑，苯乙烯-丁二烯橡膠系膠粘劑，環(huán)氧系雙組份固化型膠粘劑，例如由環(huán)氧樹脂和聚硫醇雙組份形成的膠粘劑、由環(huán)氧樹脂和聚酰胺雙組份形成的粘合劑等，特別優(yōu)選溶劑型膠粘劑、環(huán)氧系雙組份固化性膠粘劑，優(yōu)選透明的粘合劑。根據(jù)膠粘劑，有可以通過使用適當?shù)恼辰佑玫淄苛咸岣哒辰恿Φ哪z粘劑，當使用這樣的粘接劑時，優(yōu)選使用粘接用底涂料。
作為上述粘接用底涂料，只要是能夠提高粘接性的層，就沒有特別限制，例如可以使用在同一個分子內(nèi)具有氨基、乙烯基、環(huán)氧基、巰基、氯基等反應性官能團和水解性的烷氧基甲硅烷基的硅烷系偶合劑，在同一個分子內(nèi)具有含有鈦的水解性親水性基團和有機官能性基團的鈦酸酯系偶合劑，和在同一個分子內(nèi)具有含有鋁的水解性親水性基團和有機官能性基團的鋁酸酯系偶合劑等所謂偶合劑；環(huán)氧系樹脂，異氰酸酯系樹脂，聚氨酯系樹脂，酯氨基甲酸酯系樹脂等具有有機反應性基團的樹脂。其中，從工業(yè)上容易處理的觀點來看，優(yōu)選含有硅烷系偶合劑的層。
作為光學元件，在實際應用時，可以使用在上述偏振片上層疊了其他光學元件(光學層)的光學薄膜。對該光學層沒有特別限制，但可以使用例如反射板、半透過板、相位差板(包括1/2或1/4等波阻片)、視角補償薄膜等在液晶顯示裝置等的形成中使用的光學層1層或2層以上。特別優(yōu)選的偏振片是在偏振片上進一步層疊反射板或半透過反射板而成的反射型偏振片或半透過型偏振片；在偏振片上進一步層疊相位差板而成的橢圓偏振片或圓偏振片；在偏振片上進一步層疊視角補償薄膜而成的寬視場角偏振片；或者在偏振片上進一步層疊亮度改善薄膜而形成的偏振片。在橢圓偏振片、帶光學補償?shù)钠衿戎?，是向偏振片側附加硬膜薄膜?br> 進而，根據(jù)需要，也可以進行用于賦予耐擦傷性、耐久性、耐氣候性、耐濕熱性、耐熱性、耐濕性、透濕性、防靜電性、導電性、層間的粘附性改善、機械強度的改善等各種特性、功能等的處理，或者功能層的插入、層疊等。
反射型偏振片是在偏振片上設置反射層而成的，可用于形成反射從辨識側(顯示側)入射的入射光來進行顯示的類型的液晶顯示裝置等，并且可以省略背光燈等光源的內(nèi)置，從而具有易于使液晶顯示裝置薄型化等優(yōu)點。形成反射型偏振片時，可以通過根據(jù)需要借助上述透明保護薄膜等在偏振片的一面上附設由金屬等構成的反射層的方式等適當?shù)姆绞竭M行。
作為反射型偏振片的具體例子，可以舉例為通過根據(jù)需要在經(jīng)消光處理的透明保護薄膜的一面上，附設由鋁等反射性金屬構成的箔或蒸鍍膜而形成反射層的偏振片等。
作為代替將反射板直接附設在上述偏振片的透明保護薄膜上的方法，還可以在以該透明薄膜為基準的適當?shù)谋∧ど显O置反射層形成反射片等而后使用。還有，由于反射層通常由金屬組成，所以從防止由于氧化而造成的反射率的下降，進而長期保持初始反射率的觀點或避免另設保護層的觀點等來看，更優(yōu)選用透明保護薄膜或偏振片等覆蓋其反射面的狀態(tài)的使用形式。
還有，在上述中，半透過型偏振片可以通過作成用反射層反射光的同時使光透過的半透半反鏡等半透過型的反射層而獲得。半透過型偏振片通常被設于液晶單元的背面?zhèn)?，可以形成如下類型的液晶顯示裝置等，即，在比較明亮的環(huán)境中使用液晶顯示裝置等的情況下，反射來自于辨識側(顯示側)的入射光而顯示圖像，在比較暗的環(huán)境中，使用在半透過型偏振片的背面內(nèi)置的背光燈等內(nèi)置光源來顯示圖像。即，半透過型偏振片在如下類型的液晶顯示裝置等的形成中十分有用，即，在明亮的環(huán)境下可以節(jié)約使用背光燈等光源的能量，在比較暗的環(huán)境下也可以使用內(nèi)置光源。
對在偏振片上進一步層疊相位差板而構成的橢圓偏振片或圓偏振片進行說明。在將直線偏振光改變?yōu)闄E圓偏振光或圓偏振光、或者將橢圓偏振光或圓偏振光改變?yōu)橹本€偏振光、或者改變直線偏振光的偏振方向的情況下，可以使用相位差板等。特別是，作為將直線偏振光改變?yōu)閳A偏振光、將圓偏振光改變?yōu)橹本€偏振光的相位差板，可以使用所謂的1/4波阻片(也稱為λ/4板)。1/2波阻片(也稱為λ/2板)通常用于改變直線偏振光的偏振方向的情形。
橢圓偏振片可以有效地用于以下情形等，即例如補償(防止)超扭曲向列相(STNSuper Twisted Nematic)型液晶顯示裝置因液晶層的雙折射而產(chǎn)生的著色(藍或黃)，從而進行上述沒有著色的白黑顯示的情形等。另外，控制三維折射率的偏振片還可以補償(防止)從斜向觀察液晶顯示裝置的畫面時產(chǎn)生的著色，因而優(yōu)選。圓偏振片可以有效地用于例如對以彩色顯示圖像的反射型液晶顯示裝置的圖像的色調(diào)進行調(diào)整的情形等，而且還具有防止反射的功能。作為上述相位差板的具體例子，可以舉出對由聚碳酸酯、聚乙烯醇、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯或其它聚烯烴、多芳基化合物(ポリアリレ一ト)、聚酰胺之類的適宜的聚合物構成的薄膜實施拉伸處理而成的雙折射性薄膜或液晶聚合物的取向薄膜、用薄膜支撐液晶聚合物的取向?qū)拥谋∧さ取Ｏ辔徊畎蹇梢允抢绺鞣N波阻片或用于補償由液晶層的雙折射造成的著色或視角等的材料等具有對應于使用目的的適宜的相位差的材料，也可以是層疊2種以上的相位差板而控制了相位差等光學特性的材料等。
另外，上述橢圓偏振片或反射型橢圓偏振片是通過適當?shù)亟M合并層疊偏振片或反射型偏振片和相位差板而成的。這類橢圓偏振片等也可以通過在液晶顯示裝置的制造過程中依次分別層疊(反射型)偏振片及相位差板來形成，以構成(反射型)偏振片及相位差板的組合，而如上所述，預先形成為橢圓偏振片等光學薄膜的構件，由于在質(zhì)量的穩(wěn)定性或?qū)盈B操作性等方面出色，因此具有可以提高液晶顯示裝置等的制造效率的優(yōu)點。
視角補償薄膜是從不垂直于畫面的稍微傾斜的方向觀察液晶顯示畫面的情況下也使圖像看起來比較清晰的、用于擴大視場角的薄膜。作為此種視角補償相位差板，由例如相位差薄膜、液晶聚合物等取向薄膜或在透明基材上支撐了液晶聚合物等取向?qū)拥牟牧系葮嫵伞Ｍǔ５南辔徊畎迨褂迷谄涿娣较蛏蠈嵤﹩蜗蚶斓木哂须p折射的聚合物薄膜，與此相對于，在用作視角補償薄膜的相位差板中，可以使用在面方向上實施雙向拉伸的具有雙折射的聚合物薄膜、或在面方向上實施單向拉伸且在厚度方向上也被拉伸的已控制厚度方向的折射率并具有雙折射的聚合物、或像傾斜取向薄膜那樣的雙向拉伸薄膜等。作為傾斜取向薄膜，例如可以舉出在聚合物薄膜上粘接熱收縮薄膜后在因加熱形成的收縮力的作用下，對聚合物薄膜進行拉伸處理或/和收縮處理的材料、使液晶聚合物傾斜取向的材料等。相位差板的原料聚合物可以使用與在前面的相位差板中說明的聚合物相同的聚合物，可以使用將防止基于液晶單元造成的相位差的辨識角的變化所導致的著色等或擴大辨識度良好的視場角等作為目的的適當?shù)牟牧稀?br> 另外，從實現(xiàn)辨識度良好的寬視場角的觀點等來看，可以優(yōu)選使用用三乙酰纖維素薄膜支撐由液晶聚合物的取向?qū)?、特別是圓盤狀液晶聚合物的傾斜取向?qū)訕嫵傻墓鈱W各向異性層而成的光學補償相位差板。
將偏振片和亮度改善薄膜貼合在一起而成的偏振片通常被設置于液晶單元的背面一側而后使用。亮度改善薄膜是顯示如下特性的薄膜，即，當因液晶顯示裝置等的背光燈或來自背面?zhèn)鹊姆瓷涞榷凶匀还馊肷鋾r，反射規(guī)定偏光軸的直線偏振光或規(guī)定方向的圓偏振光，而使其他光透過。因此將亮度改善薄膜與偏振片層疊而成的偏振片可使來自背光燈等光源的光入射，而獲得規(guī)定偏振光狀態(tài)的透過光，同時，所述規(guī)定偏振光狀態(tài)以外的光不能透過而被予以反射。借助設置于其后側的反射層等使在該亮度改善薄膜面上反射的光再次發(fā)生反轉(zhuǎn)，并使之再次入射到亮度改善薄膜上，使其一部分或全部作為規(guī)定偏振光狀態(tài)的光透過，從而增加透過亮度改善薄膜的光，同時向偏振鏡提供難以吸收的偏振光，從而增大能夠在液晶顯示的圖像顯示等中利用的光量，并由此可以提高亮度。即，在不使用亮度改善薄膜而用背光燈等從液晶單元的背面?zhèn)却┻^偏振鏡而使光入射的情況下，具有與偏振鏡的偏光軸不一致的偏振方向的光基本上被偏振鏡所吸收，因而無法透過偏振鏡。即，雖然會因所使用的偏振鏡的特性而不同，但是大約50％的光會被偏振鏡吸收掉，因此，在液晶圖像顯示等中能夠利用的光量將減少，導致圖像變暗。由于亮度改善薄膜反復進行如下操作，即，使具有能夠被偏振鏡吸收的偏振方向的光不是入射到偏振鏡上，而是使該類光在亮度改善薄膜上發(fā)生反射，進而借助設于其后側的反射層等完成反轉(zhuǎn)，使光再次入射到亮度改善薄膜上，這樣，亮度改善薄膜只使在這兩者間反射并反轉(zhuǎn)的光中的、其偏振方向變?yōu)槟軌蛲ㄟ^偏振鏡的偏振方向的偏振光透過，同時將其提供給偏振鏡，因此可以在液晶顯示裝置的圖像的顯示中有效地使用背光燈等的光，從而可以使畫面明亮。
也能夠在亮度改善薄膜和所述反射層等之間設置漫射板。由亮度改善薄膜反射的偏振光狀態(tài)的光朝向所述反射層等，所設置的漫射板可將通過的光均勻地漫射，同時消除偏振光狀態(tài)而成為非偏振光狀態(tài)。即，漫射板使偏振光恢復到原來的自然光狀態(tài)。反復進行如下過程，即，將該非偏振光狀態(tài)即自然光狀態(tài)的光射向反射層等，借助反射層等反射后，再次通過漫射板而又入射到亮度改善薄膜上。通過在亮度改善薄膜和上述反射層等之間設置使偏振光恢復到原來的自然光狀態(tài)的漫射板，可以在維持顯示畫面的亮度的同時，減少顯示畫面的亮度不均，從而可以提供均勻并且明亮的畫面。通過設置這種漫射板，可適當增加初次入射光的重復反射次數(shù)，并利用漫射板的漫射功能，可以提供均勻明亮的顯示畫面。
作為上述亮度改善薄膜，例如可以使用電介質(zhì)的多層薄膜或折射率各向異性不同的薄膜多層層疊體之類的顯示出使規(guī)定偏光軸的直線偏振光透過而反射其他光的特性的薄膜、膽甾醇型液晶聚合物的取向薄膜或在薄膜基材上支撐了該取向液晶層的薄膜之類的顯示出將左旋或右旋中的任一種圓偏振光反射而使其他光透過的特性的薄膜等適宜的薄膜。
因此，在上述的使規(guī)定偏光軸的直線偏振光透過的類型的亮度改善薄膜中，通過使該透過光直接沿著與偏光軸一致的方向入射到偏振片上，可以在抑制由偏振片造成的吸收損失的同時，使光有效地透過。另一方面，在膽甾醇型液晶層之類的使圓偏振光透過的類型的亮度改善薄膜中，雖然可以直接使光入射到偏振鏡上，但從抑制吸收損失這一點考慮，優(yōu)選借助相位差板對該圓偏振光進行直線偏振光化，之后再入射到偏振片上。而且，通過使用1/4波阻片作為該相位差板，能夠?qū)A偏振光變換為直線偏振光。
關于在可見光區(qū)域等寬波長范圍中能起到1/4波阻片作用的相位差板，例如可以利用以下方式獲得，即，將相對于波長550nm的淺色光能起到1/4波阻片作用的相位差層和顯示其他相位差特性的相位差層例如能起到1/2波阻片作用的相位差層進行重疊的方式等。所以，配置于偏振片和亮度改善薄膜之間的相位差板可以由1層或2層以上的相位差層構成。
還有，就膽甾醇型液晶層而言，也可以組合不同反射波長的材料，構成重疊2層或3層以上的配置構造，由此獲得在可見光區(qū)域等寬波長范圍內(nèi)反射圓偏振光的構件，從而能夠基于此而獲得較寬波長范圍的透過圓偏振光。
另外，偏振片如同所述偏振光分離型偏振片，可以由層疊了偏振片和2層或3層以上的光學層的構件構成。所以，也可以是組合了上述反射型偏振片或半透過型偏振片和相位差板的反射型橢圓偏振片或半透過型橢圓偏振片等。
硬膜薄膜向上述光學元件的層疊、進而各種光學層向偏振片的層疊，也可以通過在液晶顯示裝置等的制造過程中依次獨立層疊的方式來形成，而預先層疊它們而成的構件具有在質(zhì)量的穩(wěn)定性或裝配操作性等方面出色，且提高液晶顯示裝置等的制造工序的優(yōu)點。在層疊中可以使用粘合層等合適的粘接機構。當粘接上述偏振片或其他光學薄膜時，可以根據(jù)目的相位差特性等將它們的光學軸調(diào)整為適宜的配置角度。
在上述的偏振片、或至少層疊有1層的偏振片的光學薄膜等的光學元件的至少一面上，設置有上述硬膜薄膜，但在未設置硬膜薄膜的面上，也可以設置用于和液晶單元等其他構件粘接的粘合層。對形成粘合層的粘合劑沒有特別限定，例如可以適宜地選擇使用以丙烯酸系聚合物、硅酮系聚合物、聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚醚、氟系或橡膠系等的聚合物為基礎聚合物的粘合劑。特別優(yōu)選使用丙烯酸系粘合劑之類的光學透明性優(yōu)良并顯示出適度的潤濕性、凝聚性以及粘接性的粘合特性且耐氣候性或耐熱性等優(yōu)良的粘合劑。
而且，除了上述之外，從防止因吸濕造成的發(fā)泡現(xiàn)象或剝離現(xiàn)象、因熱膨脹差等引起的光學特性的下降或液晶單元的翹曲、進而從高質(zhì)量且耐久性優(yōu)良的液晶顯示裝置的形成性等觀點來看，優(yōu)選吸濕率低且耐熱性優(yōu)良的粘合層。
在上述膠粘劑或粘合劑中可以含有與基礎聚合物相對于應的交聯(lián)劑。另外，粘合層等中可以含有例如天然或合成樹脂類、特別是增粘性樹脂或由玻璃纖維、玻璃珠、金屬粉、其它的無機粉末等構成的填充劑、顏料、著色劑、抗氧化劑等可添加于粘合層中的添加劑。另外也可以是含有微粒并顯示光漫射性的粘合層等。
粘合層向偏振片、光學薄膜等光學元件的附設可以利用適宜的方式進行。作為其例子，例如可以舉出以下方式，即調(diào)制在由甲苯或醋酸乙酯等適宜溶劑的純物質(zhì)或混合物構成的溶劑中溶解或分散基礎聚合物或其組合物而成的約10～40重量％的粘合劑溶液，然后通過流延方式或涂敷方式等適宜的展開方式直接將其附設在光學元件上的方式；或者基于上述而在隔離件上形成粘合層后將其移送并粘貼在光學元件上的方式等。粘合層也能夠作為與各層組成或種類等不同的層的重疊層而設置。粘合層的厚度可以根據(jù)使用目的或粘接力等而適當確定，一般為1～500μm，優(yōu)選5～200μm，特別優(yōu)選10～100μm。
對于粘合層的露出面，在供于使用前為了防止其污染等，可以臨時粘貼隔離件以進行覆蓋。由此能夠防止在通常的操作狀態(tài)下與粘合層接觸的現(xiàn)象。作為隔離件，在滿足上述的厚度條件的基礎上，例如可以使用根據(jù)需要用硅酮系或長鏈烷基系、氟系或硫化鉬等適宜剝離劑對塑料薄膜、橡膠片、紙、布、無紡布、網(wǎng)狀物、發(fā)泡片材或金屬箔、它們的層疊體等適宜的薄片體進行涂敷處理后的材料等以往常用的適宜的隔離件。
還有，在本發(fā)明中，也可以在形成上述的光學元件的偏振鏡、透明保護薄膜、光學層等、或粘合層等各層上，利用例如用水楊酸酯系化合物或苯并苯酚(benzophenol)系化合物、苯并三唑系化合物或氰基丙烯酸酯系化合物、鎳配位化合物系化合物等紫外線吸收劑進行處理的方式等方式，使之具有紫外線吸收能力等。
已設置本發(fā)明的硬膜薄膜的光學元件能夠優(yōu)選用于液晶顯示裝置等各種裝置的形成等。液晶顯示裝置可以根據(jù)以往的方法形成。即，一般來說，液晶顯示裝置可通過適宜地組合液晶單元和光學元件以及根據(jù)需要而加入的照明系統(tǒng)等構成部件并裝入驅(qū)動電路等而形成，在本發(fā)明中，除了使用本發(fā)明的光學元件之外，沒有特別限定，可以依據(jù)以往的方法形成。對于液晶單元而言，也可以使用例如TN型或STN型、π型等任意類型的液晶單元。
能夠形成在液晶單元的一側或兩側配置了上述光學元件的液晶顯示裝置、在照明系統(tǒng)中使用了背光燈或反射板的裝置等適宜的液晶顯示裝置。此時，本發(fā)明的光學元件能夠設置在液晶單元的一側或兩側。當將光學元件設置在兩側時，它們既可以相同，也可以不同。另外，在形成液晶顯示裝置時，可以在適宜的位置上配置1層或2層以上的例如漫射板、防眩層、防反射膜、保護板、棱鏡陣列、透鏡陣列薄片、光漫射板、背光燈等適宜的部件。
接著，對有機電致發(fā)光裝置(有機EL顯示裝置)進行說明。一般地，有機EL顯示裝置是在透明基板上依次層疊透明電極、有機發(fā)光層以及金屬電極而形成發(fā)光體(有機電致發(fā)光體)。在此，有機發(fā)光層是各種有機薄膜的層疊體，已知有例如由三苯基胺衍生物等構成的空穴注入層和由蒽等熒光性有機固體構成的發(fā)光層的層疊體、或此種發(fā)光層和由二萘嵌苯衍生物等構成的電子注入層的層疊體、或者這些空穴注入層、發(fā)光層及電子注入層的層疊體等各種組合。
有機EL顯示裝置根據(jù)如下的原理進行發(fā)光，即，通過在透明電極和金屬電極上施加電壓，向有機發(fā)光層中注入空穴和電子，由這些空穴和電子的復合而產(chǎn)生的能量激發(fā)熒光物質(zhì)，被激發(fā)的熒光物質(zhì)回到基態(tài)時，就會放射出光。中間的復合機制與一般的二極管相同，由此也可以推測出，電流和發(fā)光強度相對于外加電壓顯示出伴隨整流性的較強的非線性。
在有機EL顯示裝置中，為了取出有機發(fā)光層中產(chǎn)生的光，至少一方的電極必須是透明的，通常將由氧化銦錫(ITO)等透明導電體制成的透明電極作為陽極使用。另一方面，為了容易進行電子注入而提高發(fā)光效率，在陰極上使用功函數(shù)較小的物質(zhì)是十分重要的，通常使用Mg-Ag、Al-Li等金屬電極。
在具有這種構成的有機EL顯示裝置中，有機發(fā)光層由厚度為10nm左右的極薄的膜構成。因此，有機發(fā)光層也與透明電極一樣，使光幾乎完全透過。其結果是，在不發(fā)光時從透明基板表面入射并透過透明電極和有機發(fā)光層而在金屬電極反射的光會再次向透明基板的表面?zhèn)壬涑?，因此，當從外部進行辨識時，有機EL顯示裝置的顯示面如同鏡面。
在包含如下所述的有機電致發(fā)光體的有機EL顯示裝置中，可以在透明電極的表面?zhèn)仍O置偏振片，同時在這些透明電極和偏振片之間設置相位差板，上述有機電致發(fā)光體是在通過施加電壓而進行發(fā)光的有機發(fā)光層的表面?zhèn)仍O有透明電極，同時在有機發(fā)光層的背面?zhèn)仍O有金屬電極而形成。
由于相位差板及偏振片具有使從外部入射并在金屬電極反射的光成為偏振光的作用，因此，通過該偏振光作用具有無法從外部辨識出金屬電極的鏡面的效果。特別是，當采用1/4波阻片構成相位差板并且將偏振片和相位差板的偏振方向的夾角調(diào)整為π/4時，能夠完全遮蔽金屬電極的鏡面。
即，入射至該有機EL顯示裝置的外部光因偏振片的存在而只有直線偏振光成分透過。該直線偏振光一般會被相位差板轉(zhuǎn)換成橢圓偏振光，而當相位差板為1/4波阻片并且偏振片和相位差板的偏振方向的夾角為π/4時，成為圓偏振光。
該圓偏振光透過透明基板、透明電極、有機薄膜，在金屬電極上反射，之后再次透過有機薄膜、透明電極、透明基板，由相位差板再次轉(zhuǎn)換成直線偏振光。然后，因為該直線偏振光與偏振片的偏振方向垂直，所以無法透過偏振片。其結果可以完全遮蔽金屬電極的鏡面。
實施例 下面，對本發(fā)明的實施例進行說明。另外，各例中，“份”和“％”只要沒有特別記載都是指重量基準。
實施例1 (透明塑料薄膜基材) 使用厚80μm的三乙酰纖維素薄膜(折射率1.48)。
(反應性硅酮(B)) 使用依次以摩爾比計、以100∶20∶5的共聚比例具有二甲基硅氧烷單元/甲基，3-丙烯酰基-2-羥基丙氧基丙基硅氧烷單元/甲基，2-丙烯酰基-3-羥基丙氧基丙基硅氧烷單元的化合物(大日本油墨化學工業(yè)社制，PC-4131)。將其作為反應性硅酮(B1)。反應性硅酮(B1)相當于具有通式(1)、(2)、(3)的單元的化合物。反應性硅酮(B1)的重均分子量為1000-20000。在測定重均分子量時，GPC的測定條件設定為 測定儀器東ソ一公司制HLC-8120GPC 柱東ソ一公司制，G4000HXL+G2000HXL+G1000HXL(各7.8mm×30cm，計90cm) 柱溫40℃ 洗提液四氫呋喃 流速0.8ml/分鐘 入口壓力6.6MPa 標準試樣聚苯乙烯 (硬膜層形成材料) 使用六丙烯酸二季戊四醇酯100份、丁二醇二甘油醚二丙烯酸酯9.3份作為固化性化合物(A1)。通過醋酸丁酯對下述組成的物質(zhì)進行稀釋使其固體成分濃度為65％，來調(diào)制硬膜形成材料(溶液)，其中，被稀釋的物質(zhì)有該固化性化合物(A1)、反應性硅酮(B1)0.5份、聚合引發(fā)劑(CibaSpecialty chemicals社制，イルガキユア184)4.5份。將其設定為硬膜層形成材料。
(硬膜薄膜的制作) 在上述透明塑料薄膜基材表面上，使用棒涂機涂敷上述硬膜層形成材料，通過在100℃下加熱1分鐘，使涂膜干燥，隨后，用金屬鹵化物燈照射累積光量為300mJ/cm2的紫外線，進行固化處理，得到形成有厚7μm的硬膜層的硬膜薄膜。硬膜層的折射率為1.51。
(防反射層形成材料) 硅氧烷低聚物(C)使用コルコ一トN103(コルコ一ト社制，固體成分2％)。是平均分子量為950的二甲基硅氧烷低聚物。含氟化合物(D)使用オプスタ一JTA105(JSR社制，固體成分5％)。含氟化合物(D)的通過聚苯乙烯換算的數(shù)均分子量為8000。另外，固化劑使用JTA105A(JSR社制，固體成分5％)。將100份オプスタ一JTA105、1份JTA105A、590份コルコ一トN103及151.5份醋酸丁酯混合，調(diào)制防反射層形成材料。
(防反射層的形成) 在硬膜層上，使用棒涂機涂敷上述防反射層的形成材料，以使其固化后的厚度為100nm，通過在120℃下加熱3分鐘，進行干燥、固化處理，形成防反射層(厚度0.1μm，折射率1.43)，得到防反射硬膜薄膜。
實施例2 在實施例1中，將硬膜層的厚度變更成20μm，除此之外，采用與實施例1相同的方法，得到防反射硬膜薄膜。
實施例3 (硬膜層形成材料) 使用由含有三聚異氰酸丙烯酸酯、三丙烯酸季戊四醇酯、六丙烯酸二季戊四醇酯、異佛爾酮二異氰酸酯聚氨酯的組成構成的紫外線固化性樹脂(大日本油墨化學工業(yè)社制，ユニデイツク17-806)作為固化性化合物(A2)。通過醋酸丁酯對下述組成的物質(zhì)進行稀釋使其固體成分濃度為40％，來調(diào)制硬膜形成材料(溶液)，其中，被稀釋的物質(zhì)有該固化性化合物(A2)100份、實施例1所述的反應性硅酮(B1)0.5份、聚合引發(fā)劑(Ciba Specialtychemicals社制，イルガキユア184)4.5份。
在實施例1中，使用上述記載的硬膜層形成材料，除此以外，采用與實施例1相同的方法，得到防反射硬膜薄膜。
實施例4 (反應性硅酮(B)) 使用依次以摩爾比計、以286∶45∶100∶45的比例具有二甲基硅氧烷單元/甲基，羥基丙基硅氧烷單元/6-異氰酸酯己基三聚異氰酸/具有末端丙烯酸酯基的脂肪族聚酯的化合物(大日本油墨化學工業(yè)社制，PC-4133)。將其設定為反應性硅酮(B2)。反應性硅酮(B2)相當于具有通式(7)、(8)、(9)、(10)的單元的化合物。反應性硅酮(B2)的重均分子量的測定條件與上述反應性硅酮(B1)的重均分子量的測定條件相同。
在實施例3中，在調(diào)制硬膜層形成材料時，除了將反應性硅酮(B1)變更成反應性硅酮(B2)以外，采用與實施例3相同的方法，得到防反射硬膜薄膜。
實施例5 使用依次以摩爾比計、以100∶8∶6的比例具有二甲基硅氧烷單元/甲基，末端丙烯酸酯基的聚乙二醇丙基醚硅氧烷/甲基，末端羥基的聚乙二醇丙基醚硅氧烷的共聚物(大日本油墨化學工業(yè)社制，PC-4151)。將其設定為反應性硅酮(B3)。反應性硅酮(B3)相當于具有通式(1)、(4)、(5)的單元的化合物。反應性硅酮(B3)的重均分子量為4320。反應性硅酮(B3)的重均分子量的測定條件與上述反應性硅酮(B1)的重均分子量的測定條件相同。
在實施例3中，在調(diào)制硬膜層形成材料時，除了將反應性硅酮(B1)變更成反應性硅酮(B3)以外，采用與實施例3相同的方法，得到防反射硬膜薄膜。
實施例6 在實施例5中，在調(diào)制硬膜層形成材料時，將反應性硅酮(B3)的添加量變更成0.01份，除此以外，采用與實施例5相同的方法，得到防反射硬膜薄膜。
實施例7 在實施例5中，在調(diào)制硬膜層形成材料時，將反應性硅酮(B3)的添加量變更成2份，除此以外，采用與實施例5相同的方法，得到防反射硬膜薄膜。
實施例8 在實施例5中，將硬膜層的厚度變更成20μm，除此以外，采用與實施例5相同的方法，得到防反射硬膜薄膜。
實施例9 在實施例1中，對于得到的防反射硬膜薄膜，進一步在90℃進行加熱處理10小時。
實施例10 在實施例2中，對于得到的防反射硬膜薄膜，進一步在90℃進行加熱處理10小時。
實施例11 (防反射層形成材料) 硅氧烷低聚物(C)使用コルコ一トN103(コルコ一ト社制，固體成分2重量％)。是平均分子量為950的二甲基硅氧烷低聚物。含氟化合物(D)使用オプスタ一JTA105(JSR社制，固體成分5重量％)。含氟化合物(D)的通過聚苯乙烯換算的數(shù)平均分子量為8000。另外，固化劑使用JTA105A(JSR社制，固體成分5重量％)。在異丙醇/醋酸丁酯/甲基異丁基甲酮(54/14/32(重量比))的混合溶劑中，分散23份オプスタ一JTA105、0.2份JTA105A、54份コルコ一トN103、23份用具有丙烯?；墓柰榕己蟿┻M行表面處理而疏水化的直徑為60nm的中空且球狀的氧化硅超微粒子，將固體成分濃度調(diào)整至2.0％，得到防反射層的形成材料。
在實施例10中，使用上述記載的防反射層形成材料，除此以外，采用與實施例10相同的方法，得到防反射硬膜薄膜。需要說明的是，形成的防反射層的折射率為1.39。
實施例12 在實施例5中，對于得到的防反射硬膜薄膜，進一步在90℃進行加熱處理10小時。
實施例13 在實施例8中，對于得到的防反射硬膜薄膜，進一步在90℃進行加熱處理10小時。
實施例14 在實施例5中，在調(diào)制硬膜層形成材料時，將反應性硅酮(B3)的添加量變更成3份，除此以外，采用與實施例5相同的方法，得到防反射硬膜薄膜。
實施例15 在實施例8中，在調(diào)制硬膜層形成材料時，加入平均粒徑3μm的交聯(lián)丙烯酸粒子(MX300，綜研化學(株)制)60份，除此以外，采用與實施例8相同的方法，得到防反射硬膜薄膜。防反射硬膜薄膜具有防眩性。
比較例1 在實施例1中，在調(diào)制硬膜層形成材料時，除了不配合反應性硅酮(B1)以外，采用與實施例1相同的方法，得到防反射硬膜薄膜。
比較例2 在實施例3中，在調(diào)制硬膜層形成材料時，除了不配合反應性硅酮(B1)以外，采用與實施例3相同的方法，得到防反射硬膜薄膜。
比較例3 在實施例5中，在調(diào)制硬膜層形成材料時，將反應性硅酮(B3)的添加量變更成4份，除此以外，采用與實施例5相同的方法，得到防反射硬膜薄膜。
比較例4 在實施例3中，在調(diào)制硬膜層形成材料時，使用沒有(甲基)丙烯酸酯基的非反應性硅酮(二甲基硅氧烷B4)代替反應性硅酮(B1)，除此以外，采用與實施例3相同的方法，得到防反射硬膜薄膜。
比較例5 在比較例1中，對于得到的防反射硬膜薄膜，進一步在90℃進行加熱處理10小時。
比較例6 在比較例2中，對于得到的防反射硬膜薄膜，進一步在90℃進行加熱處理10小時。
在上述制作的防反射硬膜薄膜中的折射率、厚度利用下述方法測量。將其值示于表1。另外，將硬膜層形成材料、防反射層形成材料的各構成成分等示于表1。
(折射率) 使用アタゴ社制的阿貝折射計，使測量光相對于透明塑料薄膜基材和硬膜層的測量面入射，通過該裝置中顯示的規(guī)定的測量方法進行測量。
(硬膜層的厚度) 使用(株)ミツトヨ制的測微尺式厚度計進行測量。對在透明塑料薄膜基材上設置了硬膜層的硬膜薄膜的厚度進行測量，通過減去基材的厚度計算出硬膜層的膜厚。
(防反射層的厚度) 使用大塚電子(株)制的作為瞬間多側光系統(tǒng)的MCPD2000(商品名)，通過干涉光譜的波形算出。
另外，對得到的防反射硬膜薄膜進行下述評價。結果示于表1。
(反射率) 就使用厚約20μm的粘合劑在防反射硬膜薄膜的未形成防反射層的面上貼合三菱Rayon制黑色丙烯酸板(厚2.0mm)并使背面的反射消失的膜，測量硬膜層(或防反射層)表面的反射率。反射率使用(株)島津制作所制的UV2400PC(帶有8°傾斜積分球)分光光度計，測量分光反射率(鏡面反射率+漫射反射率)，通過計算求出C光源/2°視野的全反射率(Y值)。
(粘附性) 使用厚約20μm的粘合劑將防反射硬膜薄膜的未形成防反射層的面貼合在玻璃板上，然后，關于防反射層表面，按照JIS K5400所述的方格剝離試驗實施試驗。其結果用剝離數(shù)量/100來表示。
(鉛筆硬度) 在玻璃板上載置防反射硬膜薄膜的未形成防反射層的面，然后，關于防反射層表面，按照JIS K-5400所述的鉛筆硬度試驗(其中，負荷500g)實施試驗。
(耐擦傷性) 將防反射硬膜薄膜切斷成寬25mm、長100mm的大小，將未形成防反射層的面載置在玻璃板上。在直徑25mm的圓柱的平滑的截面上，在鋼絲棉#0000上加重400g，并以每秒約100mm的速度在防反射層表面往復10次。試驗后用以下標準進行目測評價。
◎完全沒有裂紋。
○有幾根細微的裂紋，但不影響辨識性。
△有細微的裂紋，但不影響辨識性。
×有明顯的裂紋，影響辨識性。
[表1]
權利要求
1.一種防反射硬膜薄膜，其是在透明塑料薄膜基材的至少一面依次分別形成有至少一層作為固化涂膜層的硬膜層、防反射層的防反射硬膜薄膜，其特征在于，
在形成硬膜層和防反射層直接接觸的界面的層中，硬膜層形成材料含有具有(甲基)丙烯酸酯基的固化性化合物(A)、相對于固化性化合物(A)100重量份為0.01～3重量份的具有(甲基)丙烯酸酯基的反應性硅酮(B)，
而且所述防反射層形成材料含有具有硅氧烷成分的化合物。
2.根據(jù)權利要求1所述的防反射硬膜薄膜，其特征在于，
反應性硅酮(B)在一分子中具有具有硅氧烷結構的硅酮部分、且具有(甲基)丙烯酸酯基。
3.根據(jù)權利要求2所述的防反射硬膜薄膜，其特征在于，
硅氧烷結構具有具有-(Si(R1)(R2)-O)-重復單元的聚硅氧烷單元(所述R1、R2是碳原子數(shù)為1～6的烷基或苯基)。
4.根據(jù)權利要求3所述的防反射硬膜薄膜，其特征在于，
聚硅氧烷單元是通式(1)
[化1]
所示的二甲基硅氧烷單元。
5.根據(jù)權利要求1所述的防反射硬膜薄膜，其特征在于，
反應性硅酮(B)具有活性氫基。
6.根據(jù)權利要求5所述的防反射硬膜薄膜，其特征在于，
活性氫基為羥基。
7.根據(jù)權利要求6所述的防反射硬膜薄膜，其特征在于，
反應性硅酮(B)具有通式(2)
[化2]
所示的甲基，3-丙烯?；?2-羥基丙基硅氧烷單元及/或通式(3)
[化3]
所示的甲基，2-丙烯?；?3-羥基丙基硅氧烷單元。
8.根據(jù)權利要求6所述的防反射硬膜薄膜，其特征在于，
反應性硅酮(B)具有通式(4)
[化4]
所示的甲基，末端丙烯酸酯基的聚乙二醇丙基醚單元(x為1～10的整數(shù))及通式(5)
[化5]
所示的甲基，末端羥基的聚乙二醇丙基醚單元(x為1～10的整數(shù))。
9.根據(jù)權利要求6所述的防反射硬膜薄膜，其特征在于，
反應性硅酮(B)為通式(6)
[化6]
所示的(至少一個R具有選自具有硅氧烷結構的取代基、具有(甲基)丙烯酸酯基的取代基及具有活性氫基的取代基中的至少一個取代基)化合物的混合物(在該混合物中，R包括具有硅氧烷結構的取代基、具有(甲基)丙烯酸酯基的取代基及具有活性氫基的取代基)。
10.根據(jù)權利要求9所述的防反射硬膜薄膜，其特征在于，
所述通式(6)所示的化合物具有通式(7)
[化7]
所示的結構。
11.根據(jù)權利要求9所述的防反射硬膜薄膜，其特征在于，
在通式(6)所示的化合物中的R中，具有硅氧烷結構的取代基具有通式(8)
[化8]
所示的單元(x1為1～7)。
12.根據(jù)權利要求9所述的防反射硬膜薄膜，其特征在于，
在通式(6)所示的化合物中的R中，具有活性氫基的取代基具有通式(9)
[化9]
所示的單元。
13.根據(jù)權利要求9所述的防反射硬膜薄膜，其特征在于，
在通式(6)所示的化合物中的R中，具有丙烯酸酯基的取代基具有通式(10)
[化10]
所示的單元(m、n可以相同也可以不同，為1～10的整數(shù)，1為1～5)。
14.根據(jù)權利要求1所述的防反射硬膜薄膜，其特征在于，
硬膜層的厚度為2～50μm。
15.根據(jù)權利要求1所述的防反射硬膜薄膜，其特征在于，
防反射層形成材料含有通過乙二醇換算的平均分子量為500～10000的硅氧烷低聚物(C)；及通過聚苯乙烯換算的數(shù)平均分子量為5000以上、具有氟代烷基結構及聚硅氧烷結構的含氟化合物(D)。
16.根據(jù)權利要求1所述的防反射硬膜薄膜，其特征在于，
在防反射層中含有中空且球狀的氧化硅超微粒子。
17.根據(jù)權利要求1所述的防反射硬膜薄膜，其特征在于，
硬膜層的表面形成為凹凸形狀，具有光防眩性。
18.一種光學元件，其特征在于，
在光學元件的一面或兩面層疊有權利要求1～17中任一項所述的防反射硬膜薄膜。
19.一種圖像顯示裝置，其具有權利要求1～17中任一項所述的防反射硬膜薄膜。
20.一種圖像顯示裝置，其具有權利要求18所述的光學元件。
全文摘要
本發(fā)明提供一種防反射硬膜薄膜，其是在透明塑料薄膜基材的至少一個面依次分別形成至少一層作為固化涂膜層的硬膜層、防反射層的防反射硬膜薄膜，在形成硬膜層和防反射層直接接觸的界面的層中，硬膜層形成材料含有具有(甲基)丙烯酸酯基的固化性化合物(A)、相對于固化性化合物(A)100重量份為0.01～3重量份的具有(甲基)丙烯酸酯基的反應性硅酮(B)，而且所述防反射層形成材料含有具有硅氧烷成分的化合物。這種防反射硬膜薄膜中的硬膜層與防反射層的粘附性良好，具有高硬度且不影響防反射特性的良好、且具有耐擦傷性。
文檔編號G02B1/10GK101111784SQ20068000367
公開日2008年1月23日 申請日期2006年1月13日 優(yōu)先權日2005年2月1日
發(fā)明者高田勝則, 重松崇之 申請人:日東電工株式會社